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推薦產品 / 產品中心
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 14
2設備構成及詳細技術說明2.1工藝說明 2.2.臺面結構圖如下      3.設備說明3.1 排風系統(tǒng)?●排風裝置(排風壓力、風量根據實際情況或客戶要求設計)將設備內揮發(fā)的有毒氣體抽到車間排風管道或戶外(室外排放遵守國家環(huán)保要求),避免擴散到室內;?●排風通道內設有風量導流板,從而使排風效果達到最佳;?●本體頂部后方自帶強力抽風1個風道口裝置(每個藥劑槽對應一個),排風口直徑大于或等于 200mm 與本體焊成一體;?●排風口處設有手動調節(jié)風門,操作人員可根據情況及時調節(jié)排風量;3.2設備防護門:?●本體前方安裝有防護隔離門,隔離門采用透明PVC板制成,前門可以輕松開合,在清洗過程中,隔離門關閉,以盡量改善工作環(huán)境并減小對人體的傷害. ?●形式:上下推拉門。3.3 給排水/廢液系統(tǒng)?●給水管路為一路去離子水;?●給排水排廢接頭均為活性連接;?●排放方式均采用氣動控制的方式來保證安全3.4 電氣控制系統(tǒng)?●采用優(yōu)質PLC可編程控制器控制全操作過程, ?●人機界面為觸摸屏,接口中有手動操作、故障報警、安全保護等功能,各工作位過程完成提前提示報警,觸摸屏選用優(yōu)質產品;?●觸摸屏加鎖定,以防非授權人員修改或設定參數;?●所有電控部分需獨立封閉,帶抽風系統(tǒng),獨立的配電柜?●設備照明:設備其它部位--低電壓燈,根據工作需要可控照明;?●設備整體采取人性化設計,方便操作;并裝有漏電保護和聲光報警提示裝置,保證性能安全可靠;電控部分導線采用耐高溫、耐腐蝕的專用導線,電氣控制部分內部還通有壓縮空氣保護,可防水耐腐蝕;?●設備所有處于腐蝕腔中的線纜均通過PE管進行保護,免受腐蝕;?●設備具有良好的接地裝置;
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 14
設備概況:(僅做參考)主要功能:本設備主要手動搬運方式,通過對硅片腐蝕、漂洗、等方式進行處理,從而達到一個用戶要求的效果。設備名稱:KOH  Etch刻蝕清洗機           設備型號:CSE-SC-NZD254整機尺寸(參考):自動設備約2500mm(L)×1800mm(W)×2400mm(H);被清洗硅片尺寸: 2--6寸(25片/籃)設備形式:室內放置型;操作形式:手動各槽位主要技術工藝:設備組成:該設備主要由清洗部分、抽風系統(tǒng)及電控部分組成設備走向:方案圖按 “左進右出”方式,另可按要求設計“右進左出”方式;設備描述:此裝置是一個全自動的處理設備。8.0英寸大型觸摸屏(PROFACE/OMRON)顯示 / 檢測 / 操作每個槽前上方對應操作按鈕,與觸摸屏互相配合主體材料:德國進口10mmPP板,優(yōu)質不銹鋼骨架,外包3mmPP板防腐;臺面板為德國10mm PP板;DIW管路及構件采用日本進口clean-PVC管材,需滿足18M去離子水水質要求,酸堿管路材質為進口PFA/PVDF;采用國際標準生產加工,焊接組裝均在萬級凈化間內完成;排風:位于機臺后上部工作照明:上方防酸照明三菱、歐姆龍 PLC控制。安全考慮:設有EMO(急停裝置), 強電弱點隔離所有電磁閥均高于工作槽體工作液面電控箱正壓裝置(CDA Purge)設備三層防漏  樓盤傾斜   漏液報警  設備整體置于防漏托盤內排放管路加過濾裝置所有槽體折彎成型,可有效避免死角顆粒;更多化學品相關濕法腐蝕相關設備(KOH腐蝕刻蝕機、RCA清洗機、去膠機、外延片清洗機、酸堿腐蝕機、顯影機等)以及干燥設備(馬蘭戈尼干燥機Marangoni、單腔...
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[關鍵詞:半導體設備]半導體設備商應用材料(Applied Materials)日前宣布,材料工程獲得技術突破,能在大數據與人工智能(AI)時代加速芯片效能。應用材料表示,20 年來首樁晶體管接點與導線的重大金屬材料變革,能解除 7 納米及以下晶圓工藝主要的效能瓶頸,由于鎢(W)在晶體管接點的電性表現與銅(Cu)的局部終端金屬導線工藝都已逼近物理極限,成為 FinFET 無法完全發(fā)揮效能的瓶頸,因此芯片設計者在 7 納米以下能以鈷(Co)金屬取代鎢與銅,藉以增進 15% 芯片效能。目前中國半導體設備以蝕刻、薄膜及 CMP 發(fā)展腳步最快,此部分將以打入主流廠商產線、取得認證并藉此建立量產數據為目標,朝向打入先進工藝的前段晶體管工藝之遠期目標相當明確,然而相較國際主流半導體設備廠商的技術水平,中國半導體設備廠商仍是追隨者角色,因此鈷取代鎢和銅的趨勢確立,將影響中國半導體設備廠商尤其是蝕刻、薄膜及 CMP 的研究發(fā)展方向。 (出自:拓墣產業(yè)研究院)更多半導體設備相關新聞可以關注華林科納(江蘇)半導體設備公司 regal-bio.cn 18913575037
發(fā)布時間: 2018 - 07 - 03
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電子工廠化學品供應與回收系統(tǒng)概述由于電子產業(yè)的生產需要使用大量的化學品,而這些化學 品都具有一定危險性,稍有疏忽,就會造成重大的人員傷亡 和設備的損失,因此,如何將這些化學品在保證品質的前提下安全輸送到使用點,如何將這些使用過的化學品合理地回 收處理,將是電子工廠生產安全的重要問題。由此看來,電 子工廠中化學品的供應與回收系統(tǒng)之改進、優(yōu)化仍是值得探 究的。 原來國內大規(guī)模集成電路生 產線所需的化學品供給、回收系統(tǒng)管道完全由海外公司承攬施工,隨著國內 IC 制造業(yè)的發(fā)展,國內一流的 IC 工廠建設公司已經開始打破這一局面,涉足該系統(tǒng)的施工,為我國電 子行業(yè)的自主發(fā)展添加了助推劑。 本文就新型顯示器件廠(簡稱 LCD)和集成電路芯片廠 (簡稱芯片廠)的化學品供應和回收系統(tǒng)進行在系統(tǒng)類型、 基本構成、主要安全技術措施等方面做了些總結, 可供系統(tǒng)優(yōu)化時參考。 1 化學品供應系統(tǒng) 1.1 化學品供應系統(tǒng)的分類 化學品供應系統(tǒng)在國外一些企業(yè)稱為 CDS(Chemical Dispense System) 或 簡 寫 為 BCD (Bulk chemical distribution),它是為生產線 24 小時不間斷供應化學品的 系統(tǒng)。供應系統(tǒng)供應的化學品一般使用量較大或有多臺設備 使用,屬于遠距離輸送,不適用使用量少或是使用前存放時間有限制的化學品(通常需用特殊的包裝輸送到使用點)。...
發(fā)布時間: 2017 - 04 - 06
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近日,華潤微電子(重慶)有限公司揭牌暨戰(zhàn)略合作備忘錄簽約活動在西永微電園舉行?,F場,華潤微電子控股有限公司、重慶市經信委、重慶西永微電子產業(yè)園區(qū)開發(fā)有限公司簽署了戰(zhàn)略合作協(xié)議,三方將致力于將華潤微電子(重慶)有限公司打造為全國最大的功率半導體基地,促進重慶市集成電路產業(yè)發(fā)展。 據悉,華潤微電子控股有限公司是國內唯一純國資、全產業(yè)鏈,并實現產品設計自主、制造過程可控的微電子企業(yè)。隨著央企間產業(yè)重組整合全面展開,去年11月6日,經國務院國資委批復,同意將中航航空電子系統(tǒng)有限責任公司所持中航(重慶)微電子有限公司股權,劃轉給華潤微電子控股有限公司。在此背景下,去年12月28日,華潤微電子(重慶)有限公司正式揭牌成立。據悉,本次整合在中國半導體產業(yè)發(fā)展史上創(chuàng)造了三項第一:央企間微電子業(yè)務的第一次重組;國內半導體產業(yè)關鍵戰(zhàn)略資源(8英寸晶圓生產線)的第一次整合;國內分立器件產品和業(yè)務規(guī)模最大的一次整合。整合后,華潤微電子控股有限公司的功率器件業(yè)務將占國內市場份額的6.5%。根據簽約,華潤微電子(重慶)有限公司成立后,將設立國家級功率半導體研發(fā)中心、建設國內最大的功率半導體制造中心,同時完善上下游產業(yè)鏈等。協(xié)議的簽署,不僅能將晶圓制造升級擴產,還將帶來從原材料制造、IC設計到封裝測試的完整產業(yè)鏈條,帶動重慶集成電路產業(yè)基地升級。 (出自:重慶日報)更多半導體、集成電路、MEMS器件等...
發(fā)布時間: 2018 - 01 - 11
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目前半導體業(yè)發(fā)展的市場越來越巨大,而半導體工藝設備則為半導體大規(guī)模制造提供制造基礎,今天華林科納半導體CSE的小編為大整理了一套最全的半導體材料工藝設備匯總。1、單晶爐 設備名稱:單晶爐。設備功能:熔融半導體材料,拉單晶,為后續(xù)半導體器件制造,提供單晶體的半導體晶坯。主要企業(yè)(品牌):國際:德國PVA TePla AG公司、日本Ferrotec公司、美國QUANTUM DESIGN公司、德國Gero公司、美國KAYEX公司。國內:西安理工晶科、常州華盛天龍、上海漢虹、西安華德、上海申和熱磁、上虞晶盛、晉江耐特克、寧夏晶陽、常州江南、沈陽科儀公司。2、氣相外延爐設備名稱:氣相外延爐。設備功能:為氣相外延生長提供特定的工藝環(huán)境,實現在單晶上,生長與單晶晶相具有對應關系的薄層晶體,為單晶沉底實現功能化做基礎準備。氣相外延即化學氣相沉積的一種特殊工藝,其生長薄層的晶體結構是單晶襯底的延續(xù),而且與襯底的晶向保持對應的關系。主要企業(yè)(品牌): 國際:美國CVD Equipment公司、美國GT公司、法國Soitec公司、法國AS公司、美國ProtoFlex公司、美國科特·萊思科(Kurt J.Lesker)公司、美國Applied Materials公司。國內:中國電子科技集團第四十八所、青島賽瑞達、合肥科晶材料技術有限公司、北京金盛微納、濟南力冠電子科技有限公司。3、分子...
發(fā)布時間: 2017 - 04 - 05
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2018年內存更加供不應求 降價已無可能據集邦咨詢(TrendForce)公布的最新調查報告,進入第四季度后,三星、SK海力士、美光這三大DRAM顆粒巨頭都已經基本規(guī)劃好了明年的路線圖,資本支出都趨于保守,意味著大規(guī)模產能擴張已經不可能,甚至制程工藝前進的腳步也會緩慢下來。畢竟,商人都是以賺錢為目的的,DRAM大廠明年的首要目標就是獲得持續(xù)而且穩(wěn)定的利潤,價格則要至少維持在今年下半年的水平。集邦咨詢估計,2018年DRAM產業(yè)的供應增幅只會有大約19.6%,是近幾年的一個地點,而市場需求增幅將有20.6%,也就是說整個市場供需關系會更加緊張。從需求端看,勢頭強勁的主要是手機內存容量提升,以及服務器/數據中心的巨大缺口,而供給端方面,產能吃緊自然需要新建工廠,但建設一座300毫米晶圓廠至少一年,再加上設備投入和調試,即便現在行動,效果出來也要到2019年了。關鍵是,2018年三大廠商的晶圓產能增幅預計只有區(qū)區(qū)5-7%,主要來自現有產能的重新分配和制造工藝的升級。具體廠商方面,三星電子的產能增加空間很有限,目前月均DRAM晶圓產能平均為39萬塊,而能擴充的工廠只有Line 17和一部分Line 15,因此三星計劃在韓國京畿道平澤市新建第二座300毫米DRAM晶圓廠。SK海力士同樣受困于產能不足:M10工廠較老無法轉入18nm,改而做代工去了;M14工廠規(guī)格高于最初計劃,預計年底可達8萬...
發(fā)布時間: 2017 - 10 - 23
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由全球半導體協(xié)會中國委員會主辦的全球規(guī)模最大、規(guī)格最高的半導體展SEMICON/FPD China 2017 國際半導體展3月14-16日在上海舉辦。這是全球半導體業(yè)界連續(xù)六年規(guī)格最高、規(guī)模最大的“嘉年華”,近900家展商在展會現場與逾6萬名專業(yè)觀眾互動。華林科納半導體CSE在此次展會參展的產品吸引了很多客戶前來觀展。
發(fā)布時間: 2017 - 03 - 17
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2017年全球晶圓代工市場規(guī)模將達550億美元 關鍵詞:晶圓、晶圓硅片清洗機晶圓是指硅半導體集成電路制作所用的硅晶片,由于其形狀為圓形,故稱為晶圓;在硅晶片上可加工制作成各種電路元件結構,而成為有特定電性功能之IC產品。晶圓的原始材料是硅,而地殼表面有用之不竭的二氧化硅。二氧化硅礦石經由電弧爐提煉,鹽酸氯化,并經蒸餾后,制成了高純度的多晶硅,其純度高達99.999999999%。據了解,截止2016年12月,全球折合成8寸晶圓的產能為每月1711.4萬片;其中中國大陸全球市場占有率接近11%,相比2015年上升了1.1個百分點,僅次于臺灣、韓國、日本和北美。臺灣、韓國、日本是主要的晶圓產地,晶圓產能占全球晶圓產能的59.3%。臺灣、韓國、日本是主要的晶圓產地,占比達59.30%,而大陸產能占比為10.80%。而華林科納(江蘇)CSE一直致力于開發(fā)生產半導體晶圓清洗設備,其制造的晶圓硅片清洗機、甩干機、單片清洗機等設備廣受業(yè)界好評。從供給端來看,2016年中國地區(qū)晶圓制造產能僅占全球10.8%,而消費市場占全球33%,中國半導體市場供需關系嚴重失衡。另據了解,2016年全球晶圓代工工廠營業(yè)收入前十排名分別是臺積電、格羅方德、聯(lián)華電子、中芯國際、力晶半導體、TowerJazz、世界先進、華虹宏力、Dongbu HiTek和X-Fab。其中,前四大晶圓代工廠為臺積電、格羅方德、...
發(fā)布時間: 2017 - 10 - 09
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3月14日,由國際半導體產業(yè)協(xié)會(SEMI)中國委員會主辦的SEMICON China 2017國際半導體展在上海新國際博覽中心開幕。蘇州華林科納半導體設備技術有限公司此次參展給大家?guī)砹税雽w濕法清洗解決方案,與眾多專業(yè)觀眾以及行業(yè)伙伴進行了現場交流,深入交流了半導體濕法清洗的相關技術要求以及工藝,其中 單片清洗機、黑硅制絨設備、晶圓電鍍設備、濕法刻蝕機設備、甩干機以及兆聲清洗機受到很多客戶詳詢,現場人氣也是爆滿。更多半導體濕法腐蝕清洗相關的新聞請關注regal-bio.cn
發(fā)布時間: 2017 - 03 - 14
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【華林科納(江蘇)CSE-導讀】“在新需求驅動下,國產半導體裝備(制造業(yè))正進入黃金發(fā)展期。”近日,在南京開幕的2017中國集成電路產業(yè)發(fā)展研討會暨第十二屆中國集成電路制造年會上,北方華創(chuàng)總裁趙晉榮表示。據統(tǒng)計,至2020年,全球計劃新建的晶圓廠項目中,有逾四成將落戶中國,帶來巨大投資機會。本文關鍵詞:半導體裝備; 集成電路; 晶圓廠; 移動互聯(lián)網催發(fā)了芯片市場的持續(xù)增長,新建晶圓廠的熱潮正在給半導體設備制造商,尤其是國內制造商帶來新機遇。資料顯示,新建一條年產5萬片的最先進12英寸晶圓生產線需投資450億元,其中設備投資占75%以上。據統(tǒng)計,到2020年,全球將新建62座晶圓廠,其中26座落戶中國,占比高達42%,這給國內半導體裝備制造商帶來了機遇。 “到2020年,僅芯片前端設備的市場規(guī)模就將達到300億美元至400億美元。”中微半導體董事長兼首席執(zhí)行官尹志堯預計,中微半導體從事的刻蝕和化學薄膜設備將有良好的市場前景。“我們統(tǒng)計,2016年到2020年,國內共有998億美元總投資,半導體設備投資為748億美元。其中,等離子體刻蝕設備投資大約為134.7億美元,中微的刻蝕機可以分得相當大的份額?!?#160;另據趙晉榮介紹,北方華創(chuàng)的半導體裝備包括14納米邏輯工藝裝備解決方案、8/12英寸先進封裝工藝裝備解決方案、6/8英寸微機電系統(tǒng)(MEMS)/化...
發(fā)布時間: 2017 - 09 - 29
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CSE華林科納——誠邀各位業(yè)內朋友蒞臨參觀我司在SEMICON China 2017的展位,歡迎大家一起交流與探討,以便于更深的合作;我們的技術團隊會在T1館T113展位恭候大家的光臨,希望我們的技術和經驗能夠幫助大家解決半導體、光伏、MEMS等行業(yè)在濕法腐蝕清洗中遇到的問題和挑戰(zhàn)。如何能找到我們我們的展位在 TI 館 T113 展位。公司的介紹蘇州華林科納半導體設備技術有限公司(簡稱CSE)成立于2008年3月,總投資4500萬元;  目前已形成濕法清洗系統(tǒng)、刻蝕系統(tǒng)、CDS系統(tǒng)、尾氣處理系統(tǒng)的四大系列數十種型號的產品;廣泛應用于大規(guī)模集成電路電力電子器件、光電子器件、MEMS和太陽能電池等領域。 公司注重持續(xù)創(chuàng)新和技術改進,目前已擁有發(fā)明專利技術18項,并多次獲得國家高新技術產品認定證書,肯定了企業(yè)的整體實力。 10多年以來始終為半導體和太陽能行業(yè)提供創(chuàng)新的專用的濕法工藝解決方案; 以技術創(chuàng)新為支撐,以精細管理做保證,以優(yōu)質的產品和優(yōu)良的服務贏得了各界用戶的贊許和信賴。你可能會感興趣的設備此外,我們也給大家準備了豐富禮品,期待大家的參與;重要的事再重復一遍哦CSE華林科納將參加2017年慕尼黑上海半導體展SEMICON CHINA誠邀各位業(yè)內朋友蒞臨參觀、洽談!展位號:T113時間:2017年3月14日—16日上海新國際博覽中心 T館地址:上海市浦東新區(qū)龍陽...
發(fā)布時間: 2017 - 03 - 11
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