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發(fā)布時間: 2016 - 03 - 14
2設備構成及詳細技術說明2.1工藝說明 2.2.臺面結構圖如下      3.設備說明3.1 排風系統(tǒng)?●排風裝置(排風壓力、風量根據(jù)實際情況或客戶要求設計)將設備內(nèi)揮發(fā)的有毒氣體抽到車間排風管道或戶外(室外排放遵守國家環(huán)保要求),避免擴散到室內(nèi);?●排風通道內(nèi)設有風量導流板,從而使排風效果達到最佳;?●本體頂部后方自帶強力抽風1個風道口裝置(每個藥劑槽對應一個),排風口直徑大于或等于 200mm 與本體焊成一體;?●排風口處設有手動調節(jié)風門,操作人員可根據(jù)情況及時調節(jié)排風量;3.2設備防護門:?●本體前方安裝有防護隔離門,隔離門采用透明PVC板制成,前門可以輕松開合,在清洗過程中,隔離門關閉,以盡量改善工作環(huán)境并減小對人體的傷害. ?●形式:上下推拉門。3.3 給排水/廢液系統(tǒng)?●給水管路為一路去離子水;?●給排水排廢接頭均為活性連接;?●排放方式均采用氣動控制的方式來保證安全3.4 電氣控制系統(tǒng)?●采用優(yōu)質PLC可編程控制器控制全操作過程, ?●人機界面為觸摸屏,接口中有手動操作、故障報警、安全保護等功能,各工作位過程完成提前提示報警,觸摸屏選用優(yōu)質產(chǎn)品;?●觸摸屏加鎖定,以防非授權人員修改或設定參數(shù);?●所有電控部分需獨立封閉,帶抽風系統(tǒng),獨立的配電柜?●設備照明:設備其它部位--低電壓燈,根據(jù)工作需要可控照明;?●設備整體采取人性化設計,方便操作;并裝有漏電保護和聲光報警提示裝置,保證性能安全可靠;電控部分導線采用耐高溫、耐腐蝕的專用導線,電氣控制部分內(nèi)部還通有壓縮空氣保護,可防水耐腐蝕;?●設備所有處于腐蝕腔中的線纜均通過PE管進行保護,免受腐蝕;?●設備具有良好的接地裝置;
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 14
設備概況:(僅做參考)主要功能:本設備主要手動搬運方式,通過對硅片腐蝕、漂洗、等方式進行處理,從而達到一個用戶要求的效果。設備名稱:KOH  Etch刻蝕清洗機           設備型號:CSE-SC-NZD254整機尺寸(參考):自動設備約2500mm(L)×1800mm(W)×2400mm(H);被清洗硅片尺寸: 2--6寸(25片/籃)設備形式:室內(nèi)放置型;操作形式:手動各槽位主要技術工藝:設備組成:該設備主要由清洗部分、抽風系統(tǒng)及電控部分組成設備走向:方案圖按 “左進右出”方式,另可按要求設計“右進左出”方式;設備描述:此裝置是一個全自動的處理設備。8.0英寸大型觸摸屏(PROFACE/OMRON)顯示 / 檢測 / 操作每個槽前上方對應操作按鈕,與觸摸屏互相配合主體材料:德國進口10mmPP板,優(yōu)質不銹鋼骨架,外包3mmPP板防腐;臺面板為德國10mm PP板;DIW管路及構件采用日本進口clean-PVC管材,需滿足18M去離子水水質要求,酸堿管路材質為進口PFA/PVDF;采用國際標準生產(chǎn)加工,焊接組裝均在萬級凈化間內(nèi)完成;排風:位于機臺后上部工作照明:上方防酸照明三菱、歐姆龍 PLC控制。安全考慮:設有EMO(急停裝置), 強電弱點隔離所有電磁閥均高于工作槽體工作液面電控箱正壓裝置(CDA Purge)設備三層防漏  樓盤傾斜   漏液報警  設備整體置于防漏托盤內(nèi)排放管路加過濾裝置所有槽體折彎成型,可有效避免死角顆粒;更多化學品相關濕法腐蝕相關設備(KOH腐蝕刻蝕機、RCA清洗機、去膠機、外延片清洗機、酸堿腐蝕機、顯影機等)以及干燥設備(馬蘭戈尼干燥機Marangoni、單腔...
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3月21日,華林科納半導體與臺灣弘塑科技簽訂戰(zhàn)略合作協(xié)議。華林科納、弘塑科技、三菱電機、香港應用科技研究院、文治資本、上海交通大學微電子學院均派出代表出席并見證了簽約儀式。根據(jù)協(xié)議,雙方將本著“強強聯(lián)合、優(yōu)勢互補、合作共贏”的原則,積極推進在半導體濕制程領域的設備研發(fā)、制造、售后服務支持等方面合作,促進共同發(fā)展?!?#160;簽約儀式在簽約儀式中,雙方進行了友好交流。華林科納半導體作為國內(nèi)濕制程設備領域的優(yōu)質供應商,業(yè)務范圍涵蓋了濕法清洗、刻蝕系統(tǒng)、CDS系統(tǒng)、尾氣處理系統(tǒng)的四大系列數(shù)十種型號的產(chǎn)品,廣泛應用于大規(guī)模集成電路、電力電子器件、分立器件、光電子器件、MEMS等領域。弘塑科技股份有限公司作為臺灣半導體設備制造的領先品牌,此次與華林科納半導體簽約是雙方友好合作的起點,要借此契機從長遠性和戰(zhàn)略性的高度,深化合作領域,加大8寸及12寸單片旋轉清洗設備、電鍍設備等高端設備的新產(chǎn)品研發(fā)、生產(chǎn)與銷售。通過緊密和高效的合作,釋放1+12的增值效益,攜手探尋半導體設備領域的新發(fā)展。↑ 弘塑代表發(fā)言↑ 簽約儀式現(xiàn)場
發(fā)布時間: 2019 - 04 - 18
瀏覽次數(shù):214
新南威爾士大學(The University of New South Wales),澳大利亞一所世界頂尖級研究學府,簡稱UNSW,創(chuàng)立于1949年,其主校區(qū)位于新州首府悉尼。新南威爾士大學素有“南半球的麻省理工”之稱,其工程學院是澳大利亞規(guī)模最大的工程學院。據(jù)澳大利亞公布的最及影響力的百強工程師名單中,近四分之一畢業(yè)于新南威爾士大學。
發(fā)布時間: 2019 - 04 - 09
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掃碼添加微信,獲取更多半導體相關資料摘要      在印刷和蝕刻生產(chǎn)厚金屬膜中的精密圖案時,需要對化學蝕刻劑有基本的了解,以實現(xiàn)工藝優(yōu)化和工藝控制。為了蝕刻純鋁電路,研究了正磷酸、多磷酸和氯化鐵的配方。 研究的目的是確定蝕刻速率和圖案定義對正磷酸濃度從50%到 95%(v/v)s多磷酸濃度從50%到5%的變化的敏感性(v/v),氯化鐵(III)濃度為10-40g/L,溶解鋁濃度為0.0-5.0g/L。 得出的結論是,正磷酸、多磷酸、氯化鐵蝕刻劑系統(tǒng)允許蝕刻 劑制備和電路處理的合理變化,而不會顯著影響蝕刻的純鋁電 路的線寬減小和邊緣質量。      在所研究的范圍內(nèi),在正磷酸濃度為75%至95%和氯化鐵濃度 為10g/LB寸,可獲得最佳的圖案清晰度和線寬減小。為了保持這種最佳狀態(tài),需要溫度控制和對蝕刻產(chǎn)物積累的密切監(jiān)控,建立了原子吸收分光光度法測定溶解鋁濃度的方法。      未來的工作將包括評估溴化鐵、硫酸化鐵和過渡金屬氧化物鹽,如鎳、鈷、錳、釕和鋨,作為氧化鐵的可能代替品。其他研究將集中在蝕刻反應的分析特征上。 介紹      在印刷電路工業(yè)中,化學蝕刻長期以來一直是在金屬膜中產(chǎn)生精確圖案的公認方法。蝕刻結合目前的光刻技術,提供了亞微米線分辨率。盡管隨...
發(fā)布時間: 2021 - 10 - 22
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清明節(jié)將至,公司舉辦了節(jié)前最后一期專業(yè)技術培訓會系列學習活動,我們邀請了華林科納配件合作伙伴劉禮達、尹衛(wèi)衛(wèi)先生,為公司同事們?nèi)娼榻B了設備配件與耗材相關要點,包括PTFE、PFA等材料特性以及閥門配件的選型。參加培訓的同事們積極討論,表示為了能夠全面的熟悉設備的每一個環(huán)節(jié),以后還應該系統(tǒng)的學習專業(yè)知識,做好筆記,把握細節(jié)品質。今年是華林科納樹立產(chǎn)品標桿形象的一年,節(jié)后還將會有更多的業(yè)內(nèi)專家走進華林科納,展開相關領域的培訓與分享。
發(fā)布時間: 2019 - 04 - 09
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SEMICON 展會剛剛結束,華林科納的同仁們并沒有就此可以放松下來。我們邀請了超聲設備專家江捍忠先生,為第二期部門同事們提供了全新的超聲波技術課程。課程涵蓋了4個版塊:超聲波清洗定義及分類、超聲波空化作用、發(fā)生器技術、兆聲波清洗的原理。版塊一:超聲波清洗定義及分類在該版塊中,超聲設備專家江捍忠先生首先分享了工藝流程選擇,指出在不同的工藝流程中采用多道超聲波清洗,對高品位的磁性材料較為合適,能很好地保證后續(xù)的電鍍質量。當然,加工企業(yè)應根據(jù)具體磁性材料和自己的操作條件來選擇不同的清洗工藝流程。他提到聲波是疏密波,在稀疏區(qū)域實際壓強小于原來的靜壓強,在稠密區(qū)域實際壓強大于原來的靜壓強,聲壓的周期性變化可以控制電流的周期性變化。版塊二:超聲波空化作用清洗效果是隨著超聲波功率密度增加而提高的。但過高的功率密度會由于空化作用過份強烈而引起被清洗件表面的浸蝕(即所謂空化腐蝕),從而使被清洗件表面受到損傷。這種現(xiàn)象尤其對工件上的各種鍍層以及鋁合金件更為突出。版塊三:發(fā)生器技術超聲波清洗設備主要由超聲波發(fā)生器及清洗槽兩大部分組成。在被清洗件批量較大的情況下,還附有清洗液循環(huán)裝置;有時為了實現(xiàn)清洗過程自動化,還附有被清洗件傳送裝置。一般情況下,超聲波發(fā)生器和清洗槽是兩個結構上互相獨立的裝置,它們之間僅用一根電纜線連接起來,以傳送電功率。但也有的超聲波清洗設備是將發(fā)生器與清洗槽組合為一體的。版塊四:兆...
發(fā)布時間: 2019 - 04 - 01
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3月22日,為期3天的SEMICON China 2019上海電子展正式落下帷幕,展會最后一天,展臺內(nèi)依舊人頭攢動,熱鬧非凡。眾多客商對華林科納的濕制程設備、閥門器件表示出濃厚的興趣,紛紛駐足觀看,交流研究。作為濕制程設備專業(yè)制造商,在展會期間,華林科納吸引了一波又一波的商客前來參觀,現(xiàn)場高漲的人氣無不在彰顯著華林科納的品牌實力。3月21日,華林科納在SEMICON China 2019 展會結束之后,在上海世紀皇冠假日酒店舉辦半導體制造企業(yè)沙龍,來自政府、行業(yè)協(xié)會、業(yè)內(nèi)專家、企業(yè)代表、媒體代表近百位嘉賓參加本次會議。本次企業(yè)沙龍致力于推動半導體濕制程工藝領域的信息交流與合作,整合創(chuàng)新資源,探索行業(yè)管理和科技服務的新模式,進一步促進產(chǎn)業(yè)發(fā)展與技術進步?,F(xiàn)場氣氛非常融洽。在會議現(xiàn)場,華林科納與弘塑科技達成戰(zhàn)略合作,雙方簽署了戰(zhàn)略合作框架協(xié)議,一致同意就科研項目、科研平臺、人才培養(yǎng)等方面實現(xiàn)技術和資源共享,實現(xiàn)互利共贏。非常感謝每一位光臨華林科納展臺的業(yè)界朋友!感恩有您,攜手共進!華林科納參展SEMICON CHINA 2019完美收官,期待明年與您再次相遇!
發(fā)布時間: 2019 - 04 - 01
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3月21日,華林科納在SEMICON China 2019 展會結束之后,在上海世紀皇冠假日酒店舉辦半導體制造企業(yè)沙龍,來自政府、行業(yè)協(xié)會、業(yè)內(nèi)專家、企業(yè)代表、媒體代表近百位嘉賓參加本次會議。本次企業(yè)沙龍致力于推動半導體濕制程工藝領域的信息交流與合作,整合創(chuàng)新資源,探索行業(yè)管理和科技服務的新模式,進一步促進產(chǎn)業(yè)發(fā)展與技術進步?,F(xiàn)場氣氛非常融洽。
發(fā)布時間: 2019 - 04 - 01
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3月20日,SEMICON China 2019中國半導體展開展第一天,華林科納展區(qū)一經(jīng)亮相,便圈粉無數(shù)?,F(xiàn)場快報,帶您一起去看看華林科納的新技術,新產(chǎn)品、新亮點!!感謝各位親愛的朋友們,第一天就快要把我們的展位擠爆了。大家對我們的濕制程設備、閥門等都非常感興趣,得到了新老客戶的贊譽。趕快來我們的展位  N5-5584 ,從上海新國際展覽中心3號門入口可直達5號館,超大超全的產(chǎn)品展示,恭候您的大駕。今年我們的準備的禮品都非常不錯哦,只要拉到最下掃碼關注我們,來展會現(xiàn)場出示公眾號即可得到,數(shù)量有限,要抓緊啦。
發(fā)布時間: 2019 - 04 - 01
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2019年3月20-22日SEMICON China 將在上海新國際博覽中心舉辦。25年來,SEMICON China伴隨著中國半導體產(chǎn)業(yè)的蓬勃發(fā)展而成為中國權威的半導體行業(yè)盛會之一。展會開始進入倒計時了!我們期待您的大駕光臨,在此奉上貼心的《參觀指南》。
發(fā)布時間: 2019 - 03 - 16
瀏覽次數(shù):102
3月5日下午,在華林科納南通生產(chǎn)基地會議室組織了2019年的第一場技術培訓,公司銷售部、技術部、生產(chǎn)部、資材部、采購部等部門悉數(shù)參加。華林科納超聲設備專家朱洪崗先生講課主講人華林科納超聲設備專家朱洪崗先生在本次培訓會上做了關于《超聲波設備原理》的主題培訓,通過超聲波清洗原理、清洗效果與特點、設備的基本構造、設備使用保養(yǎng)四個版塊展開培訓。認真的聽課參加培訓的同事們積極討論,針對超聲波核心技術在公司項目中的應用提出了自己的見解,現(xiàn)場氣氛熱烈。仔細的記筆記通過此次培訓,促使各部門同事更加深入了解超聲波清洗的應用和方案選擇,有利于部門相互協(xié)作,幫助客戶更加精準地選擇和使用華林科納的產(chǎn)品。培訓受到了公司各部門的歡迎和好評,后續(xù)的培訓將定期舉行。
發(fā)布時間: 2019 - 03 - 07
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