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發(fā)布時(shí)間: 2016 - 03 - 14
2設(shè)備構(gòu)成及詳細(xì)技術(shù)說(shuō)明2.1工藝說(shuō)明 2.2.臺(tái)面結(jié)構(gòu)圖如下      3.設(shè)備說(shuō)明3.1 排風(fēng)系統(tǒng)?●排風(fēng)裝置(排風(fēng)壓力、風(fēng)量根據(jù)實(shí)際情況或客戶(hù)要求設(shè)計(jì))將設(shè)備內(nèi)揮發(fā)的有毒氣體抽到車(chē)間排風(fēng)管道或戶(hù)外(室外排放遵守國(guó)家環(huán)保要求),避免擴(kuò)散到室內(nèi);?●排風(fēng)通道內(nèi)設(shè)有風(fēng)量導(dǎo)流板,從而使排風(fēng)效果達(dá)到最佳;?●本體頂部后方自帶強(qiáng)力抽風(fēng)1個(gè)風(fēng)道口裝置(每個(gè)藥劑槽對(duì)應(yīng)一個(gè)),排風(fēng)口直徑大于或等于 200mm 與本體焊成一體;?●排風(fēng)口處設(shè)有手動(dòng)調(diào)節(jié)風(fēng)門(mén),操作人員可根據(jù)情況及時(shí)調(diào)節(jié)排風(fēng)量;3.2設(shè)備防護(hù)門(mén):?●本體前方安裝有防護(hù)隔離門(mén),隔離門(mén)采用透明PVC板制成,前門(mén)可以輕松開(kāi)合,在清洗過(guò)程中,隔離門(mén)關(guān)閉,以盡量改善工作環(huán)境并減小對(duì)人體的傷害. ?●形式:上下推拉門(mén)。3.3 給排水/廢液系統(tǒng)?●給水管路為一路去離子水;?●給排水排廢接頭均為活性連接;?●排放方式均采用氣動(dòng)控制的方式來(lái)保證安全3.4 電氣控制系統(tǒng)?●采用優(yōu)質(zhì)PLC可編程控制器控制全操作過(guò)程, ?●人機(jī)界面為觸摸屏,接口中有手動(dòng)操作、故障報(bào)警、安全保護(hù)等功能,各工作位過(guò)程完成提前提示報(bào)警,觸摸屏選用優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品;?●觸摸屏加鎖定,以防非授權(quán)人員修改或設(shè)定參數(shù);?●所有電控部分需獨(dú)立封閉,帶抽風(fēng)系統(tǒng),獨(dú)立的配電柜?●設(shè)備照明:設(shè)備其它部位--低電壓燈,根據(jù)工作需要可控照明;?●設(shè)備整體采取人性化設(shè)計(jì),方便操作;并裝有漏電保護(hù)和聲光報(bào)警提示裝置,保證性能安全可靠;電控部分導(dǎo)線采用耐高溫、耐腐蝕的專(zhuān)用導(dǎo)線,電氣控制部分內(nèi)部還通有壓縮空氣保護(hù),可防水耐腐蝕;?●設(shè)備所有處于腐蝕腔中的線纜均通過(guò)PE管進(jìn)行保護(hù),免受腐蝕;?●設(shè)備具有良好的接地裝置;
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 03 - 14
設(shè)備概況:(僅做參考)主要功能:本設(shè)備主要手動(dòng)搬運(yùn)方式,通過(guò)對(duì)硅片腐蝕、漂洗、等方式進(jìn)行處理,從而達(dá)到一個(gè)用戶(hù)要求的效果。設(shè)備名稱(chēng):KOH  Etch刻蝕清洗機(jī)           設(shè)備型號(hào):CSE-SC-NZD254整機(jī)尺寸(參考):自動(dòng)設(shè)備約2500mm(L)×1800mm(W)×2400mm(H);被清洗硅片尺寸: 2--6寸(25片/籃)設(shè)備形式:室內(nèi)放置型;操作形式:手動(dòng)各槽位主要技術(shù)工藝:設(shè)備組成:該設(shè)備主要由清洗部分、抽風(fēng)系統(tǒng)及電控部分組成設(shè)備走向:方案圖按 “左進(jìn)右出”方式,另可按要求設(shè)計(jì)“右進(jìn)左出”方式;設(shè)備描述:此裝置是一個(gè)全自動(dòng)的處理設(shè)備。8.0英寸大型觸摸屏(PROFACE/OMRON)顯示 / 檢測(cè) / 操作每個(gè)槽前上方對(duì)應(yīng)操作按鈕,與觸摸屏互相配合主體材料:德國(guó)進(jìn)口10mmPP板,優(yōu)質(zhì)不銹鋼骨架,外包3mmPP板防腐;臺(tái)面板為德國(guó)10mm PP板;DIW管路及構(gòu)件采用日本進(jìn)口clean-PVC管材,需滿足18M去離子水水質(zhì)要求,酸堿管路材質(zhì)為進(jìn)口PFA/PVDF;采用國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)生產(chǎn)加工,焊接組裝均在萬(wàn)級(jí)凈化間內(nèi)完成;排風(fēng):位于機(jī)臺(tái)后上部工作照明:上方防酸照明三菱、歐姆龍 PLC控制。安全考慮:設(shè)有EMO(急停裝置), 強(qiáng)電弱點(diǎn)隔離所有電磁閥均高于工作槽體工作液面電控箱正壓裝置(CDA Purge)設(shè)備三層防漏  樓盤(pán)傾斜   漏液報(bào)警  設(shè)備整體置于防漏托盤(pán)內(nèi)排放管路加過(guò)濾裝置所有槽體折彎成型,可有效避免死角顆粒;更多化學(xué)品相關(guān)濕法腐蝕相關(guān)設(shè)備(KOH腐蝕刻蝕機(jī)、RCA清洗機(jī)、去膠機(jī)、外延片清洗機(jī)、酸堿腐蝕機(jī)、顯影機(jī)等)以及干燥設(shè)備(馬蘭戈尼干燥機(jī)Marangoni、單腔...
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一. 硅片的化學(xué)清洗工藝原理  硅片經(jīng)過(guò)不同工序加工后,其表面已受到嚴(yán)重沾污,一般講硅片表面沾污大致可分在三類(lèi):  A. 有機(jī)雜質(zhì)沾污: 可通過(guò)有機(jī)試劑的溶解作用,結(jié)合超聲波清洗技術(shù)來(lái)去除。  B. 顆粒沾污:運(yùn)用物理的方法可采機(jī)械擦洗或超聲波清洗技術(shù)來(lái)去除粒徑 ≥ 0.4 μm顆粒,利用兆聲波可去除 ≥ 0.2 μm顆粒。  C. 金屬離子沾污:必須采用化學(xué)的方法才能清洗其沾污,硅片表面金屬雜質(zhì)沾污有兩大類(lèi):     a. 一類(lèi)是沾污離子或原子通過(guò)吸附分散附著在硅片表面?!?#160;   b. 另一類(lèi)是帶正電的金屬離子得到電子后面附著(尤如“電鍍”)到硅片表面。    硅拋光片的化學(xué)清洗目的就在于要去除這種沾污,一般可按下述辦法進(jìn)行清洗去除沾污?!?#160;   a. 使用強(qiáng)氧化劑使“電鍍”附著到硅表面的金屬離子、氧化成金屬,溶解在清洗液中或吸附在硅片表面。      b. 用無(wú)害的小直徑強(qiáng)正離子(如H+)來(lái)替代吸附在硅片表面的金屬離子,使之溶解于清洗液中。     c. 用大量去離水進(jìn)行超聲波清洗,以排除溶液中的金屬離子。  自1970年美國(guó)RCA實(shí)驗(yàn)室提出的浸泡式RCA化學(xué)清洗工藝得到了廣泛應(yīng)用,1978年RCA實(shí)驗(yàn)室又推出兆聲清洗工藝,近幾年來(lái)以RCA...
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 03 - 23
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一. 硅片的化學(xué)清洗工藝原理   硅片經(jīng)過(guò)不同工序加工后,其表面已受到嚴(yán)重沾污,一般講硅片表面沾污大致可分在三類(lèi):   A. 有機(jī)雜質(zhì)沾污: 可通過(guò)有機(jī)試劑的溶解作用,結(jié)合超聲波清洗技術(shù)來(lái) 去除。   B. 顆粒沾污:運(yùn)用物理的方法可采機(jī)械擦洗或超聲波清洗技術(shù)來(lái)去除粒徑 ≥ 0.4 μm顆粒,利用兆聲波可去除 ≥ 0.2 μm顆粒。   C. 金屬離子沾污:必須采用化學(xué)的方法才能清洗其沾污,硅片表面金屬雜質(zhì)沾污有兩大類(lèi):   a. 一類(lèi)是沾污離子或原子通過(guò)吸附分散附著在硅片表面。   b. 另一類(lèi)是帶正電的金屬離子得到電子后面附著(尤如“電鍍”)到硅片表面。     硅拋光片的化學(xué)清洗目的就在于要去除這種沾污,一般可按下述辦法進(jìn)行清洗去除沾污:   A. 使用強(qiáng)氧化劑使“電鍍”附著到硅表面的金屬離子、氧化成金屬,溶解在清洗液中或吸附在硅片表面。   B. 用無(wú)害的小直徑強(qiáng)正離子(如H+)來(lái)替代吸附在硅片表面的金屬離子,使之溶解于清洗液中。   C. 用大量去離水進(jìn)行超聲波清洗,以排除溶液...
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 03 - 23
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1. 觸摸屏應(yīng)用場(chǎng)合及特點(diǎn)  1.1觸摸屏應(yīng)用場(chǎng)合       觸摸屏應(yīng)用范圍十分廣闊,不僅在工業(yè)控制,在其它領(lǐng)域如電信、稅務(wù)、銀行、電力、醫(yī)院、商場(chǎng)的業(yè)務(wù)查詢(xún);機(jī)場(chǎng)、火車(chē)站、地鐵自動(dòng)購(gòu)票;以及辦公、軍事指揮、電子游戲、點(diǎn)歌點(diǎn)菜、多媒體教學(xué)、房地產(chǎn)預(yù)售;電梯按鈕、旋轉(zhuǎn)門(mén)控制等都獲得廣泛應(yīng)用,在手機(jī)、ipad上應(yīng)用最普遍。       工業(yè)用觸摸屏是與PLC配套使用的設(shè)備,是替代傳統(tǒng)機(jī)械按鈕和指示燈的智能化顯示終端。用觸摸屏上的圖符替代機(jī)械按鈕,可以避免觸點(diǎn)抖動(dòng),機(jī)械老化,接觸不良,提高系統(tǒng)可靠性。還可通過(guò)設(shè)置參數(shù),顯示數(shù)據(jù),以曲線或動(dòng)畫(huà)等形式描繪和監(jiān)控多種被控設(shè)備的工作狀態(tài)和運(yùn)行參數(shù),實(shí)現(xiàn)對(duì)系統(tǒng)的自動(dòng)控制。       當(dāng)前在一些控制要求較高、參數(shù)變化多、硬件接線有變化場(chǎng)合,觸摸屏與PLC組合控制形式已占主導(dǎo)地位。   1.2 觸摸屏基本工作原理       觸摸屏設(shè)備由觸摸檢測(cè)裝置和觸摸屏控制器構(gòu)成,其中觸摸檢測(cè)裝置安裝在顯示屏幕前面,用于檢測(cè)觸摸面上用戶(hù)觸摸點(diǎn)的位置,并將檢...
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 03 - 23
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日前,在Sematech表面預(yù)處理和清洗會(huì)議(SPCC, Austin, Texas)上,F(xiàn)SI International(Chaska, Minn.)公布了濕法清洗方法的新進(jìn)展,可以在清洗碳化的光刻膠時(shí)保持超淺結(jié)(USJ)。       與瓦立安半導(dǎo)體設(shè)備公司(Varian Semiconductor Equipment)展開(kāi)合作,兩家公司研究了等離子浸沒(méi)式離子注入摻雜(PLAD)、毫秒退火和全濕法光刻膠剝離技術(shù),以從結(jié)區(qū)去除極少量摻雜的硅。清洗工藝將注入蒸汽引入了硫酸和雙氧水的混合液(SPM)中,從而把注入后晶圓光刻膠清洗的時(shí)間縮短到5分鐘。       FSI的首席技術(shù)官(CTO)Jeff Butterbaugh面對(duì)SPCC的100多名觀眾說(shuō),明年先進(jìn)邏輯器件預(yù)期達(dá)到       碳化已經(jīng)變成去除注入后光刻膠的最大清洗挑戰(zhàn)。無(wú)定形碳是“最困難的挑戰(zhàn),”Butterbaugh說(shuō),并補(bǔ)充“任何正在開(kāi)發(fā)注入后光刻膠去除工藝的人,都必須確保去掉光刻膠,尤其是在邊緣部分。你必須要移出所有的殘余光刻膠。”       去除碳化的光刻膠,使得FSI的化...
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 03 - 23
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政府的太陽(yáng)能城市計(jì)劃以及扶持國(guó)內(nèi)供應(yīng)商的措施,正在促進(jìn)該市場(chǎng)增長(zhǎng)?! ?jù)iSuppli公司,在政府刺激政策的推動(dòng)下,隨著使用量越來(lái)越多,中國(guó)LED驅(qū)動(dòng)器市場(chǎng)預(yù)計(jì)將在2009年繼續(xù)增長(zhǎng),并在2013年以前以4.4%的復(fù)合年增長(zhǎng)率擴(kuò)張?! ≡谌蚪?jīng)濟(jì)和電子產(chǎn)業(yè)沉陷衰退之際,中國(guó)LED驅(qū)動(dòng)器IC市場(chǎng)2009年將僅增長(zhǎng)1%,從2008年的1.153億美元上升到1.165億美元。但是,2010年增速將會(huì)加快到9.6%,規(guī)模將達(dá)到1.277億美元。預(yù)計(jì)2013年中國(guó)LED市場(chǎng)將達(dá)到1.39億美元。        圖1 所示為iSuppli公司對(duì)中國(guó)LED驅(qū)動(dòng)器IC市場(chǎng)的預(yù)測(cè)?! ≈袊?guó)政府采取措施刺激國(guó)內(nèi)需求,并鼓勵(lì)企業(yè)向LED產(chǎn)業(yè)投資,正在推動(dòng)該國(guó)LED驅(qū)動(dòng)器銷(xiāo)售增長(zhǎng)?! ≈袊?guó)力推LED技術(shù)  在中國(guó)市場(chǎng),手機(jī)和便攜消費(fèi)電子產(chǎn)品是LED驅(qū)動(dòng)器的主要應(yīng)用,2009年占總體市場(chǎng)的67%,相當(dāng)于7800萬(wàn)美元。但是,隨著LED在交通信號(hào)燈和普通照明等領(lǐng)域的應(yīng)用增長(zhǎng),上述應(yīng)用領(lǐng)域的主導(dǎo)地位將在未來(lái)五年不斷削弱。中國(guó)政府推出了數(shù)十個(gè)項(xiàng)目來(lái)推廣LED技術(shù),包括“LED城市照明”計(jì)劃。據(jù)中國(guó)科技部,在該計(jì)劃的第一階段,將在2009年以前在20多個(gè)城市安裝100萬(wàn)個(gè)LED燈用于城市照明,包括路燈以及隧道、地鐵、公園和加油站等公共場(chǎng)所的照明燈...
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 03 - 23
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1.液晶顯示器的結(jié)構(gòu)        一般地,TFT-LCD由上基板組件、下基板組件、液晶、驅(qū)動(dòng)電路單元、背光燈模組和其他附件組成,其中:下基板組件主要包括下玻璃基板和TFT陣列,而上基板組件由上玻璃基板、偏振板及覆于上玻璃基板的膜結(jié)構(gòu),液晶填充于上、下基板形成的空隙內(nèi)。圖1.1顯示了彩色TFT-LCD的典型結(jié)構(gòu), 圖1.2圖進(jìn)一步顯示了背光燈模組與驅(qū)動(dòng)電路單元的結(jié)構(gòu)。        在下玻璃基板的內(nèi)側(cè)面上,布滿了一系列與顯示器像素點(diǎn)對(duì)應(yīng)的導(dǎo)電玻璃微板、TFT半導(dǎo)體開(kāi)關(guān)器件以及連接半導(dǎo)體開(kāi)關(guān)器件的縱橫線,它們均由光刻、刻蝕等微電子制造工藝形成,其中每一像素的TFT半導(dǎo)體器件的剖面結(jié)構(gòu)如圖1.3所示。        在上玻璃基板的內(nèi)側(cè)面上,敷有一層透明的導(dǎo)電玻璃板,一般為氧化銦錫(Indium Tin Oxide, 簡(jiǎn)稱(chēng)ITO)材料制成,它作為公共電極與下基板上的眾多導(dǎo)電微板形成一系列電場(chǎng)。如圖1.4所示。若LCD為彩色,則在公共導(dǎo)電板與玻璃基板之間布滿了三基色(紅、綠、藍(lán))濾光單元和黑點(diǎn),其中黑點(diǎn)的作用是阻止光線從像素點(diǎn)之間的縫隙泄露,它由不透光材料制成,由于呈矩陣狀分布,故稱(chēng)...
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 03 - 23
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一、外觀設(shè)計(jì)引領(lǐng)潮流  由于受到顯像管的限制,傳統(tǒng)CRT顯示器不可能在個(gè)性化外觀設(shè)計(jì)方面取得突破,而采用LCD 面板的液晶顯示器顯然不存在這一弊端。越來(lái)越多的顯示器廠商開(kāi)始在外觀設(shè)計(jì)上大做文章,并且巧妙地將USB Hub、多媒體音箱等實(shí)用功能融入其中,在追求個(gè)性化的同時(shí)更提供一些有趣的功能。同時(shí)在機(jī)械轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)計(jì)上也會(huì)花上不少的心思,像下面的Sony HS75P LCD就是一款設(shè)計(jì)相當(dāng)突出的產(chǎn)品。   外觀設(shè)計(jì)引領(lǐng)潮流         現(xiàn)代用戶(hù)特別追求產(chǎn)品的質(zhì)感,因此塑料幾乎從個(gè)性化產(chǎn)品中淡出。為了展現(xiàn)高科技的一面,廠商不惜血本地采用金屬材料作為邊框,此時(shí)不僅更為美觀,而且對(duì)于提高強(qiáng)度也大有裨益。生活化的氣息讓廠商又看到另一種發(fā)展方向,因此各種卡通以及木質(zhì)造型開(kāi)始流行無(wú)論是天真無(wú)暇的卡通形象還是貼近大自然的木質(zhì)材料都給人親近的感覺(jué),這也將會(huì)是未來(lái)個(gè)性化LCD的主流發(fā)展趨勢(shì)。   二、 追求高速響應(yīng)時(shí)間         之前LCD顯示器雖然有低輻射、文本顯示效果極佳等優(yōu)點(diǎn),但是由于響應(yīng)時(shí)間的問(wèn)題,一直使...
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 03 - 23
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一、生產(chǎn)工藝        1.工藝:      a)清洗:采用超聲波清洗pcb或led支架,并烘干?! ?#160;   b)裝架:在LED管芯(大圓片)底部電極備上銀膠后進(jìn)行擴(kuò)張,將擴(kuò)張后的管芯(大圓片)安置在刺晶臺(tái)上,在顯微鏡下用刺晶筆將管芯一個(gè)一個(gè)安裝在PCB或LED支架相應(yīng)的焊盤(pán)上,隨后進(jìn)行燒結(jié)使銀膠固化?! ?#160;   c)壓焊:用鋁絲或金絲焊機(jī)將電極連接到LED管芯上,以作電流注入的引線。LED直接安裝在PCB上的,一般采用鋁絲焊機(jī)。(制作白光TOP-LED需要金線焊機(jī))      d)封裝:通過(guò)點(diǎn)膠,用環(huán)氧將LED管芯和焊線保護(hù)起來(lái)。在pcb板上點(diǎn)膠,對(duì)固化后膠體形狀有嚴(yán)格要求,這直接關(guān)系到背光源成品的出光亮度。這道工序還將承擔(dān)點(diǎn)熒光粉(白光led)的任務(wù)。      e)焊接:如果背光源是采用SMD-LED或其它已封裝的LED,則在裝配工藝之前,需要將LED焊接到PCB板上。      f)切膜:用沖床模切背光源所需的各種擴(kuò)散膜、反光膜等?! ?#160;   g)裝配:根據(jù)圖紙要求,將背光源的各種材料手工安裝正...
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 03 - 23
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近年來(lái)顯示技術(shù)發(fā)展很快,平板顯示器以其完全不同的顯示和制造技術(shù)使之同傳統(tǒng)的視頻圖像顯示器有很大的差別。傳統(tǒng)的視頻圖像顯示器主要為陰極射線管CRT (Cathode ray tubes) ;而平板顯示器與之的主要區(qū)別在于重量和體積(厚度) 方面的變化,通常平板顯示器的厚度不超過(guò)10cm (4in) ,當(dāng)然還有其他的不同,如顯示原理、制造材料、工藝以及視頻圖像顯示驅(qū)動(dòng)方面的各項(xiàng)技術(shù)等。       平板顯示器具有完全平面化、輕、薄、省電等特點(diǎn),符合未來(lái)圖像顯示器發(fā)展的必然趨勢(shì)。目前主要的平板顯示器包括: PDP ( Plasma display panel)、LCD( Liquid crystal displays) 、FED( Field emission displays)、 OLED ( Organic light-emitting diode displays ) 以及投影顯示技術(shù)(CRT、LCD、LCOS、DLP)等 。時(shí)代先鋒-----LCD-TV       LCD 器件是眾多平板顯示器件中發(fā)展最快、技術(shù)最成熟、應(yīng)用面最廣、已經(jīng)產(chǎn)業(yè)化并仍在迅猛發(fā)展的一種顯示器件,隨著半導(dǎo)體技術(shù)的不斷發(fā)展,人們已成功地將半導(dǎo)體技術(shù)與LCD 技術(shù)結(jié)合在一起,從而產(chǎn)生了LCD...
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 03 - 23
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低溫多晶硅薄膜晶體管(多晶硅TFT)技術(shù)對(duì)高清晰度LCD仍抱有希望,但只是工程師們要對(duì)工藝結(jié)構(gòu)和驅(qū)動(dòng)方法加以改進(jìn)才行,當(dāng)今,韓國(guó)的一個(gè)公司發(fā)明了一種技術(shù),能加快比以往更明亮,分辯率更高的顯示器的推出。       在傳統(tǒng)的主動(dòng)矩陣LCD的設(shè)計(jì)中,薄膜晶體管是由無(wú)定形硅(a-Si)形成的。生產(chǎn)出來(lái)的晶體管用作各個(gè)像素的開(kāi)關(guān)。這些設(shè)計(jì)都需要能把個(gè)人電腦的信號(hào)轉(zhuǎn)換成適合于顯示器和像素控制的幅度的附加電路。因?yàn)閭鹘y(tǒng)的晶體管無(wú)法用來(lái)驅(qū)動(dòng)這些象素開(kāi)關(guān),廠家必須把客戶(hù)的IC加到驅(qū)動(dòng)和掃描功能的屏上。無(wú)定形硅晶體管的尺寸和功能也限制了每平方英寸能被照明的像素的數(shù)量。結(jié)果,當(dāng)今個(gè)人電腦用a-Si TFT LCD具有每平方英寸從60-90個(gè)像素(PPi)的范圍的像素密度。雖然能獲得200PPi左右的高分辯率的a-Si TFT-LCD一直沒(méi)有幾個(gè),只要使用了外部驅(qū)動(dòng)IC,就會(huì)有生產(chǎn)約束來(lái)限制這些顯示屏的商用可能性。        另一方面,已能生產(chǎn)出分辯率超過(guò)200PPi的低溫多晶硅(LTPS)TFT-LCD來(lái)。為了進(jìn)行比較起見(jiàn),考慮典型的用人眼能分析的最高分辯率是大約350PPI。更好的是因?yàn)樵摴に嚳上趄?qū)動(dòng)器IC和顯示屏間幾千個(gè)差帶式自動(dòng)接合,這可減低成本并能提高顯示屏...
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