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始于90年代末

濕法制程整體解決方案提供商

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發(fā)布時(shí)間: 2016 - 03 - 10
太陽(yáng)能硅片制絨腐蝕清洗機(jī)-CSE在光伏發(fā)電領(lǐng)域,由于多晶硅電池片成本較低,其 市 場(chǎng) 占有率已躍居首位,但相對(duì)于單晶硅電池片而言仍存在著反 射率較高、電池效率不足的缺陷。為縮小多晶硅太陽(yáng)能電池 片與單晶硅太陽(yáng)能電池片之間的差距,采用織構(gòu)化多晶硅表 面的方法提高多晶硅片吸光能力是一條行之有效的途徑。目前,多晶硅表面織構(gòu)化的方法主要有機(jī)械刻槽、激光刻槽、反應(yīng)離子體蝕刻、酸腐蝕制絨等,其中各 向同性酸腐制絨技術(shù)的工藝簡(jiǎn)單,可以較容易地整合到多晶 硅太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)工序中,同時(shí)成 本 最 低,因 而 在 大 規(guī) 模 的工業(yè)生產(chǎn)中得到了廣泛的應(yīng)用。更多的太陽(yáng)能硅片制絨腐蝕清洗機(jī)設(shè)備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(regal-bio.cn),現(xiàn)在熱線咨詢(xún)400-8768-096可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體清洗解決方案。
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 12 - 05
花籃/片盒清洗機(jī)-華林科納CSE 完美適應(yīng)當(dāng)前所有型號(hào)的花籃和片盒、傳輸片盒、前端開(kāi)口片盒(Foup片盒)的清洗和干燥系統(tǒng)優(yōu)點(diǎn)裝載晶圓直徑至200mm的花籃和片盒—或不同晶圓尺寸的花籃和片盒,同時(shí)可裝載晶圓直徑至300mm的前端開(kāi)口片盒(Foup片盒)三種設(shè)備尺寸滿(mǎn)足客戶(hù)特殊需求 CleanStep I – 用于4組花籃和片盒加載和清洗能力:每次4組花籃和片盒清洗產(chǎn)能:每小時(shí)12組花籃和片盒 CleanStep II – 用于8組花籃和片盒加載和清洗能力:每次8組花籃和片盒清洗產(chǎn)能:每小時(shí)24組花籃和片盒 CleanStep III – 用于6組前端開(kāi)口片盒(Foup)加載和清洗能力:每次6組前端開(kāi)口片盒(Foup片盒)清洗產(chǎn)能:每小時(shí)18組前端開(kāi)口片盒(Foup片盒) 適用于晶圓直徑至200mm的花籃和片盒的標(biāo)準(zhǔn)旋轉(zhuǎn)籠(Cleanstep I/II) 適用于所有片盒一次清洗過(guò)程 或是同時(shí)4組花籃和片盒,或是12個(gè)花籃(Cleanstep I/II) 簡(jiǎn)單快捷的對(duì)不同尺寸的片盒和花籃進(jìn)行切換 旋轉(zhuǎn)籠內(nèi)的可旋轉(zhuǎn)載體方便加載或卸載花籃和片盒 通過(guò)控制系統(tǒng)對(duì)自鎖裝置的檢測(cè),達(dá)到安全加載片盒和花籃,及其運(yùn)行特征和優(yōu)點(diǎn)可應(yīng)用不同化學(xué)品(稀釋劑)來(lái)清洗 泵傳輸清洗液 計(jì)量調(diào)整可通過(guò)軟件設(shè)置控制操作熱水噴淋裝置 熱水一般由廠務(wù)供應(yīng) — 標(biāo)準(zhǔn)化 或有一個(gè)體積約100升的熱水預(yù)備槽(循環(huán)泵和加熱棒用于熱水預(yù)備槽—選項(xiàng)) 籠子 帶有可變速旋轉(zhuǎn)的控制的高扭矩伺服電機(jī)(按照加載量和設(shè)備配置,最大旋轉(zhuǎn)速度200rpm,) 旋轉(zhuǎn)的不銹鋼籠子 會(huì)自動(dòng)停止工作(運(yùn)行過(guò)程中出現(xiàn)失衡狀態(tài)時(shí))熱空氣干燥 頂端吹下熱空氣 采用根據(jù)設(shè)備待機(jī)和工藝運(yùn)行模式的可調(diào)風(fēng)量的風(fēng)扇裝置 不銹鋼架上裝有加熱器,可以溫度控制 軟件監(jiān)控溫度 帶有反壓控制的高效過(guò)濾器輔助功能和操作控制 觸摸屏安裝在前面—標(biāo)準(zhǔn)化 也...
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 03 - 07
RCA濕法腐蝕清洗機(jī)設(shè)備——華林科納CSE華林科納CSE濕法處理設(shè)備是國(guó)內(nèi)最早致力于集成電路濕法設(shè)備的研制單位,多年來(lái)與眾多的集成電路生產(chǎn)企業(yè)密切合作,研制開(kāi)發(fā)出適合于4吋-8吋的全自動(dòng)系列濕法處理設(shè)備設(shè) 備 名  稱(chēng)華林科納(江蘇)CSE-RCA濕法腐蝕清洗機(jī)使 用 對(duì) 象硅晶片2-12inch適 用 領(lǐng)  域半導(dǎo)體、太陽(yáng)能、液晶、MEMS等設(shè) 備 用 途硅晶片化學(xué)腐蝕和清洗的設(shè)備主體構(gòu)造特點(diǎn)1. 設(shè)備包括:設(shè)備主體、電氣控制部分、化學(xué)工藝槽、純水清洗槽等;并提供與廠務(wù)供電、供氣、供水、排廢水、排氣系統(tǒng)配套的接口等。2.設(shè)備為半敞開(kāi)式,主體使用進(jìn)口WPP15和10mm厚板材,結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)充分考慮長(zhǎng)期工作在酸腐蝕環(huán)境,堅(jiān)固耐用,雙層防漏,機(jī)臺(tái)底盤(pán)采用德國(guó)產(chǎn)瓷白PP板,熱焊接而成,可長(zhǎng)期工作在酸堿腐蝕環(huán)境中3.主體:設(shè)備為半敞開(kāi)式,主體使用進(jìn)口WPP15和10mm厚板材,結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)充分考慮長(zhǎng)期工作在酸腐蝕環(huán)境,堅(jiān)固耐用,雙層防漏,機(jī)臺(tái)底盤(pán)采用德國(guó)產(chǎn)瓷白PP板,熱焊接而成,可長(zhǎng)期工作在酸堿腐蝕環(huán)境中;4.骨 架:鋼骨架+PP德國(guó)勞施領(lǐng)板組合而成,防止外殼銹蝕。5.儲(chǔ)物區(qū):位于工作臺(tái)面左側(cè),約280mm寬,儲(chǔ)物區(qū)地板有漏液孔和底部支撐;6.安全門(mén):前側(cè)下開(kāi)透明安全門(mén),腳踏控制;7.工藝槽:模組化設(shè)計(jì),腐蝕槽、純水沖洗槽放置在一個(gè)統(tǒng)一的承漏底盤(pán)中。底盤(pán)采用滿(mǎn)焊接工藝加工而成,杜絕機(jī)臺(tái)的滲漏危險(xiǎn);8.管路系統(tǒng):位于設(shè)備下部,所有工藝槽、管路、閥門(mén)部分均有清晰的標(biāo)簽注明;藥液管路采用PFA管,純水管路采用白色NPP噴淋管,化學(xué)腐蝕槽廢液、沖洗廢水通過(guò)專(zhuān)用管道排放;9.電氣保護(hù):電器控制、氣路控制和工藝槽控制部份在機(jī)臺(tái)頂部電控區(qū),電氣元件有充分的防護(hù)以免酸霧腐蝕以保障設(shè)備性能運(yùn)行穩(wěn)定可靠;所有可能與酸霧接...
發(fā)布時(shí)間: 2020 - 04 - 21
拋光液供液系統(tǒng)//拋光液供酸系統(tǒng)//拋光液供液設(shè)備//拋光液供酸設(shè)備設(shè)備功能1.提供拋光液和表面活性劑供應(yīng)緩存桶,從而保證設(shè)備工藝流量穩(wěn)定;2.提供溫度,PH值控制,以滿(mǎn)足拋光設(shè)備的工藝需求;3.滿(mǎn)足stock slurry循環(huán)使用需求;特點(diǎn):1.所有Tank箱體采用SUS304框架+米黃PVC 保管,需配置排氣,排液,排漏以及漏液檢測(cè)報(bào)警。2.Tank材質(zhì)采用NPP或PVDF以上,管道使用PFA,選用材料對(duì)slurry無(wú)顆粒和金屬污染(包括Pump內(nèi)部與Slurry接觸部分);3.Stock slurry tank配置chiller(指定ORION CHILLER)和heater,4.Tank內(nèi)的 Slurry 以及Surfactant處于常時(shí)循環(huán)狀態(tài), 供應(yīng)設(shè)備管路末端有壓力表;5.為檢測(cè)Tank內(nèi) Slurry 以及Surfactant的容量(Level), 配置***個(gè)**液位傳感器;6.所有Tank配置水槍?zhuān)瑫r(shí)slurry桶上部能開(kāi)啟,以方便沖洗Tank。7.所有的 Tank內(nèi)要配置溫度和PH sensor,同時(shí)需要將數(shù)據(jù)同步傳送給設(shè)備主機(jī);8.Tank使用控制面板進(jìn)行顯示和操作控制。 供液泵使用磁力泵或磁浮泵,滿(mǎn)足現(xiàn)場(chǎng)實(shí)際揚(yáng)程,流量等能力需求。9. 每個(gè)tank外部供應(yīng)管路配置有自動(dòng)配送閥并由設(shè)備自我控制。更多拋光液供液系統(tǒng)//拋光液供酸系統(tǒng)//拋光液供液設(shè)備//拋光液供酸設(shè)備可以關(guān)注華林科納(江蘇)半導(dǎo)體設(shè)備有限公司官網(wǎng)regal-bio.cn,熱線0513-87733829
發(fā)布時(shí)間: 2017 - 12 - 19
片盒清洗機(jī)-華林科納CSE 設(shè)備概況:主要功能:本設(shè)備主要手動(dòng)/自動(dòng)搬運(yùn)方式,通過(guò)對(duì)片盒化學(xué)液體浸泡、沖洗、漂洗、鼓泡、快排等方式進(jìn)行處理,從而達(dá)到一個(gè)用戶(hù)要求的效果。設(shè)備名稱(chēng):片盒清洗機(jī)設(shè)備型號(hào):CSE-SC-N259整機(jī)尺寸(參考):約1700mm(L)×1400mm(W)×2000mm(H);(該設(shè)備非標(biāo)定制)操作形式:手動(dòng) 設(shè)備組成該設(shè)備主要由清洗部分、抽風(fēng)系統(tǒng)及電控部分組成 設(shè)備描述此裝置是一個(gè)手動(dòng)的處理設(shè)備;設(shè)備前上方有各閥門(mén)、工藝流程的控制按鈕、指示燈、觸摸屏(PROFACE/OMRON)、音樂(lè)盒等,操作方便;主體材料:德國(guó)進(jìn)口 10mmPP 板,優(yōu)質(zhì)不銹鋼骨架,外包 3mmPP 板防腐;臺(tái)面板為德國(guó) 10mm PP 板;DIW 管路及構(gòu)件采用日本進(jìn)口 clean-PVC 管材,需滿(mǎn)足 18MW去離子水水質(zhì)要求;采用國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)生產(chǎn)加工,焊接組裝均在萬(wàn)級(jí)凈化間內(nèi)完成排風(fēng):位于機(jī)臺(tái)后上部工作照明:上方防酸照明安全考慮:1. 設(shè)有 EMO(急停裝置)2. 強(qiáng)電弱點(diǎn)隔離3. 所有電磁閥均高于工作槽體工作液面4. 設(shè)備排風(fēng)口加負(fù)壓檢測(cè)表5. 設(shè)備三層防漏 漏盤(pán)傾斜 漏液報(bào)警 設(shè)備整體置于防漏托盤(pán)內(nèi) 更多的花籃和片盒清洗機(jī)設(shè)備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(regal-bio.cn),現(xiàn)在熱線咨詢(xún)400-8768-096 18913575037可立即獲取免費(fèi)的片盒清洗機(jī)解決方案。
發(fā)布時(shí)間: 2017 - 12 - 06
自動(dòng)供液系統(tǒng)(CDS)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-CDS自動(dòng)供液系統(tǒng) 適用對(duì)象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進(jìn)行配送,經(jīng)管道至設(shè)備;具有自動(dòng)化程度高,配比精確,操作簡(jiǎn)便等特點(diǎn);具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩?dòng)控制模式、自動(dòng)控制模式設(shè)備名稱(chēng)華林科納(江蘇)CSE-CDS自動(dòng)供液系統(tǒng)設(shè)備型號(hào)CSE-CDS-N2601設(shè)計(jì)基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡(jiǎn)稱(chēng):CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房?jī)?nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房;3. 設(shè)備材質(zhì)說(shuō)明(酸堿類(lèi)):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運(yùn)送到制程使用點(diǎn);5. 過(guò)濾器:配有10” PFA材質(zhì)過(guò)濾器外殼;6. 供液泵:每種化學(xué)液體配有兩臺(tái)或者一臺(tái) PTFE材質(zhì)的進(jìn)口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類(lèi)采用一般型靜電容近接開(kāi)關(guān);8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測(cè)器與警報(bào)功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能:每種化學(xué)液體配兩個(gè)桶(自動(dòng)切換)、配兩臺(tái)泵(一用一備)、帶過(guò)濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動(dòng)化與親和力。在...
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 06 - 13
設(shè)備名稱(chēng):晶棒腐蝕機(jī)---CSE產(chǎn)品描述:        ●此設(shè)備自動(dòng)化程度高,腐蝕清洗裝置主要由水平通過(guò)式腐蝕清洗主體(槽體部分/管路部分等),移動(dòng)機(jī)械傳送裝置,CDS系統(tǒng),抽風(fēng)系統(tǒng),電控及操作臺(tái)等部分組成;         ●進(jìn)口優(yōu)質(zhì)透明PVC活動(dòng)門(mén)(對(duì)開(kāi)/推拉式),保證設(shè)備外部環(huán)境符合勞動(dòng)保護(hù)的相關(guān)標(biāo)準(zhǔn),以保證設(shè)備操作人員及其周?chē)ぷ魅藛T的身體健康;         ●機(jī)械臂定位精度高;         ●整體設(shè)備腐蝕漂洗能力強(qiáng),性能穩(wěn)定,安全可靠;         ●設(shè)備成本合理,自動(dòng)化程度高,使用成本低;技術(shù)先進(jìn),結(jié)構(gòu)合理,適宜生產(chǎn)線上大批次操作.         ●非標(biāo)設(shè)備,根據(jù)客戶(hù)要求具體定制,歡迎詳細(xì)咨詢(xún)!更多半導(dǎo)體清洗設(shè)備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(www.hlcas.com),現(xiàn)在熱線咨詢(xún)400-8768-096可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體清洗解決方案。
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Marangoni 干燥 Marangoni 馬蘭戈尼干燥是基于 Marangoni 效應(yīng)發(fā)展起來(lái)的干燥技術(shù)。典型的 Marangoni 干燥過(guò)程如圖 4 所示。晶片進(jìn)入干燥系統(tǒng)后,在水槽內(nèi)溢流。由氮?dú)鈹y帶 IPA 氣體充滿(mǎn)系統(tǒng),在水面上形成 IPA 氣體環(huán)境。隨后晶片與水面緩慢脫離(可通過(guò)晶片提拉上升或緩慢排水兩種方式實(shí)現(xiàn)) 由于 IPA 的表面張力比水小得多(25 ℃下,IPA 表面張力為 20.9×10-3  N/m;水的表面張力為 72.8×10-3  N/m),所以會(huì)在坡?tīng)钏鞅韺有纬杀砻鎻埩μ荻?,產(chǎn)生 Marangoni 對(duì)流,水被“吸回”水面,如下圖所示 雖然同樣是 IPA 干燥,但是 Marangoni 干燥與 IPA Vapor 干燥有本質(zhì)的不同,前者是通過(guò)表面張力梯度將水拉回水面,后者則是靠水的蒸發(fā)。 相比于IPA Vapor 干燥 ,Marangoni 干燥IPA 用量很少,且能夠克服深窄溝渠的脫水困難,比較適合直徑 150 mm ( 6 英寸) 以上晶片的干燥。Marangoni 干燥存在的問(wèn)題是晶片易出現(xiàn)水痕缺陷,晶片與晶舟接觸處、晶片下方是常見(jiàn)的水痕區(qū)域 。為消除水痕缺陷,這類(lèi)設(shè)備中一般配備簡(jiǎn)易晶舟,以減少晶片與晶舟的接觸面積,另外,采用溫水浴、超聲波震蕩 IPA Bub- bler 和變速提拉等也是常用的消除水痕缺陷的手段。Marangoni 干燥(馬蘭戈尼干燥)受多種因素影響,如晶片的提拉速度,IPA/N2  流量和排風(fēng)的設(shè)置等,因此此種方法技術(shù)難度較高。作為濕制程設(shè)備制造商,華林科納(...
在線加熱器由過(guò)濾器改制而成,加熱絲有進(jìn)口加熱絲和國(guó)產(chǎn)加熱絲之分,采用低溫拉絲工藝,保證產(chǎn)品的尺寸,且有效防止加熱絲由于在加工過(guò)程中產(chǎn)生損耗,導(dǎo)致本身壽命的降低。加熱絲經(jīng)過(guò)加工后,進(jìn)行表面拉鐵氟龍材質(zhì)進(jìn)行保護(hù)??梢栽谌魏位瘜W(xué)品中進(jìn)行加熱。鐵氟龍材質(zhì)采用大金原材料,保證了產(chǎn)品的質(zhì)量,且會(huì)按照客戶(hù)使用提出更加合適的鐵氟龍配方,應(yīng)對(duì)各種復(fù)雜的應(yīng)用場(chǎng)景。 加熱絲拉氟完成后,進(jìn)行計(jì)算,按照功率計(jì)算出米數(shù),進(jìn)行后套加工,完成后安裝到在線加熱器當(dāng)中。加熱器帶有華林科納自研的控制器,控制器可是加熱器更加安全有效的工作。本公司生產(chǎn)的加熱器是專(zhuān)門(mén)用于各種具有腐蝕作用液體加熱的一種加熱器,采用進(jìn)口pt100Q,和高溫型k型熱電偶,具有使用壽命長(zhǎng)、不腐蝕、不漏電、安全可靠以及優(yōu)良的抗老化性和比較好的繞曲性能等優(yōu)勢(shì);為保證使用安全,接頭采取完全封閉式的設(shè)計(jì),可以有效防酸堿,同時(shí)冷端及過(guò)熱安全保護(hù)系統(tǒng)可完全按照客戶(hù)需要定制。
1.外型結(jié)構(gòu)緊湊美觀2.本體重量輕容易安裝3.耐腐蝕性能強(qiáng),應(yīng)用范圍廣4.材質(zhì)衛(wèi)生無(wú)毒5.耐磨損,容易拆卸,維護(hù)簡(jiǎn)單易行。
隔膜閥采用高流量的緊湊型設(shè)計(jì),隔膜可使流道內(nèi)的腐蝕性介質(zhì)與所有驅(qū)動(dòng)部件處?kù)锻耆綦x的狀態(tài),從而杜絕了通常閥門(mén)的“跑、冒、滴、漏”等弊端。由于隔膜閥的流道平滑,流阻小,故而可獲得較大的流量。根據(jù)流體,可選膜片:EPDM / FPM / PTFE,因此具有優(yōu)越的耐腐蝕的特點(diǎn)。本閥由閥體、閥蓋、隔膜和其它驅(qū)動(dòng)零件等組成。
隔膜閥采用高流量的緊湊型設(shè)計(jì),隔膜可使流道內(nèi)的腐蝕性介質(zhì)與所有驅(qū)動(dòng)部件處?kù)锻耆綦x的狀態(tài),從而杜絕了通常閥門(mén)的“跑、冒、滴、漏”等弊端。由于隔膜閥的流道平滑,流阻小,故而可獲得較大的流量。根據(jù)流體,可選膜片:EPDM / FPM / PTFE,因此具有優(yōu)越的耐腐蝕的特點(diǎn)。本閥由閥體、閥蓋、隔膜和其它驅(qū)動(dòng)零件等組成。
種植體全自動(dòng)腐蝕清洗機(jī)設(shè)備——華林科納CSE設(shè)備名稱(chēng)種植體全自動(dòng)腐蝕清洗設(shè)備適用領(lǐng)域醫(yī)療種植體系統(tǒng)設(shè)備用途種植體化學(xué)腐蝕和清洗的設(shè)備基本介紹主要功能:通過(guò)對(duì)清洗物腐蝕、噴砂→清洗→酸腐蝕→清洗等方式進(jìn)行處理,從而達(dá)到一個(gè)用戶(hù)要求的效果設(shè)備形式:室內(nèi)放置型操作形式:自動(dòng)設(shè)備制造商華林科納(江蘇)半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 regal-bio.cn 0513-87733829;18051335986     在種植體制造過(guò)程中,完成種植體的機(jī)械塑形后,需要將種植體浸入酸液里,對(duì)表面進(jìn)行陽(yáng)極處理,它會(huì)使表面形成多個(gè)孔洞,增進(jìn)種植體與病人頜骨之間的緊密結(jié)合。經(jīng)歷了酸液的陽(yáng)極處理后,將會(huì)轉(zhuǎn)移到最后一道清潔工序,在清潔槽內(nèi)通過(guò)超聲波清洗,形成氣泡和水波,輕輕地刷洗種植體,完成種植體的清潔,完成種植體的成品制造。種植體表面腐蝕清洗的主要目的是要讓鈦更好更快地與人骨結(jié)合,在表面進(jìn)行涂層處理技術(shù)后,進(jìn)行表面粗化技術(shù),以便獲得某種粗糙的表面,以增大表面積,這可使頜骨與種植體間的結(jié)合面積大大增加。目前,種植體的表面處理工藝較為常見(jiàn)的基本過(guò)程為:清洗→噴砂→清洗→酸腐蝕→清洗,多次清洗是為了實(shí)現(xiàn)不同的目的。第一次清洗主要是為了在噴砂前清洗除污,第二次清洗則是為了去除噴砂后殘留雜質(zhì),第三次是為了去除酸腐蝕后的酸液殘留。第二步的噴砂加工工藝,是為了進(jìn)行表面粗化處理,一般噴砂介質(zhì)為氧化鋁砂,粒度根據(jù)表面粗化特性來(lái)定義。第四步的酸腐蝕加工,酸溶液的選擇比較靈活,一般可使用強(qiáng)酸溶液(如硝酸、鉻酸等)、強(qiáng)酸混合溶液(如硫酸和鹽酸混合溶液)、強(qiáng)酸和中強(qiáng)酸混合溶液(如硝酸和氫氟酸混合溶液)等,使用酸液能夠有效地達(dá)到粗化目的,又不會(huì)在表面上產(chǎn)生有害物質(zhì)。這與半導(dǎo)體集成電路工藝過(guò)程中的刻蝕清洗方式極為相似,作為國(guó)內(nèi)先進(jìn)的濕制程專(zhuān)業(yè)制造商,華林科納半導(dǎo)體設(shè)備有限公司在集成...
紅外器件清洗機(jī)設(shè)備名稱(chēng):紅外器件清洗機(jī)-CSE產(chǎn)品特點(diǎn):設(shè)備由預(yù)洗槽、超聲波清洗槽、漂洗槽、超聲波電源柜等組成。清洗槽材質(zhì)為不銹鋼,經(jīng)久耐用。預(yù)洗槽底部設(shè)置了壓力噴嘴,使浸泡過(guò)程中靜止的液體變?yōu)榱鲃?dòng)的液體,上下翻滾,形成湍流,有效去除散熱片狹縫中的污物。超聲波清洗槽底部、側(cè)面均設(shè)置了換能器,使被清洗的工件表面得到均勻的聲強(qiáng)。在超聲作用下,采用水劑代替煤油或有機(jī)溶劑進(jìn)行清洗,可顯著降低清洗成本。更多半導(dǎo)體設(shè)備可以關(guān)注華林科納(江蘇)半導(dǎo)體設(shè)備官網(wǎng)regal-bio.cn;現(xiàn)在咨詢(xún)400-8768-096,18913575037,可立即免費(fèi)獲取華林科納CSE提供的設(shè)備相關(guān)方案
溝槽腐蝕機(jī)-CSE概述1.1 設(shè)備概況:主要功能:本設(shè)備主要手動(dòng)搬運(yùn)方式,通過(guò)對(duì)si片腐蝕、漂洗、等方式進(jìn)行處理,從而達(dá)到一個(gè)用戶(hù)要求的效果。1.1.1 設(shè)備名稱(chēng):溝槽腐蝕機(jī)1.1.2 設(shè)備型號(hào):CSE-SC-N6011.1.3 整機(jī)尺寸(參考):約2000mm(L)×1400mm(W)×2000mm(H);1.1.4 被清洗硅片尺寸:5寸/6寸1.1.5 設(shè)備形式:室內(nèi)放置型;1.1.6 操作形式:手動(dòng)1.2 設(shè)備組成該設(shè)備主要由清洗部分、抽風(fēng)系統(tǒng)及電控部分組成設(shè)備工藝走向:參照本方案臺(tái)面布局圖1.3 設(shè)備描述●此裝置是一個(gè)半自動(dòng)的處理設(shè)備。●8.0英寸PROFACE 人機(jī)界面顯示 / 檢測(cè) / 操作●主體材料:10mmPP板,優(yōu)質(zhì)不銹鋼骨架,外包3mmPP板防腐;●化學(xué)槽槽體材料:德國(guó)勞士領(lǐng) 10mm  PVDF板;●純水槽槽體材料:德國(guó)勞士領(lǐng) 10mm  NPP板;●臺(tái)面板為10mm PP板(帶有菱形漏液孔);●DIW主管路及構(gòu)件采用日本進(jìn)口clean-PVC管材,支管路及閥件采用PFA材質(zhì),需滿(mǎn)足18M去離子水水質(zhì)要求;酸 堿管路材質(zhì)為進(jìn)口PFA/PVDF;●采用國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)生產(chǎn)加工,焊接組裝均在萬(wàn)級(jí)凈化間內(nèi)完成●排風(fēng):位于機(jī)臺(tái)后下部●工作照明:上方防酸型白光照明●歐姆龍/三菱 PLC控制?!癜踩紤]:1. 設(shè)有EMO(急停裝置), 2. 強(qiáng)電弱點(diǎn)隔離3. 所有電磁閥均高于工作槽體工作液面4. 電控箱正壓裝置(CDA Purge)5. 設(shè)備三層防漏  樓盤(pán)傾斜   漏液報(bào)警  設(shè)備整體置于防漏托盤(pán)內(nèi)6. 排放管路加過(guò)濾裝置7 排液按鈕具有連鎖功能。啟動(dòng)排液時(shí),同時(shí)切斷泵啟動(dòng)。8 槽內(nèi)配液位開(kāi)關(guān),無(wú)液不循環(huán)。更多半導(dǎo)體設(shè)備可以關(guān)注華林科納(江蘇)半導(dǎo)體設(shè)備官網(wǎng)regal-bio.cn;現(xiàn)...
陶瓷盤(pán)清洗機(jī)-CSE設(shè)備名稱(chēng):陶瓷盤(pán)清洗機(jī)-華林科納CSE設(shè)備外型結(jié)構(gòu)及主要參數(shù)  控制模式:  手動(dòng)控制模式   自動(dòng)控制模式。                清洗對(duì)象:陶瓷盤(pán)    設(shè)備形式: 室內(nèi)放置型。  尺寸(參考,詳見(jiàn)圖紙,含地腳):3000  mm(L)× 1500 mm(W)× 2200 mm(H)。  機(jī)臺(tái)總體結(jié)構(gòu)暫定分為兩部分,機(jī)械運(yùn)行機(jī)構(gòu)裝置與機(jī)臺(tái)前方;機(jī)臺(tái)前方為清洗工作區(qū)域及機(jī)械行走區(qū),機(jī)臺(tái)后上方為電器和氣路布置區(qū)域,后下方為液路布置區(qū)域。更多半導(dǎo)體設(shè)備可以關(guān)注華林科納(江蘇)半導(dǎo)體設(shè)備官網(wǎng)regal-bio.cn;現(xiàn)在咨詢(xún)400-8768-096,18913575037,可立即免費(fèi)獲取華林科納CSE提供的設(shè)備相關(guān)方案
兆聲波清洗機(jī)—華林科納CSE Mega sonic cleaning machine華林科納(江蘇)CSE-兆聲波清洗機(jī) 適用于硅晶片 藍(lán)寶石晶片 砷化鎵晶片 磷化銦晶片 碳化硅晶片 石英晶片可處理晶片尺寸2'-8';可處理晶圓材料:硅 砷化鎵 磷化銦 氮化鎵 碳化硅 鈮酸鋰 鉭酸鋰等;主要應(yīng)用領(lǐng)域:半導(dǎo)體 太陽(yáng)能光伏 液晶等  設(shè)備名稱(chēng)CSE-兆聲波清洗機(jī)類(lèi)型槽式尺寸(參考)約3500(L)×1350 (W)×2300mm (H)清洗件規(guī)格4” 2籃50片設(shè)備凈重1T運(yùn)行重量1.5T±10%電源380v 50hz 功率70kw槽體尺寸200mm*400mm*260mm槽數(shù)6個(gè)操作方式手動(dòng)/半自動(dòng)/全自動(dòng)適用規(guī)格2英寸-8英寸適用領(lǐng)域半導(dǎo)體、太陽(yáng)能、液晶等 設(shè)備穩(wěn)定性1、清洗良品率≥99%2、≥0.2um顆粒少于10顆  產(chǎn)品簡(jiǎn)介1設(shè)備機(jī)架采用不銹鋼骨架外包PP板,耐酸堿腐蝕;2電氣區(qū)設(shè)置在設(shè)備后上部,與濕區(qū)和管路區(qū)完全隔離;3槽體材料選用耐相應(yīng)溶液腐蝕的材料;4機(jī)械手探入濕區(qū)部分的零部件表面噴氟或套PFA管處理;5設(shè)備排風(fēng)采用頂部百級(jí)FFU送新風(fēng),臺(tái)面下抽風(fēng),每套工藝清洗槽都有自動(dòng)開(kāi)閉的槽蓋,槽蓋下有單獨(dú)的抽風(fēng)裝置,排風(fēng)口處設(shè)有自動(dòng)調(diào)節(jié)風(fēng)門(mén),即上電打開(kāi)風(fēng)門(mén),斷電關(guān)閉風(fēng)門(mén),具有風(fēng)壓檢測(cè)功能,以及氮?dú)?、壓縮空氣壓力報(bào)警功能;6溶液槽中藥液自動(dòng)供液按設(shè)定好比例混合,并可在工作過(guò)程中根據(jù)設(shè)定補(bǔ)液;客戶(hù)根據(jù)自身工藝條件自行設(shè)定;7臺(tái)面為多孔結(jié)構(gòu),便于臺(tái)面上沖洗水、液的排出;8操作面設(shè)有透明PVC安全門(mén);9設(shè)備設(shè)有漏電、急停、液位、過(guò)溫、安全門(mén)開(kāi)、漏液、超時(shí)等保護(hù)和報(bào)警裝置,保證設(shè)備的安全可靠;10配備有進(jìn)口PFA,水、氣槍各一。 更多半導(dǎo)體兆聲清洗...
片盒清洗機(jī)-華林科納CSE 設(shè)備概況:主要功能:本設(shè)備主要手動(dòng)/自動(dòng)搬運(yùn)方式,通過(guò)對(duì)片盒化學(xué)液體浸泡、沖洗、漂洗、鼓泡、快排等方式進(jìn)行處理,從而達(dá)到一個(gè)用戶(hù)要求的效果。設(shè)備名稱(chēng):片盒清洗機(jī)設(shè)備型號(hào):CSE-SC-N259整機(jī)尺寸(參考):約1700mm(L)×1400mm(W)×2000mm(H);(該設(shè)備非標(biāo)定制)操作形式:手動(dòng) 設(shè)備組成該設(shè)備主要由清洗部分、抽風(fēng)系統(tǒng)及電控部分組成 設(shè)備描述此裝置是一個(gè)手動(dòng)的處理設(shè)備;設(shè)備前上方有各閥門(mén)、工藝流程的控制按鈕、指示燈、觸摸屏(PROFACE/OMRON)、音樂(lè)盒等,操作方便;主體材料:德國(guó)進(jìn)口 10mmPP 板,優(yōu)質(zhì)不銹鋼骨架,外包 3mmPP 板防腐;臺(tái)面板為德國(guó) 10mm PP 板;DIW 管路及構(gòu)件采用日本進(jìn)口 clean-PVC 管材,需滿(mǎn)足 18MW去離子水水質(zhì)要求;采用國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)生產(chǎn)加工,焊接組裝均在萬(wàn)級(jí)凈化間內(nèi)完成排風(fēng):位于機(jī)臺(tái)后上部工作照明:上方防酸照明安全考慮:1. 設(shè)有 EMO(急停裝置)2. 強(qiáng)電弱點(diǎn)隔離3. 所有電磁閥均高于工作槽體工作液面4. 設(shè)備排風(fēng)口加負(fù)壓檢測(cè)表5. 設(shè)備三層防漏 漏盤(pán)傾斜 漏液報(bào)警 設(shè)備整體置于防漏托盤(pán)內(nèi) 更多的花籃和片盒清洗機(jī)設(shè)備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(regal-bio.cn),現(xiàn)在熱線咨詢(xún)400-8768-096 18913575037可立即獲取免費(fèi)的片盒清洗機(jī)解決方案。
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