久久国产亚洲精品超热碰_日本福利在线观看_亚洲AV永久无码5G_女生私密在线一区二区_国产精品视频大全_三级国产亚洲_无码人妻中文二区_岳装睡到我房间和我做_影音先锋精品网址_黄色污污视频网站

歡迎訪問華林科納(江蘇)半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)有限公司官網(wǎng)
手機網(wǎng)站
始于90年代末

濕法制程整體解決方案提供商

--- 全國服務(wù)熱線 --- 0513-87733829



新聞資訊 新聞中心
400-8798-096
聯(lián)系電話
聯(lián)系我們
掃一掃
QQ客服
SKYPE客服
旺旺客服
新浪微博
分享到豆瓣
推薦產(chǎn)品 / 產(chǎn)品中心
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 14
2設(shè)備構(gòu)成及詳細(xì)技術(shù)說明2.1工藝說明 2.2.臺面結(jié)構(gòu)圖如下      3.設(shè)備說明3.1 排風(fēng)系統(tǒng)?●排風(fēng)裝置(排風(fēng)壓力、風(fēng)量根據(jù)實際情況或客戶要求設(shè)計)將設(shè)備內(nèi)揮發(fā)的有毒氣體抽到車間排風(fēng)管道或戶外(室外排放遵守國家環(huán)保要求),避免擴散到室內(nèi);?●排風(fēng)通道內(nèi)設(shè)有風(fēng)量導(dǎo)流板,從而使排風(fēng)效果達(dá)到最佳;?●本體頂部后方自帶強力抽風(fēng)1個風(fēng)道口裝置(每個藥劑槽對應(yīng)一個),排風(fēng)口直徑大于或等于 200mm 與本體焊成一體;?●排風(fēng)口處設(shè)有手動調(diào)節(jié)風(fēng)門,操作人員可根據(jù)情況及時調(diào)節(jié)排風(fēng)量;3.2設(shè)備防護門:?●本體前方安裝有防護隔離門,隔離門采用透明PVC板制成,前門可以輕松開合,在清洗過程中,隔離門關(guān)閉,以盡量改善工作環(huán)境并減小對人體的傷害. ?●形式:上下推拉門。3.3 給排水/廢液系統(tǒng)?●給水管路為一路去離子水;?●給排水排廢接頭均為活性連接;?●排放方式均采用氣動控制的方式來保證安全3.4 電氣控制系統(tǒng)?●采用優(yōu)質(zhì)PLC可編程控制器控制全操作過程, ?●人機界面為觸摸屏,接口中有手動操作、故障報警、安全保護等功能,各工作位過程完成提前提示報警,觸摸屏選用優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品;?●觸摸屏加鎖定,以防非授權(quán)人員修改或設(shè)定參數(shù);?●所有電控部分需獨立封閉,帶抽風(fēng)系統(tǒng),獨立的配電柜?●設(shè)備照明:設(shè)備其它部位--低電壓燈,根據(jù)工作需要可控照明;?●設(shè)備整體采取人性化設(shè)計,方便操作;并裝有漏電保護和聲光報警提示裝置,保證性能安全可靠;電控部分導(dǎo)線采用耐高溫、耐腐蝕的專用導(dǎo)線,電氣控制部分內(nèi)部還通有壓縮空氣保護,可防水耐腐蝕;?●設(shè)備所有處于腐蝕腔中的線纜均通過PE管進(jìn)行保護,免受腐蝕;?●設(shè)備具有良好的接地裝置;
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 14
設(shè)備概況:(僅做參考)主要功能:本設(shè)備主要手動搬運方式,通過對硅片腐蝕、漂洗、等方式進(jìn)行處理,從而達(dá)到一個用戶要求的效果。設(shè)備名稱:KOH  Etch刻蝕清洗機           設(shè)備型號:CSE-SC-NZD254整機尺寸(參考):自動設(shè)備約2500mm(L)×1800mm(W)×2400mm(H);被清洗硅片尺寸: 2--6寸(25片/籃)設(shè)備形式:室內(nèi)放置型;操作形式:手動各槽位主要技術(shù)工藝:設(shè)備組成:該設(shè)備主要由清洗部分、抽風(fēng)系統(tǒng)及電控部分組成設(shè)備走向:方案圖按 “左進(jìn)右出”方式,另可按要求設(shè)計“右進(jìn)左出”方式;設(shè)備描述:此裝置是一個全自動的處理設(shè)備。8.0英寸大型觸摸屏(PROFACE/OMRON)顯示 / 檢測 / 操作每個槽前上方對應(yīng)操作按鈕,與觸摸屏互相配合主體材料:德國進(jìn)口10mmPP板,優(yōu)質(zhì)不銹鋼骨架,外包3mmPP板防腐;臺面板為德國10mm PP板;DIW管路及構(gòu)件采用日本進(jìn)口clean-PVC管材,需滿足18M去離子水水質(zhì)要求,酸堿管路材質(zhì)為進(jìn)口PFA/PVDF;采用國際標(biāo)準(zhǔn)生產(chǎn)加工,焊接組裝均在萬級凈化間內(nèi)完成;排風(fēng):位于機臺后上部工作照明:上方防酸照明三菱、歐姆龍 PLC控制。安全考慮:設(shè)有EMO(急停裝置), 強電弱點隔離所有電磁閥均高于工作槽體工作液面電控箱正壓裝置(CDA Purge)設(shè)備三層防漏  樓盤傾斜   漏液報警  設(shè)備整體置于防漏托盤內(nèi)排放管路加過濾裝置所有槽體折彎成型,可有效避免死角顆粒;更多化學(xué)品相關(guān)濕法腐蝕相關(guān)設(shè)備(KOH腐蝕刻蝕機、RCA清洗機、去膠機、外延片清洗機、酸堿腐蝕機、顯影機等)以及干燥設(shè)備(馬蘭戈尼干燥機Marangoni、單腔...
新聞中心 新聞資訊
1前言等離子清洗技術(shù)被廣泛應(yīng)用于電子、生物醫(yī)藥、珠寶制作、紡織等眾多行業(yè),由于各個行業(yè)的特殊性,需要針對行業(yè)需要,采用不同的設(shè)備及工藝。在電子封裝行業(yè)中,使用等離子清洗技術(shù),目的是增強焊線/焊球的焊接質(zhì)量及芯片與環(huán)氧樹脂塑封材料之間的粘結(jié)強度。為了更好地達(dá)到等離子清洗的效果,需要了解設(shè)備的工作原理與構(gòu)造,根據(jù)封裝工藝,設(shè)計可行的等離子清洗料盒及工藝。等離子清洗的工作原理是通過將注入氣體激發(fā)成等離子體,等離子體由電子、離子、自由基、光子以及其他中性粒子組成。由于等離子體中的電子、離子和自由基等活性粒子存在,其本身容易與固體表面發(fā)生反應(yīng)。反應(yīng)類型可以分為物理反應(yīng)和化學(xué)反應(yīng),物理反應(yīng)主要是以轟擊的形式使污染物脫離表面,從而被氣體帶走;化學(xué)反應(yīng)是活性粒子與污染物發(fā)生反應(yīng),生成易揮發(fā)物質(zhì)再被帶走[1]。在實際使用過程中,通常使用Ar氣來進(jìn)行物理反應(yīng),使用O2或者H2來進(jìn)行化學(xué)反應(yīng),其反應(yīng)原理示意圖如圖1所示。等離子清洗的效果通常用滴水實驗來直觀反應(yīng),如圖2所示,等離子清洗前接觸角約為56°,等離子清洗后表面接觸角約為7°。在電子封裝中,通常使用物理化學(xué)結(jié)合的方式進(jìn)行等離子清洗,以去除在原材料制造、運輸、前工序中殘留的有機污染物及芯片焊盤和引線框架表面形成的氧化物。等離子清洗設(shè)備的反應(yīng)室主要分為感應(yīng)耦合“桶式”反應(yīng)室、電容耦合“平行平板”反應(yīng)室、“順流”反應(yīng)室三種。目前國內(nèi)...
發(fā)布時間: 2021 - 03 - 03
瀏覽次數(shù):94
一、多晶硅錠的制備工藝根據(jù)生長方法的不同,多晶硅可分為等軸晶、柱狀晶。通常在熱過冷及自由凝固的情況下會形成等軸晶,其特點是晶粒細(xì),機械物理性能各向同性。如果在凝固過程中控制液固界面的溫度梯度,形成單方向熱流,實行可控的定向凝固,則可形成物理機械性能各向異性的多晶柱狀晶,太陽能電池多晶硅錠就是采用這種定向凝固的方法生產(chǎn)的。在實際生產(chǎn)中,太陽能電池多晶硅錠的定向凝固生長方法主要有澆鑄法、熱交換法(H EM)、布里曼(B ridgem an)法、電磁鑄錠法,其中熱交換法與布里曼法通常結(jié)合在一起。熱交換法及布里曼法都是把熔化及凝固置于同一坩堝中( 避免了二次污染),其中熱交換法是將硅料在坩堝中熔化后,在坩堝底部通冷卻水或冷氣體,在底部進(jìn)行熱量交換,形成溫度梯度,促使晶體定向生長。布里曼法則是在硅料熔化后,將坩堝或加熱元件移動使結(jié)晶好的晶體離開加熱區(qū),而液硅仍然處于加熱區(qū),這樣在結(jié)晶過程中液固界面形成比較穩(wěn)定的溫度梯度,有利于晶體的生長。其特點是液相溫度梯度dT/dX 接近常數(shù),生長速度受工作臺下移速度及冷卻水流量控制趨近于常數(shù),生長速度可以調(diào)節(jié)。本項目生產(chǎn)所用結(jié)晶爐是采用熱交換與布里曼相結(jié)合的技術(shù)。本項目采用中國電子科技集團公司第四十八研究所研發(fā)的擁有先進(jìn)技術(shù)的R13450-1型多晶硅鑄錠爐,它采用先進(jìn)的多晶硅定向凝固技術(shù),將硅料高溫熔融后通過特殊工藝定向冷凝結(jié)晶,從而達(dá)到太陽能...
發(fā)布時間: 2021 - 03 - 03
瀏覽次數(shù):105
在太陽能電池片制造行業(yè)中,通常單晶硅片需要進(jìn)行清洗,去除各種雜質(zhì),或者利用化學(xué)品對硅片行刻蝕后形成特定的表面狀態(tài),這樣才能夠繼續(xù)進(jìn)行后續(xù)工藝生產(chǎn)。其中,利用堿溶液KOH進(jìn)行刻蝕清洗,是一種重要的硅片處理方式。在濕法設(shè)備中集成多種化學(xué)品后,可以在單個設(shè)備上完成刻蝕、清洗等不同工藝,達(dá)到對硅片進(jìn)行綜合處理的目的。KOH溶液的質(zhì)量分?jǐn)?shù)、刻蝕時間等對硅片表面狀態(tài)有重要影響。KOH刻蝕過程中需要使用大量的化學(xué)品,近年來隨著技術(shù)的進(jìn)步,出現(xiàn)了KOH堿刻蝕輔助添加劑,通過在KOH溶液中混合輔助添加劑,不僅能夠達(dá)到原先的工藝要求,還能夠有效減少化學(xué)品用量,降低化學(xué)品廢液的處理量和難度,為今后KOH堿刻蝕大規(guī)模用提供了條件1 實驗材料和工藝實驗中,使用砂漿切割和金剛線切割的單晶硅片外觀尺寸為156mm×156mm,厚度為200um,電阻率為1-3Q·cm。該單晶硅片為市場常見硅片。電池片生產(chǎn)工藝采用車間量產(chǎn)的PERC(射極純化及背電極)單晶生產(chǎn)工藝。各類化學(xué)品原液質(zhì)量分?jǐn)?shù)如表1所示。2 實驗結(jié)果與討論2.1KOH預(yù)清洗砂漿切割的硅片表面有大量的切割損傷和各種雜質(zhì)等“,需要進(jìn)行清洗才能開展下一步擴散工藝。通常采用KOH刻蝕的方式來對硅片進(jìn)行預(yù)清洗,去除硅片表面各種臟污雜質(zhì)等,達(dá)到清洗效果。清洗工藝中,通??涛g時間對工藝效果影響較大。實驗中,保持KOH溶液質(zhì)量分?jǐn)?shù)18%不變,反應(yīng)溫度...
發(fā)布時間: 2021 - 03 - 03
瀏覽次數(shù):370
光刻是制造半導(dǎo)體器件和集成電路微圖形結(jié)構(gòu)的關(guān)鍵工藝,其工藝質(zhì)量直接影響著器件成品率、可靠性、器件性能以及使用壽命等參數(shù)指標(biāo)。光罩是光刻工藝中的一個重要環(huán)節(jié),光刻版必須非常潔凈,所有硅片上的電路元件都來自版圖。如果光刻版不潔凈,存在污染顆粒,這些顆粒就會被復(fù)制到硅片表面的光刻膠上,造成器件性能的下降。然而,光刻版在使用過程中不可避免的會粘上灰塵、光刻膠等污染物,這些污染物的存在直接影響到光刻的效果。為了保證光刻版潔凈,必須定期對光刻版進(jìn)行清洗,而清洗的效果與清洗工藝以及各清洗工藝在設(shè)備上的合理配置有著密切的聯(lián)系。本文對全自動光刻版清洗機進(jìn)行了介紹,主要包括清洗的工藝原理和清洗的工作過程。1工藝原理1.1清洗藥液1.1.1丙酮溶液對于光刻膠及其他有機污染物,比較常見的方法是通過有機溶劑將其溶解的方法將其去除,例如利用丙酮浸泡光刻版,在浸泡的同時,可以采用超聲,提高浸泡效果。對于比較干凈的光刻版,浸泡基本就能將有機污染物去除干凈。對于光刻膠較多的光刻版,浸泡只能將光刻膠泡軟,還需要用無塵布或無塵棉,蘸取丙酮輕輕擦洗,或在光刻版清洗設(shè)備中采用毛刷刷洗,通過外力將頑固的光刻膠去除掉。1.1.2濃硫酸+雙氧水濃硫酸加雙氧水的混合物,對于所有的有機材料都是有效的。它采用濃硫酸和過氧化氫的混合物,之后是去離子水(DI)沖洗,稱為Piranha刻蝕。這種方法對于特別難去除的光刻膠或由于接觸過高溫等環(huán)...
發(fā)布時間: 2021 - 03 - 03
瀏覽次數(shù):448
目錄設(shè)備規(guī)范1.設(shè)備概述2.清洗槽構(gòu)成3.設(shè)備構(gòu)成4.設(shè)備動力條件5.附加材料6.其它承諾7.工藝及安全8.設(shè)備可靠性保障措施9.設(shè)備出廠須經(jīng)客戶檢驗合格10.安裝說明11.設(shè)備主要配置清單12.類似設(shè)備照片1.概述1.1設(shè)備概要設(shè)備類型:手動清洗槽:清洗槽兩個(水洗與酸洗共用)+配酸槽一個1.2設(shè)備特點:·清洗能力強,性能穩(wěn)定,安全可靠;·設(shè)備成本合理,自動化程度高,使用成本低;·技術(shù)先進(jìn),結(jié)構(gòu)合理,適宜生產(chǎn)線上大批次操作;·清洗形式:①酸洗時:浸泡+工件自旋轉(zhuǎn)②水洗時:浸泡+溢流+工件自旋轉(zhuǎn)。·上下料由人工完成·清洗能力:爐管:2個/次;晶舟:1個/次1.3本體:面向設(shè)備,靠近操作側(cè)外側(cè)為爐管清洗槽,內(nèi)側(cè)為配酸槽,左側(cè)為晶舟清洗槽。本體尺寸約為:3400X1800X2100mm長x寬x高),如附圖所示藥液、廢水分別獨立排放本體為碳鋼骨架外包耐腐蝕 PP材料(德國進(jìn)口聚丙烯)焊接而成,耐強酸堿本體操作側(cè)有透明 PVC門,形式為上下升降式本體設(shè)有手動調(diào)節(jié)風(fēng)門,手動調(diào)節(jié)可鎖定本體內(nèi)操作側(cè)附近設(shè)有水槍與氮氣槍各2套本體臺面高度約950mm本體配備防酸日光燈,萬向腳輪與調(diào)整地腳2. 清洗槽構(gòu)成  注:當(dāng)清洗槽注滿水時,整個爐管被水完全浸沒。2.1清洗槽(1#):·內(nèi)槽尺寸:2300*700...
發(fā)布時間: 2021 - 03 - 03
瀏覽次數(shù):180
鍍膜后清洗機一、入料→切液1→溶劑滾刷洗→切液2→DI水噴淋洗→DI水超聲波清洗→DI水滾刷洗→切液3→BJ清洗→DI水噴淋洗→DI水沖洗→風(fēng)刀干燥→下片含除靜電裝置循環(huán)使用并溢流水方向:DI水沖洗(可控制入水量1015L/Min范圍)→DI水噴淋洗B(水箱)→BJ清洗(水箱)→DI水滾刷洗(水箱)→DI水噴淋洗A(水箱)→排水管二、清洗工件規(guī)格及描述基板尺寸:250mm×250mm(最小);650mm×650mm(最大)基板厚度:0.41.1mmITO玻璃特征:玻璃表面已雙面鍍了ITO,經(jīng)本設(shè)備清洗后到需方的設(shè)備進(jìn)行噴油(墨)等表面處理.三、設(shè)備的能力輸送高度930±30mm百級間高度工作寬度700mm(有效最大:650mm)傳動方式傘齒輪傳動(外傳動)輸送速度1~3m/min(變頻無級可調(diào))(客戶正常使用:2.5~3m/min)輸送方向左進(jìn)右出設(shè)備尺寸9615(長)1580(寬)1300(高)(mm)(不含電控柜,風(fēng)柜)四、耗用資源總耗電量182KW總耗氣量20003000NL/Min由客戶提供0.4MPa以上的潔凈壓縮空氣純水耗量1015L/Min由客戶提供15兆以上純水總抽氣量80M3/Min壓力≥750Pa由客戶提供抽風(fēng)系統(tǒng)五、其它選項(一)用電安全1.設(shè)備采用三相380V,50HZ,并且...
發(fā)布時間: 2021 - 03 - 03
瀏覽次數(shù):60
目   錄 一、 FSI清洗機介紹: 二、 FSI組成及結(jié)構(gòu)功能: 三、 軟件操作介紹: 四、 程序以及輸出功能: 五、 流量控制: 六、 Chemical Auto fill功能介紹: 七、 常見故障以及維修方法:一、 FSI清洗機介紹 FSI用途:FSI用于圓片的表面清洗系統(tǒng),可以去除顆粒、金屬離     子以及剝離部分氧化膜;  FSI設(shè)備全稱: MERCURY MP Surface Condition Division System, FSI公司早期的Spray System Product; FSI工作原理:在密封的Chamber中,圓片對稱放在Turntable 上,在Turntable的旋轉(zhuǎn)的同時利用N2把Chemical形成高霧化或者低霧化噴灑在圓片表面,有兩個噴嘴:Spray post 和 Side-bowl spray post,...
發(fā)布時間: 2021 - 03 - 03
瀏覽次數(shù):670
窄帶濾光片是用于密集波分復(fù)用光纖通信系統(tǒng),是其關(guān)鍵器件之一,它通常是全介質(zhì)濾光片,也就是間隔層與反射層都是由鍍制介質(zhì)薄膜形成,其特點是鍍制難度高,成品率低,成本高等。窄帶濾光片的原理  1、光波中的電磁波理論  從理論上講,窄帶濾光片的光學(xué)特性研究,就是電磁波通過多層介質(zhì)薄膜間傳播的研究。因此,麥克斯韋方程組是處理光學(xué)薄膜系統(tǒng)問題的Z基本的方法?! ?、在介質(zhì)界面上光波的反射與折射  有若干介質(zhì)界面存在于光學(xué)膜系中,各介質(zhì)界面上的反射和折射規(guī)律關(guān)系到膜系的光學(xué)性質(zhì)與光波。須考慮光波從復(fù)折射率的介質(zhì)入射到該介質(zhì)時,與另一介質(zhì)的復(fù)折射率界面的反射和折射過程。  3、光學(xué)薄膜的特征矩陣  對于無吸收的介質(zhì)光學(xué)薄膜,其特征矩陣的顯著特點從三方面考慮:行列式值為1,即單位模矩陣;對角元素或者是實數(shù),或者是純虛數(shù);Z重要的是主對角線上的元素相等。在有效的光學(xué)厚度為四分之一波長的整數(shù)倍時,特征矩陣變得非常簡單。窄帶濾光片的發(fā)展現(xiàn)狀  為了適應(yīng)我國光通信業(yè)高速發(fā)展的實際需求,通過對窄帶濾光片的優(yōu)化結(jié)構(gòu)、設(shè)計、分析和修正技術(shù)進(jìn)行深入研究,在濾光片的主膜系鍍制工藝技術(shù)方面有所突破;實現(xiàn)了改造進(jìn)口設(shè)備性能,完成了鍍膜材料的部分國產(chǎn)化;了解了高致密性、低損耗膜層的制備技術(shù),還有高精度實時監(jiān)控技術(shù);生成提高了鍍制后的減薄、拋光和劃片工藝;建立完善了檢測系統(tǒng)?! ⊥瑫r還形成了一套較為完整的光通信,用于窄帶濾光...
發(fā)布時間: 2021 - 03 - 02
瀏覽次數(shù):60
窄帶濾光片是用于密集波分復(fù)用光纖通信系統(tǒng),是其關(guān)鍵器件之一,它通常是全介質(zhì)濾光片,也就是間隔層與反射層都是由鍍制介質(zhì)薄膜形成,其特點是鍍制難度高,成品率低,成本高等。所以首先由電磁場傳播的麥克斯韋方程出發(fā),理論分析了薄膜的光學(xué)特性系統(tǒng)。然后考慮了間隔層厚度、反射層的反射率對濾光片光譜特性的影響。結(jié)合給定的技術(shù)指標(biāo),按照法布里-珀羅多層介質(zhì)薄膜濾波器的原理,設(shè)計出一種可用于光通信密集波分復(fù)用系統(tǒng)的窄帶濾光片,并利用離子束濺射鍍膜機在玻璃基片上完成濾光片的鍍制,并且所鍍制出的濾光片符合設(shè)計指標(biāo)的要求。一、窄帶濾光片的研究現(xiàn)狀為了適應(yīng)我國光通信業(yè)高速發(fā)展的實際需求,通過對窄帶干涉濾光片的優(yōu)化結(jié)構(gòu)、設(shè)計、分析和修正技術(shù)進(jìn)行深入研究,在濾光片的主膜系鍍制工藝技術(shù)方面有所突破;實現(xiàn)了改造進(jìn)口設(shè)備性能,完成了鍍膜材料的部分國產(chǎn)化;了解了高致密性、低損耗膜層的制備技術(shù),還有高精度實時監(jiān)控技術(shù);生成提高了鍍制后的減薄、拋光和劃片工藝;建立完善了檢測系統(tǒng)。同時還形成了一套較為完整的光通信,用于窄帶干涉濾光片產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)技術(shù)。并實現(xiàn)了100GHz和200GHz產(chǎn)品批量化生產(chǎn),經(jīng)檢測產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定,通過國內(nèi)外用戶試用,窄帶干涉濾光片產(chǎn)品的總體性能及生產(chǎn)技術(shù)均已達(dá)到國際先進(jìn)水平。二、窄帶濾光片在WDM系統(tǒng)中的應(yīng)用作為波分復(fù)用系統(tǒng)的核心器件,復(fù)用/解復(fù)用器是將不同波長的光信號匯集到一根光纖輸出的器件,稱為復(fù)用器,...
發(fā)布時間: 2021 - 03 - 02
瀏覽次數(shù):50
背景技術(shù)隨著經(jīng)濟的發(fā)展,電力負(fù)荷不斷增長,對電網(wǎng)的輸送能力提出了更高的要求。尤其是對電力系統(tǒng)潮流控制、電壓控制及短路電流控制的需求越來越多,因此柔性交流輸電(Flexible AC Transmission Systems,F(xiàn)ACTS)裝置在電力系統(tǒng)中的應(yīng)用越來越多。FACTS根據(jù)與電網(wǎng)連接的方式可以分為串聯(lián)裝置、并聯(lián)裝置及串并聯(lián)裝置。目前應(yīng)用的串聯(lián)型柔性交流輸電裝置包括:串聯(lián)補償裝置和串聯(lián)諧振型故障電流限制裝置,其示意圖如圖1所示。圖中,31為輸電線路一側(cè)的母線;36為輸電線路另一側(cè)的母線,32為輸電線路一側(cè)的線路開關(guān);35為輸電線路另一側(cè)的線路開關(guān),33為輸電線路,34為所安裝的串聯(lián)型裝置。由于裝置串聯(lián)在線路中,故其對地的絕緣要求與線路對地的絕緣要求一致,為降低工程造價,將串聯(lián)裝置安裝在鋼結(jié)構(gòu)的絕緣平臺上,絕緣平臺再由支柱絕緣子、斜拉絕緣子固定。故串聯(lián)裝置與地面便不存在電氣聯(lián)系,絕緣要求由支柱絕緣子和斜拉絕緣子來滿足,而裝置僅需考慮對絕緣平臺的絕緣要求,大大降低了串聯(lián)裝置本身的絕緣水平??紤]到串聯(lián)型柔性交流輸電裝置串聯(lián)在線路中,為確保主設(shè)備正常運行,需要配置過電壓保護設(shè)備,針對這些一次主設(shè)備還需配置相應(yīng)的二次保護,進(jìn)而需要采集絕緣平臺上對應(yīng)的電氣量,并將這些電氣量傳遞給地面的保護裝置,作為保護裝置進(jìn)行邏輯判斷的依據(jù)。對于串聯(lián)補償裝置,其配套的二次保...
發(fā)布時間: 2021 - 03 - 02
瀏覽次數(shù):41
1322頁次83/133首頁上一頁...  78798081828384858687...下一頁尾頁
Copyright ©2005 - 2013 華林科納(江蘇)半導(dǎo)體設(shè)備有限公司
犀牛云提供企業(yè)云服務(wù)
華林科納(江蘇)半導(dǎo)體設(shè)備有限公司
地址:中國江蘇南通如皋高新區(qū)桃金東路90號
電話:0513-87733829
Email:xzl1019@aliyun.com
regal-bio.cn

傳真:0513-87733829
郵編:226500


X
1

QQ設(shè)置

3

SKYPE 設(shè)置

4

阿里旺旺設(shè)置

2

MSN設(shè)置

5

電話號碼管理

  • 400-8798-096
6

二維碼管理

8

郵箱管理

展開