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發(fā)布時間: 2016 - 03 - 14
2設(shè)備構(gòu)成及詳細(xì)技術(shù)說明2.1工藝說明 2.2.臺面結(jié)構(gòu)圖如下      3.設(shè)備說明3.1 排風(fēng)系統(tǒng)?●排風(fēng)裝置(排風(fēng)壓力、風(fēng)量根據(jù)實(shí)際情況或客戶要求設(shè)計)將設(shè)備內(nèi)揮發(fā)的有毒氣體抽到車間排風(fēng)管道或戶外(室外排放遵守國家環(huán)保要求),避免擴(kuò)散到室內(nèi);?●排風(fēng)通道內(nèi)設(shè)有風(fēng)量導(dǎo)流板,從而使排風(fēng)效果達(dá)到最佳;?●本體頂部后方自帶強(qiáng)力抽風(fēng)1個風(fēng)道口裝置(每個藥劑槽對應(yīng)一個),排風(fēng)口直徑大于或等于 200mm 與本體焊成一體;?●排風(fēng)口處設(shè)有手動調(diào)節(jié)風(fēng)門,操作人員可根據(jù)情況及時調(diào)節(jié)排風(fēng)量;3.2設(shè)備防護(hù)門:?●本體前方安裝有防護(hù)隔離門,隔離門采用透明PVC板制成,前門可以輕松開合,在清洗過程中,隔離門關(guān)閉,以盡量改善工作環(huán)境并減小對人體的傷害. ?●形式:上下推拉門。3.3 給排水/廢液系統(tǒng)?●給水管路為一路去離子水;?●給排水排廢接頭均為活性連接;?●排放方式均采用氣動控制的方式來保證安全3.4 電氣控制系統(tǒng)?●采用優(yōu)質(zhì)PLC可編程控制器控制全操作過程, ?●人機(jī)界面為觸摸屏,接口中有手動操作、故障報警、安全保護(hù)等功能,各工作位過程完成提前提示報警,觸摸屏選用優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品;?●觸摸屏加鎖定,以防非授權(quán)人員修改或設(shè)定參數(shù);?●所有電控部分需獨(dú)立封閉,帶抽風(fēng)系統(tǒng),獨(dú)立的配電柜?●設(shè)備照明:設(shè)備其它部位--低電壓燈,根據(jù)工作需要可控照明;?●設(shè)備整體采取人性化設(shè)計,方便操作;并裝有漏電保護(hù)和聲光報警提示裝置,保證性能安全可靠;電控部分導(dǎo)線采用耐高溫、耐腐蝕的專用導(dǎo)線,電氣控制部分內(nèi)部還通有壓縮空氣保護(hù),可防水耐腐蝕;?●設(shè)備所有處于腐蝕腔中的線纜均通過PE管進(jìn)行保護(hù),免受腐蝕;?●設(shè)備具有良好的接地裝置;
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 14
設(shè)備概況:(僅做參考)主要功能:本設(shè)備主要手動搬運(yùn)方式,通過對硅片腐蝕、漂洗、等方式進(jìn)行處理,從而達(dá)到一個用戶要求的效果。設(shè)備名稱:KOH  Etch刻蝕清洗機(jī)           設(shè)備型號:CSE-SC-NZD254整機(jī)尺寸(參考):自動設(shè)備約2500mm(L)×1800mm(W)×2400mm(H);被清洗硅片尺寸: 2--6寸(25片/籃)設(shè)備形式:室內(nèi)放置型;操作形式:手動各槽位主要技術(shù)工藝:設(shè)備組成:該設(shè)備主要由清洗部分、抽風(fēng)系統(tǒng)及電控部分組成設(shè)備走向:方案圖按 “左進(jìn)右出”方式,另可按要求設(shè)計“右進(jìn)左出”方式;設(shè)備描述:此裝置是一個全自動的處理設(shè)備。8.0英寸大型觸摸屏(PROFACE/OMRON)顯示 / 檢測 / 操作每個槽前上方對應(yīng)操作按鈕,與觸摸屏互相配合主體材料:德國進(jìn)口10mmPP板,優(yōu)質(zhì)不銹鋼骨架,外包3mmPP板防腐;臺面板為德國10mm PP板;DIW管路及構(gòu)件采用日本進(jìn)口clean-PVC管材,需滿足18M去離子水水質(zhì)要求,酸堿管路材質(zhì)為進(jìn)口PFA/PVDF;采用國際標(biāo)準(zhǔn)生產(chǎn)加工,焊接組裝均在萬級凈化間內(nèi)完成;排風(fēng):位于機(jī)臺后上部工作照明:上方防酸照明三菱、歐姆龍 PLC控制。安全考慮:設(shè)有EMO(急停裝置), 強(qiáng)電弱點(diǎn)隔離所有電磁閥均高于工作槽體工作液面電控箱正壓裝置(CDA Purge)設(shè)備三層防漏  樓盤傾斜   漏液報警  設(shè)備整體置于防漏托盤內(nèi)排放管路加過濾裝置所有槽體折彎成型,可有效避免死角顆粒;更多化學(xué)品相關(guān)濕法腐蝕相關(guān)設(shè)備(KOH腐蝕刻蝕機(jī)、RCA清洗機(jī)、去膠機(jī)、外延片清洗機(jī)、酸堿腐蝕機(jī)、顯影機(jī)等)以及干燥設(shè)備(馬蘭戈尼干燥機(jī)Marangoni、單腔...
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國家能源局、工業(yè)和信息化部、國家認(rèn)監(jiān)委日前聯(lián)合下發(fā)《關(guān)于促進(jìn)先進(jìn)光伏技術(shù)產(chǎn)品應(yīng)用和產(chǎn)業(yè)升級的意見》(以下簡稱《意見》),提出應(yīng)提高光伏產(chǎn)品市場準(zhǔn)入標(biāo)準(zhǔn),支持先進(jìn)技術(shù)產(chǎn)品擴(kuò)大市場,全面實(shí)施“領(lǐng)跑者”計劃,引導(dǎo)光伏技術(shù)進(jìn)步和產(chǎn)業(yè)升級。備受政策支持的光伏行業(yè)再獲利好,令投資者大呼光伏行業(yè)暖春已至。承接2014年利好趨勢,2015年入年以來,光伏行業(yè)已獲包括國務(wù)院、國家能源局、發(fā)改委、工信部在內(nèi)的多個政府機(jī)關(guān)和部委的政策力挺?!蛾P(guān)于下達(dá)2015年光伏發(fā)電建設(shè)實(shí)施方案的通知》、《關(guān)于進(jìn)一步深化電力體制改革的若干意見》等多項(xiàng)核心扶持政策的出臺,對于光伏行業(yè)而言已達(dá)到強(qiáng)有力的提振作用。而此次三部委聯(lián)合發(fā)布的《意見》無疑又是一劑強(qiáng)心針。值得注意的是,區(qū)別于以往政策,三部委此次發(fā)文首次將“領(lǐng)跑者”計劃準(zhǔn)入標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行量化,且明確提出將以政策資金和政府采購方式對“領(lǐng)跑者”先進(jìn)技術(shù)產(chǎn)品進(jìn)行政策傾斜。 “領(lǐng)跑者”需拿技術(shù)說話所謂“領(lǐng)跑者”專項(xiàng)計劃實(shí)則衍生于2015年1月8日發(fā)改委等八部門發(fā)布的《能效“領(lǐng)跑者”制度實(shí)施方案》。能效“領(lǐng)跑者”是指同類可比范圍內(nèi)能源利用效率最高的產(chǎn)品、企業(yè)或單位。具體到此次三部委所提的“領(lǐng)跑者”專項(xiàng)計劃,國家能源局將每年安排專門的市場規(guī)模實(shí)施該計劃,要求項(xiàng)目采用先進(jìn)技術(shù)產(chǎn)品?!兑庖姟分赋?,2015年,“領(lǐng)跑者”先進(jìn)技術(shù)產(chǎn)品應(yīng)達(dá)到以下指標(biāo):多晶硅電池組件和單晶硅電池組件的光...
發(fā)布時間: 2016 - 05 - 31
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SOLAR SIMULATOR SIMULATORMODEL # SS150AAA太陽能模擬器型號   SS150AAAFEATURES 性能 TECHNICAL SPECIFICATIONS 技術(shù)參數(shù)
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 24
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EchoProbe SOFTWARE反射探針軟件setup of Recipes,Data logging,Real time Display 設(shè)置菜單,數(shù)據(jù)記錄,實(shí)時顯示 EchoProbe SOFTWARE反射探針軟件Programable Data Points and Patterns, Variety of Displays可控數(shù)據(jù)點(diǎn),模式,顯示種類 Presentation of Results結(jié)果陳列  Advantages of Optical EchoProbe光學(xué)反射探針優(yōu)勢?  Can measure Si or III/V wafers with or without tape, with Film frame, bumped wafers, bonded wafer - with Si or Glass or Sapphire carriers.可測量膠帶及Si或者III/V裸硅片,帶薄膜框架,凸起硅片,Si或者玻璃粘合硅片?  Not affected by tape thickness, adhesives, pattern structures or non conducting materials不受膠帶厚度,粘合劑,圖案結(jié)構(gòu)或者不導(dǎo)電材料影響?  Non contact tec...
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 24
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Wafer and Membrane Thickness, Warp, TTV硅片和薄膜厚度,彎曲,TTVOptical EchoProbe光學(xué)反射探針 Outline概要?   Introduction簡述?   Measurement Requirements for Wafer Thinning硅片減薄測量要求?   Discussion  of different approaches for Wafer Thickness Measurement硅片厚度檢測不同方法的討論?   Optical  EchoProbe for Wafer Thickness Measurement光學(xué)反射探針的硅片厚度檢測?   Applications應(yīng)用   –  Thickness and Warp after Grinding, Etching研磨,蝕刻后的厚度和翹曲  – Measurement of stacks of non- and semiconducting materials (MEMS)   –半導(dǎo)體材料(MEMS)的堆疊檢測?   Configur...
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 24
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Bump Height Measurement凸起高度測量 Ultra Fast Measurements (UF 800)超快速測量? Acquisition time of 125 μs accomplished with High Speed reference mirror and optical encoder?   高速參考反射鏡和光編碼器使設(shè)備僅需125 μs采集時間?   Ideal  solution for measurement on spinning wafers旋轉(zhuǎn)硅片測量的理想方法?   Pressurized  enclosure for measurement in challenging environments高壓密閉檢測 ?   Software  and hardware interface for customizitation/OEM按客戶需求訂制軟件和硬件界面  413 Optical EchoProbe光學(xué)反射探針Overview about Configurations結(jié)構(gòu)綜述413EC (Manual System手動系統(tǒng))413-200 (Semiautomated system –m...
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 24
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Long Distance Measurement長距離測量  Topography of a strained Wafer w/ Film on Topw已變形硅片構(gòu)形/頂部有薄膜  Real World Samples實(shí)際樣例Mounted Wafers on Elastic Tapes硅片置于橡皮圈膠帶上 Inhomogeneous tapes heavilyscatter light, and complicate measurements不均勻的膠帶使燈光散開,使測量復(fù)雜化(distance between text and tape is  Warp Measurement翹曲檢測?   Warp翹曲: 101.86?   Bow弓起 44.68
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 24
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Applications應(yīng)用?  Wafer Thickness and TTV硅片厚度和TTV?  Topography構(gòu)狀?  Strained wafers已變形的硅片?  Profile depth輪廓深度?  Measurement of Tape膠帶測量?  Warp翹曲?  Bump Height凸起高度?  Ultra Fast Measurements超快速測量 Warp and Dam Thickness?翹曲和壩厚度  Dam Thickness壩厚度  Warp翹曲  Measurement of Wafer Topography硅片圖形測量? wafer topography and thickness using EchoprobeTechnology.硅片圖形和厚度用回射探針技術(shù)? Values on iso-lines are expressed inμm Wafer is concave in the middle.iso線的測量值是以um表示的,硅片中間是凹的   Measurement of Profile Depth輪廓厚度測量High Aspect Rat...
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 24
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Introduction to 128, 128L, 128LC2C Product Line for Film Stress Measurement128 128L 128LC2C薄膜應(yīng)力測試產(chǎn)品簡介128, 128L, 128C2C Product Line Introductions介紹? Product Pictures產(chǎn)品圖片? Basic principles of 128 Line  128產(chǎn)品系列基本原理? Film Stress薄膜應(yīng)力? Dual laser scanner雙激光掃描? Stoney equation for film stress薄膜應(yīng)力Stoney方程式? Who needs the products?誰需要這種產(chǎn)品?? Film property monitor and/or R&D薄膜性能監(jiān)測及研發(fā)? What are the simple specifications?什么是基本參數(shù)?? Film stress range / reproducibility薄膜應(yīng)力范圍/可再生性 128 Film Stress and Flatness Measurement Models ( Room Temperature )薄膜應(yīng)力和平整度測試設(shè)備(室溫) Film Stress & Wafer Yi...
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 23
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Optical EchoProbe 413光學(xué)反射探針Latest Optical Technique最新的光學(xué)技術(shù)Ideal solution for Wafer Backgrind and Etch Thickness Gauging on Si, GaAs or III-Vs, non-conducting materials like Glass, Tape硅片背面研磨蝕刻厚度測量最理想方案用于Si, GaAs或者III-Vs,非導(dǎo)電材料比如玻璃,膠帶 Optical EchoProbe Technology光學(xué)反射探針技術(shù)Low Coherence Interferometry (other than classical interferometry) is suitable for rough surfaces even in the case of speckle imaging. This makes it interesting for industrial use.低相干干擾量度法(不同于傳統(tǒng)的干擾量度法)適用于粗糙表面,甚至是斑點(diǎn)圖象。這另它適用于工業(yè)使用。Fiber-optic implementation of Michelson interferometer LS with low coherence light source 低凝聚光源的邁克...
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 23
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超聲清洗的物理機(jī)制主要是超聲空化,所以要達(dá)到良好的清洗效果必須選擇適當(dāng)?shù)穆晫W(xué)參數(shù)和清洗劑的物理化學(xué)性質(zhì)。  聲強(qiáng)。聲強(qiáng)愈高,空化愈強(qiáng)烈。但聲強(qiáng)達(dá)到一定值后,空化趨于飽和。聲強(qiáng)過大會產(chǎn)生大量氣泡增加散射衰減,同時聲強(qiáng)增大會增加非線性衰減,而減弱遠(yuǎn)離聲源地方的清洗效果?! ☆l率。頻率越高空化閾愈高,也就是說要產(chǎn)生聲空化,頻率愈高,所需要的聲強(qiáng)愈大。例如在水中要產(chǎn)生空化,在400kHz時所需要的功率要比在10kHz時大10倍。一般采用的頻率范圍是20—40kHz。低頻空化強(qiáng)度高,適用于大清洗件表面及污物與清洗件表面結(jié)合強(qiáng)度高的場合,但不易穿透深孔和表面形狀復(fù)雜的部件,且噪聲大;較高頻率雖然空化強(qiáng)度較弱,但噪聲小,適用于較復(fù)雜表面形狀、狹縫及污物與清洗件表面結(jié)合力弱的清洗。聲場分布。穩(wěn)定的混響場對清洗有利,如果清洗槽中有駐波聲場,則因聲壓分布不均勻,清洗件得不到均勻的清洗。因此,在可能的條件下,槽的幾何形狀要選擇適合于建立混合聲場的形狀。除此以外,可以采用雙頻、多頻和掃頻工作方式以避免清洗“死區(qū)”。  清洗液的溫度。溫度升高液體的表面張力系數(shù)和粘滯系數(shù)會下降,因而空化閾值下降,使空化易于產(chǎn)生;但由于溫升,蒸汽壓增大會降低空化強(qiáng)度。水的較佳溫度為60攝氏度,不同的清洗劑有不同的最佳溫度?! ≌硿禂?shù)。粘滯系數(shù)大的液體難于產(chǎn)生空化,而且傳播損失也加大,不利于清洗?! ≌羝麎骸U羝麎旱?,空化閾高...
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 23
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