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發(fā)布時(shí)間: 2016 - 03 - 14
2設(shè)備構(gòu)成及詳細(xì)技術(shù)說明2.1工藝說明 2.2.臺(tái)面結(jié)構(gòu)圖如下      3.設(shè)備說明3.1 排風(fēng)系統(tǒng)?●排風(fēng)裝置(排風(fēng)壓力、風(fēng)量根據(jù)實(shí)際情況或客戶要求設(shè)計(jì))將設(shè)備內(nèi)揮發(fā)的有毒氣體抽到車間排風(fēng)管道或戶外(室外排放遵守國家環(huán)保要求),避免擴(kuò)散到室內(nèi);?●排風(fēng)通道內(nèi)設(shè)有風(fēng)量導(dǎo)流板,從而使排風(fēng)效果達(dá)到最佳;?●本體頂部后方自帶強(qiáng)力抽風(fēng)1個(gè)風(fēng)道口裝置(每個(gè)藥劑槽對(duì)應(yīng)一個(gè)),排風(fēng)口直徑大于或等于 200mm 與本體焊成一體;?●排風(fēng)口處設(shè)有手動(dòng)調(diào)節(jié)風(fēng)門,操作人員可根據(jù)情況及時(shí)調(diào)節(jié)排風(fēng)量;3.2設(shè)備防護(hù)門:?●本體前方安裝有防護(hù)隔離門,隔離門采用透明PVC板制成,前門可以輕松開合,在清洗過程中,隔離門關(guān)閉,以盡量改善工作環(huán)境并減小對(duì)人體的傷害. ?●形式:上下推拉門。3.3 給排水/廢液系統(tǒng)?●給水管路為一路去離子水;?●給排水排廢接頭均為活性連接;?●排放方式均采用氣動(dòng)控制的方式來保證安全3.4 電氣控制系統(tǒng)?●采用優(yōu)質(zhì)PLC可編程控制器控制全操作過程, ?●人機(jī)界面為觸摸屏,接口中有手動(dòng)操作、故障報(bào)警、安全保護(hù)等功能,各工作位過程完成提前提示報(bào)警,觸摸屏選用優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品;?●觸摸屏加鎖定,以防非授權(quán)人員修改或設(shè)定參數(shù);?●所有電控部分需獨(dú)立封閉,帶抽風(fēng)系統(tǒng),獨(dú)立的配電柜?●設(shè)備照明:設(shè)備其它部位--低電壓燈,根據(jù)工作需要可控照明;?●設(shè)備整體采取人性化設(shè)計(jì),方便操作;并裝有漏電保護(hù)和聲光報(bào)警提示裝置,保證性能安全可靠;電控部分導(dǎo)線采用耐高溫、耐腐蝕的專用導(dǎo)線,電氣控制部分內(nèi)部還通有壓縮空氣保護(hù),可防水耐腐蝕;?●設(shè)備所有處于腐蝕腔中的線纜均通過PE管進(jìn)行保護(hù),免受腐蝕;?●設(shè)備具有良好的接地裝置;
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 03 - 14
設(shè)備概況:(僅做參考)主要功能:本設(shè)備主要手動(dòng)搬運(yùn)方式,通過對(duì)硅片腐蝕、漂洗、等方式進(jìn)行處理,從而達(dá)到一個(gè)用戶要求的效果。設(shè)備名稱:KOH  Etch刻蝕清洗機(jī)           設(shè)備型號(hào):CSE-SC-NZD254整機(jī)尺寸(參考):自動(dòng)設(shè)備約2500mm(L)×1800mm(W)×2400mm(H);被清洗硅片尺寸: 2--6寸(25片/籃)設(shè)備形式:室內(nèi)放置型;操作形式:手動(dòng)各槽位主要技術(shù)工藝:設(shè)備組成:該設(shè)備主要由清洗部分、抽風(fēng)系統(tǒng)及電控部分組成設(shè)備走向:方案圖按 “左進(jìn)右出”方式,另可按要求設(shè)計(jì)“右進(jìn)左出”方式;設(shè)備描述:此裝置是一個(gè)全自動(dòng)的處理設(shè)備。8.0英寸大型觸摸屏(PROFACE/OMRON)顯示 / 檢測 / 操作每個(gè)槽前上方對(duì)應(yīng)操作按鈕,與觸摸屏互相配合主體材料:德國進(jìn)口10mmPP板,優(yōu)質(zhì)不銹鋼骨架,外包3mmPP板防腐;臺(tái)面板為德國10mm PP板;DIW管路及構(gòu)件采用日本進(jìn)口clean-PVC管材,需滿足18M去離子水水質(zhì)要求,酸堿管路材質(zhì)為進(jìn)口PFA/PVDF;采用國際標(biāo)準(zhǔn)生產(chǎn)加工,焊接組裝均在萬級(jí)凈化間內(nèi)完成;排風(fēng):位于機(jī)臺(tái)后上部工作照明:上方防酸照明三菱、歐姆龍 PLC控制。安全考慮:設(shè)有EMO(急停裝置), 強(qiáng)電弱點(diǎn)隔離所有電磁閥均高于工作槽體工作液面電控箱正壓裝置(CDA Purge)設(shè)備三層防漏  樓盤傾斜   漏液報(bào)警  設(shè)備整體置于防漏托盤內(nèi)排放管路加過濾裝置所有槽體折彎成型,可有效避免死角顆粒;更多化學(xué)品相關(guān)濕法腐蝕相關(guān)設(shè)備(KOH腐蝕刻蝕機(jī)、RCA清洗機(jī)、去膠機(jī)、外延片清洗機(jī)、酸堿腐蝕機(jī)、顯影機(jī)等)以及干燥設(shè)備(馬蘭戈尼干燥機(jī)Marangoni、單腔...
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【華林科納(江蘇)CSE--導(dǎo)讀】SEMI(國際半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會(huì))發(fā)布最新“全球晶圓廠預(yù)測報(bào)告”(World Fab Forecast),指出全球晶圓廠設(shè)備支出再次刷新紀(jì)錄。報(bào)告顯示,在所有SEMI追蹤的296座前端晶圓廠房與生產(chǎn)線當(dāng)中,有30座晶圓設(shè)備支出超過5億美元。SEMI(國際半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會(huì))發(fā)布最新“全球晶圓廠預(yù)測報(bào)告”(World Fab Forecast),指出全球晶圓廠設(shè)備支出再次刷新紀(jì)錄。報(bào)告顯示,在所有SEMI追蹤的296座前端晶圓廠房與生產(chǎn)線當(dāng)中,有30座晶圓設(shè)備支出超過5億美元。2017年晶圓設(shè)備支出(含全新與整新)預(yù)計(jì)將成長37%,創(chuàng)下550億美元的最新年度支出紀(jì)錄。SEMI同時(shí)也預(yù)測2018年晶圓設(shè)備支出成長率將再度攀升5%,同時(shí)也將再次寫下580億美元的新紀(jì)錄。SEMI臺(tái)灣區(qū)總裁曹世綸表示,先前最高的支出紀(jì)錄是2011年創(chuàng)下的400億美元。按目前情勢來看,2017年支出預(yù)估將比該數(shù)字高出大約150億美元。若依2017年各地區(qū)支出金額來看,全球最高的是韓國,從2016年的85億美元成長至2017年的195億美元,高達(dá)130%的年成長率。根據(jù)全球晶圓廠預(yù)測報(bào)告,2018年韓國依然將是全球晶圓設(shè)備支出最強(qiáng)勁的地區(qū),而中國也將晉升至第二名,達(dá)到125億美元(年成長率66%)。此外,美洲、日本、歐洲/中東等地預(yù)料也將達(dá)到二位數(shù)成長,其他地區(qū)則將繼續(xù)維持在10%以下...
發(fā)布時(shí)間: 2017 - 09 - 28
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【華林科納-CSE導(dǎo)讀】“在新需求驅(qū)動(dòng)下,國產(chǎn)半導(dǎo)體裝備(制造業(yè))正進(jìn)入黃金發(fā)展期?!?月26日,在南京開幕的2017中國集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展研討會(huì)暨第十二屆中國集成電路制造年會(huì)上,北方華創(chuàng)(28.94 +1.51%,診股)總裁趙晉榮表示。“在新需求驅(qū)動(dòng)下,國產(chǎn)半導(dǎo)體裝備(制造業(yè))正進(jìn)入黃金發(fā)展期。”9月26日,在南京開幕的2017中國集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展研討會(huì)暨第十二屆中國集成電路制造年會(huì)上,北方華創(chuàng)(28.94 +1.51%,診股)總裁趙晉榮表示。據(jù)統(tǒng)計(jì),至2020年,全球計(jì)劃新建的晶圓廠項(xiàng)目中,有逾四成將落戶中國,帶來巨大投資機(jī)會(huì)。移動(dòng)互聯(lián)網(wǎng)催發(fā)了芯片市場的持續(xù)增長,新建晶圓廠的熱潮正在給半導(dǎo)體設(shè)備制造商,尤其是國內(nèi)制造商帶來新機(jī)遇。資料顯示,新建一條年產(chǎn)5萬片的最先進(jìn)12英寸晶圓生產(chǎn)線需投資450億元,其中設(shè)備投資占75%以上。據(jù)統(tǒng)計(jì),到2020年,全球?qū)⑿陆?2座晶圓廠,其中26座落戶中國,占比高達(dá)42%,這給國內(nèi)半導(dǎo)體裝備制造商帶來了機(jī)遇?!暗?020年,僅芯片前端設(shè)備的市場規(guī)模就將達(dá)到300億美元至400億美元。”中微半導(dǎo)體董事長兼首席執(zhí)行官尹志堯預(yù)計(jì),中微半導(dǎo)體從事的刻蝕和化學(xué)薄膜設(shè)備將有良好的市場前景?!拔覀兘y(tǒng)計(jì),2016年到2020年,國內(nèi)共有998億美元總投資,半導(dǎo)體設(shè)備投資為748億美元。其中,等離子體刻蝕設(shè)備投資大約為134.7億美元,中微的刻蝕機(jī)可以分得相當(dāng)大的...
發(fā)布時(shí)間: 2017 - 09 - 27
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LED 芯片是一種將直接電能轉(zhuǎn)化為光能的半導(dǎo)體器件,是現(xiàn)代信息產(chǎn)業(yè)的核心器件。隨著我國科學(xué)技術(shù)的不斷進(jìn)步與微電子設(shè)備研制的發(fā)展,國內(nèi)從事芯片設(shè)計(jì)制造企業(yè)也逐漸增長到幾百家,但是他們普遍自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)及自主創(chuàng)新設(shè)計(jì)制造水平不高。LED 芯片制造及高端  封裝技術(shù)是技術(shù)密集型產(chǎn)業(yè),其發(fā)展水平離不開高端工藝與硬件設(shè)備。近年來國內(nèi)微電子設(shè)備產(chǎn)業(yè)急速擴(kuò)張,而支撐其技術(shù)引領(lǐng)的高端設(shè)備卻嚴(yán)重缺乏,發(fā)展瓶頸逐漸成形。目前產(chǎn)業(yè)高端設(shè)備依然依賴國外進(jìn)口,亟需開發(fā)研制自己的高端設(shè)備。LED 封裝就是在保證其芯片無損以及高光取出效率的前提下將外部引線與內(nèi)部芯片電極相互連接。在整個(gè)LED 產(chǎn)業(yè)鏈當(dāng)中,封裝技術(shù)是產(chǎn)業(yè)與市場的連接紐帶,而在 LED 芯片制造和高端封裝過程當(dāng)中去膠這一工藝過程起著非常重要的作用。1 當(dāng)前面向 LED 芯片制造和封裝去膠設(shè)備現(xiàn)狀  隨著科學(xué)技術(shù)水平的不斷發(fā)展,集成電路技術(shù)現(xiàn)已主要通過凸點(diǎn)封裝模式來大幅提升封裝密度與效率。凸點(diǎn)封裝技術(shù)包括了膜沉積、光照、去膠等多項(xiàng)半導(dǎo)體芯片制備技術(shù)?,F(xiàn)代高端封裝工藝一般面向 300 mm 晶圓、65 nm 及以下極大規(guī)模集成電路封裝需求,開發(fā)凸點(diǎn)個(gè)數(shù)3000 以上、間距 20...
發(fā)布時(shí)間: 2017 - 02 - 09
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最新新聞匯總1.先進(jìn)半導(dǎo)體委任CEO洪沨為執(zhí)行董事;2.浙江金瑞泓全面建成8英寸硅片規(guī)模化生產(chǎn)線;3.藍(lán)思周群飛:3D曲面玻璃放量增長機(jī)會(huì)來臨;4.侵權(quán)門再添一員!三星Gear VR涉嫌盜用專利;5.三星大規(guī)模擴(kuò)增產(chǎn)線 面板、半導(dǎo)體設(shè)備廠商喜獲訂單;6.可撓式OLED面板市場規(guī)模將超越硬式OLED 蒸鍍設(shè)備廠受惠最多 1.先進(jìn)半導(dǎo)體委任CEO洪沨為執(zhí)行董事;先進(jìn)半導(dǎo)體發(fā)布公告,于2017年5月16日舉行的公司周年股東大會(huì)批準(zhǔn)委任洪沨為第五屆董事會(huì)執(zhí)行董事,任期由2017年5月16日至2019年3月1日。洪沨博士自 2017 年 2 月 6 日起被委任為公司首席執(zhí)行官。根據(jù)洪沨博士與該公司簽定首席執(zhí)行官之委任的合同,期限自 2017 年 2 月 6 日至 2020 年 2 月 5 日。根據(jù)該合同,洪將獲得每年幣 2,112,768 元人民幣的薪水,按每月幣 176,064 元人民幣的數(shù)額支付。洪博士亦能獲得由董事會(huì)決定高達(dá)幣 683,838 元人民幣的年度變動(dòng)工資,以及獎(jiǎng)金,該部分乃基于洪博士的表現(xiàn)由該公司支付。此外,洪博士亦能獲得每年最高不超過 500,000 元人民幣的住房補(bǔ)貼及子女教育補(bǔ)貼。洪沨博士,1960年生于上海,美國國籍。于1983年獲得復(fù)旦大學(xué)物理學(xué)士學(xué)位,于1986年獲得復(fù)旦大學(xué)電子工程碩士學(xué)位,于1993年獲得美國北卡羅萊納州立大學(xué)材料科學(xué)與工程博士學(xué)位...
發(fā)布時(shí)間: 2017 - 05 - 18
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藍(lán)寶石晶片表面凈化技術(shù)研究  隨著光電子領(lǐng)域?qū)Φ?(GaN)基發(fā)光二極管(LED)的發(fā)光性能要求不斷提高 , 從而對(duì)金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積法 (MOCVD)生長 G aN 的藍(lán)寶石 (α-A l2O3 )襯底晶片的表面質(zhì)量要求越來越嚴(yán), 這主要是因?yàn)樗{(lán)寶石襯底晶片拋光表面的雜質(zhì)沾污會(huì)嚴(yán)重影響 LED的質(zhì)量和成品率 ,對(duì)于開盒即用 (是經(jīng)清洗封裝后的晶片, 從片盒里取出后即可以投入到MOCVD生長爐中直接使用而不需要額外的清洗)的 2英寸藍(lán)寶石襯底晶片,影響 G aN 生長的臨界顆粒尺寸為 0. 3μm,拋光片表面大于 0. 2 μm 的顆粒數(shù)應(yīng)小于 20個(gè) /片。在目前的 LED生產(chǎn)中, 仍有 50%以上的廢品是由于表面污染引起的, 由于在襯底晶片生產(chǎn)中 , 幾乎每道工序都有清洗問題, 所以藍(lán)寶石晶片清洗的好壞對(duì) LED 的發(fā)光性能有嚴(yán)重的影響 , 處理不當(dāng), 可能使全部藍(lán)寶石晶片報(bào)廢, 做不出 LED 管子來, 或者制造出來的 LED性能低劣、穩(wěn)定性和可靠性很差。因此弄清楚藍(lán)寶石晶片清洗的方法和原理 ,不管是對(duì)從事藍(lán)寶石晶片加工還是 LED 生產(chǎn)的人來說都具有十分重要的工程意義。  以下主要針對(duì)藍(lán)寶石晶片的凈化原理 、凈化工藝、凈化效果等方面技術(shù)問題進(jìn)行了研究 , 提出了能夠滿足 G aN 生長要求的藍(lán)寶石晶片的凈化工藝和清洗液的配方 。...
發(fā)布時(shí)間: 2017 - 01 - 19
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導(dǎo)讀: 目前全球硅晶圓已集中在前五大供貨商手中,包括信越半導(dǎo)體、勝高、臺(tái)灣的環(huán)球晶、德國的Silitronic、南韓LG等,全球市占率達(dá)92%,其中勝高是臺(tái)積電最大供貨商,其次是信越,但信越全球市占高達(dá)27%,略高于勝高的26%,預(yù)料在二大硅晶圓廠下半年采取溫和漲價(jià)下...全球前二大半導(dǎo)體硅晶圓廠信越半導(dǎo)體和日本勝高(SUMCO)達(dá)成默契,下半年硅晶圓漲幅僅一成,遠(yuǎn)低于市場傳言的三成,跌破市場眼鏡。此外,勝高也與臺(tái)積電議定四年的供應(yīng)長約,約定漲幅不會(huì)超過四成,凸顯面臨硅晶圓供不應(yīng)求的情況,全球市占超過五成的日本二大半導(dǎo)體硅晶圓廠決定維持溫和調(diào)漲,不希望急漲讓部分停產(chǎn)的小廠死灰復(fù)燃。這也是硅晶圓在連二季大漲后,主要供應(yīng)大廠在價(jià)格策略踩煞車,對(duì)近期市場傳出下半年再漲三成,且明年再漲一倍的傳言,澆了一盆冷水。臺(tái)積電最大硅晶圓供貨商日本勝高,證實(shí)對(duì)臺(tái)積電硅晶圓供應(yīng)價(jià)格不會(huì)如外傳般狂飆,而會(huì)采取溫和且保證長期供應(yīng)穩(wěn)定,不會(huì)恣意漲價(jià)。半導(dǎo)體業(yè)者表示,全球硅晶圓過去因長期處于供過于求,不堪嚴(yán)重虧損,部分業(yè)者逐步停產(chǎn)或出售,例如環(huán)球晶近幾年就相繼收購日本CVS和美國的半導(dǎo)體硅晶圓廠。但前年半導(dǎo)體硅晶圓逐趨供需平穩(wěn),前年下半年一度試著漲價(jià),但短暫調(diào)漲一季后就沉寂。去年下半年,市場擔(dān)心中國大陸晶圓廠產(chǎn)能開出后硅晶圓恐缺貨,因此大量屯積貨源,導(dǎo)致供需產(chǎn)生缺口,甚至連測試片都缺貨,導(dǎo)致今年首季主...
發(fā)布時(shí)間: 2017 - 04 - 25
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光刻版清洗設(shè)備工藝  光刻技術(shù)是大規(guī)模集成電路制造技術(shù)和微光學(xué)、微機(jī)械技術(shù)的先導(dǎo)和基礎(chǔ),他決定了集成電路(IC)的集成度[1]。光刻版在使用過程中不可避免地會(huì)粘上灰塵、光刻膠等污染物,這些污染物的存在直接影響到光刻的效果。近些年,國家將 LED照明列入為重點(diǎn)發(fā)展產(chǎn)業(yè),LED 行業(yè)迅猛發(fā)展。LED 制造過程中,具有光刻版的使用量多,使用頻繁的特點(diǎn)。大多生產(chǎn)廠家為了節(jié)省成本,主要采用接觸式曝光。接觸式曝光雖然可以利用成本低廉的設(shè)備達(dá)到較高的曝光精度,但是由于甩膠式涂膠方法會(huì)造成晶圓邊緣膠層過厚,在接觸式曝光過程中光刻版極易接觸到晶圓邊緣的光刻膠,導(dǎo)致光刻膠粘附到光刻版表面(圖 1)。對(duì)于 IC 行業(yè),因?yàn)榫€條更細(xì),精度要求更高,所以光刻版的潔凈程度更加重要。對(duì)于硅片清洗而言,其顆粒移除率(PRE)不需要達(dá)到 100%,但對(duì)于光刻版而言卻并非如此,其原因是對(duì)于產(chǎn)品良率而言,光刻版表面顆粒的影響更大,單晶圓缺陷只影響一個(gè)缺陷,而一個(gè)光刻版卻影響到每一個(gè)芯片[2,3]。由于零成像缺陷是可以實(shí)現(xiàn)的,工廠內(nèi)生產(chǎn)的光刻版需要經(jīng)常清洗。為了保證光刻版潔凈,必須定期對(duì)光刻版進(jìn)行清洗,而清洗的效果與清洗工藝以及各清洗工藝在設(shè)備上的合理配置有著密切的聯(lián)系。1 光刻版清洗工藝1.1 光刻膠及其他有機(jī)污染物的去除對(duì)于光刻膠及其他有機(jī)污染物,比較常見的方法是通過有機(jī)溶劑將其溶解的方法將其去除...
發(fā)布時(shí)間: 2017 - 01 - 11
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導(dǎo)讀:國內(nèi)近些年開始重視半導(dǎo)體投資,試圖減少對(duì)國外進(jìn)口芯片的依賴,各地陸續(xù)上馬了芯片廠項(xiàng)目。不過據(jù)臺(tái)灣電子時(shí)報(bào)網(wǎng)站4月21日?qǐng)?bào)道,最近多個(gè)項(xiàng)目的建設(shè)暫時(shí)擱置,可能和市場過熱有關(guān)。   國內(nèi)近些年開始重視半導(dǎo)體投資,試圖減少對(duì)國外進(jìn)口芯片的依賴,各地陸續(xù)上馬了芯片廠項(xiàng)目。不過據(jù)臺(tái)灣電子時(shí)報(bào)網(wǎng)站4月21日?qǐng)?bào)道,最近多個(gè)項(xiàng)目的建設(shè)暫時(shí)擱置,可能和市場過熱有關(guān)。 根據(jù)國際半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會(huì)的消息,2017年,中國市場將會(huì)建成的芯片工廠數(shù)量為14家。到2018年,中國半導(dǎo)體行業(yè)設(shè)備投資將超過100億美元,成為全球第二大生產(chǎn)設(shè)備投資國。  眾所周知的是,半導(dǎo)體和芯片廠是一個(gè)投資密集型的產(chǎn)業(yè),建設(shè)一個(gè)工廠需要幾十億甚至是上百億美元的資金。之前,中國中央政府已經(jīng)制定了鼓勵(lì)發(fā)展半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的遠(yuǎn)期計(jì)劃,而各地地方政府也正在積極引進(jìn)項(xiàng)目,發(fā)展芯片制造業(yè)?! ⌒袠I(yè)觀察人士指出,中國芯片廠建設(shè)出現(xiàn)熱潮,和地方政府的支持密切相關(guān)?! 〔贿^最近據(jù)行業(yè)人士觀察,中國的多家12英寸芯片廠建設(shè)項(xiàng)目,暫時(shí)擱置。在半導(dǎo)體行業(yè),12英寸指的是晶圓的直徑,晶圓面積越大,生產(chǎn)芯片的效率也就越高,意味著技術(shù)更加先進(jìn)?! ?jù)消息人士稱,福建晉華集成電路公司計(jì)劃在臺(tái)灣臺(tái)南市建設(shè)芯片廠,而臺(tái)聯(lián)電為該公司進(jìn)行的一些技術(shù)開發(fā)工作已經(jīng)暫停。據(jù)悉,該公司計(jì)劃建設(shè)一座12英寸晶圓的芯片廠,主要生產(chǎn)內(nèi)存芯片,使用臺(tái)聯(lián)電的技...
發(fā)布時(shí)間: 2017 - 04 - 24
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從半導(dǎo)體原材料到轉(zhuǎn)化為各式各樣的集成電路或者分立器件,其轉(zhuǎn)化過程利用了幾百種復(fù)雜程度不同的化學(xué)反應(yīng)。毫無疑問,在半導(dǎo)體的制造工業(yè)中,需要大量的特殊材料和化學(xué)品。芯片制造首要是一種化學(xué)工藝,或者更準(zhǔn)確地說,是一系列的化學(xué) 物理工藝過程,高達(dá)20%工藝步驟是wafer清洗和表面的處理。  近年來光電與光伏半導(dǎo)體工業(yè)發(fā)展迅速,相關(guān)的制程越來越復(fù)雜,線寬越來越窄(已將進(jìn)入納米級(jí)),工藝要求也越來越高,生產(chǎn)過程需要使用大量的化學(xué)藥品,而這些化學(xué)品都具有一定危險(xiǎn)性和腐蝕性,稍有疏忽,就會(huì)造成人員傷亡和設(shè)備的損失,所以如何將這些化學(xué)品在保證品質(zhì)的前提下安全輸送到制程設(shè)備并安全使用是至關(guān)重要的,同時(shí)如何將這些使用過的化學(xué)品合理地回收處理,也將是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)工廠生產(chǎn)安全的重要問題,這些都對(duì)工廠各系統(tǒng)的持續(xù)無故障運(yùn)行能力以及所提供的制程相關(guān)原料品質(zhì)提出了更高的要求。在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)化的生產(chǎn)中,化學(xué)液供應(yīng)系統(tǒng)主要以中央供應(yīng)系統(tǒng)為主,用量較少之化學(xué)液則采取人工供應(yīng)方式。   中央化學(xué)液供應(yīng)系統(tǒng)縮寫為CDS(Chemical Dispense Systerm)或者簡寫為BCD(Bulk Chemical Distribution),它是為生產(chǎn)線24h不間斷供應(yīng)化學(xué)液的系統(tǒng)。一般使用CDS系統(tǒng)的化學(xué)液都有需求量大、危險(xiǎn)性高的特點(diǎn)。 CDS系統(tǒng)上主要供應(yīng)給以下的工藝步...
發(fā)布時(shí)間: 2017 - 01 - 10
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導(dǎo)讀: 近日,由沈陽拓荊科技有限公司建設(shè)的我國首個(gè)半導(dǎo)體薄膜設(shè)備生產(chǎn)基地在沈陽市渾南區(qū)落成投產(chǎn)。近日由沈陽拓荊科技有限公司建設(shè)的我國首個(gè)半導(dǎo)體薄膜設(shè)備生產(chǎn)基地在沈陽市渾南區(qū)落成投產(chǎn)。該基地一期可容納1000人規(guī)模的研發(fā)制造團(tuán)隊(duì),年產(chǎn)能可達(dá)100臺(tái)(套),實(shí)現(xiàn)產(chǎn)值15億元。全部達(dá)產(chǎn)后,年產(chǎn)能可達(dá)350臺(tái)(套)。我國是全球最大的電子制造國。IC即集成電路是電子設(shè)備中最重要的組成部分,承擔(dān)著運(yùn)算和存儲(chǔ)的功能,是計(jì)算機(jī)、數(shù)字家電、通信等行業(yè)的“心臟”。據(jù)行業(yè)協(xié)會(huì)發(fā)布的數(shù)據(jù)顯示,去年,我國集成電路產(chǎn)業(yè)總營收達(dá)4335.5億元,同比增長20.1%。沈陽拓荊科技是由海外技術(shù)專家組建的高新技術(shù)企業(yè),創(chuàng)立于2010年4月。2015年,拓荊科技獲得國家集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金(簡稱“國家大基金”)2.7億元戰(zhàn)略投資,是“國家大基金”在遼寧投資的第一家企業(yè)。同年,拓荊科技新廠區(qū)在沈陽市渾南區(qū)破土動(dòng)工。新廠區(qū)占地面積5.2萬平方米,擁有先進(jìn)的研發(fā)設(shè)備、場所及生產(chǎn)用十級(jí)、百級(jí)和千級(jí)無塵潔凈間,是我國首個(gè)半導(dǎo)體薄膜設(shè)備生產(chǎn)基地。此前,該技術(shù)一直被發(fā)達(dá)國家壟斷,設(shè)備進(jìn)口嚴(yán)重受限,極大地制約了國產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)發(fā)展。作為IC裝備核心裝備之一,該項(xiàng)目的建成一舉填補(bǔ)了國內(nèi)空白,顯著提升了我國集成電路產(chǎn)業(yè)整體競爭力。拓荊科技的產(chǎn)品性能、指標(biāo)達(dá)到國際一流設(shè)備水平,設(shè)備國產(chǎn)化率超過70%,產(chǎn)能是進(jìn)口設(shè)備的1.1倍,成本卻比...
發(fā)布時(shí)間: 2017 - 04 - 18
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