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濕法制程整體解決方案提供商

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發(fā)布時(shí)間: 2016 - 11 - 02
全自動(dòng)濕法去膠清洗機(jī)-華林科納(江蘇)CSE華林科納CSE濕法處理設(shè)備是國(guó)內(nèi)最早致力于集成電路濕法設(shè)備的研制單位,多年來(lái)與眾多的集成電路生產(chǎn)企業(yè)密切合作,研制開(kāi)發(fā)出適合于4吋-8吋的全自動(dòng)系列濕法處理設(shè)備 設(shè)備名稱(chēng)華林科納(江蘇)CSE-全自動(dòng)濕法去膠清洗機(jī)設(shè)備設(shè)備概況尺寸(參考):約3500(L)*1500(W)*2000(H)(具體尺寸根據(jù)實(shí)際圖紙確定)清洗件規(guī)格:一次性可裝8寸晶片25pcs典型生產(chǎn)節(jié)拍:5~10min/籃(清洗節(jié)拍連續(xù)可調(diào))門(mén):不銹鋼合頁(yè)門(mén)+PVC視窗主題構(gòu)造特點(diǎn)設(shè)備由于是在一個(gè)腐蝕的環(huán)境,我們?cè)O(shè)備的排風(fēng)方式,臺(tái)面下抽風(fēng),每套工藝清洗槽都有自動(dòng)開(kāi)閉的槽蓋,槽蓋下有單獨(dú)的抽風(fēng)裝置。設(shè)備結(jié)構(gòu)外型,整機(jī)主要由機(jī)架、工藝槽體、機(jī)械手傳輸系統(tǒng)、排風(fēng)系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、水路系統(tǒng)及氣路系統(tǒng)等組成。由于工藝槽內(nèi)藥液腐蝕性強(qiáng),設(shè)備需要做防腐處理:(1)設(shè)備機(jī)架采用鋼結(jié)構(gòu)骨架包塑;(2)殼體采用鏡面SUS316L不銹鋼焊接,制程區(qū)由耐腐蝕的SUS316L板材組合焊接而成:(3)電氣區(qū)設(shè)置在設(shè)備后上部,與濕區(qū)和管路區(qū)完全隔離;(4)槽體材料選用耐相應(yīng)溶液腐蝕的材料;(5)機(jī)械手探人濕區(qū)部分的零部件表面噴氟或套PFA管處理。應(yīng)用領(lǐng)域集成電路、聲表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先進(jìn)封裝等設(shè)備制造商華林科納(江蘇)半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 regal-bio.cn 400-8768-096 ;18913575037更多全自動(dòng)濕法去膠清洗機(jī)設(shè)備可以關(guān)注華林科納(江蘇)半導(dǎo)體設(shè)備官網(wǎng)regal-bio.cn;現(xiàn)在咨詢(xún)400-8768-096,18913575037可立即免費(fèi)獲取華林科納CSE提供的全自動(dòng)濕法去膠清洗機(jī)設(shè)備的相關(guān)方案
發(fā)布時(shí)間: 2017 - 12 - 07
金屬剝離清洗機(jī)-華林科納(江蘇)CSE微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)是指用微機(jī)械加工技術(shù)制作的包括傳感器/微致動(dòng)器/微能源/等微機(jī)械基本部分以及高性能的電子集成線路組成的微機(jī)電器件與裝置。其典型的生產(chǎn)工藝流程為:成膜工藝(氧化/CVD:LPCVD PECVD/PVD:濺射/電鍍/摻雜:擴(kuò)散 注入 退火)→光刻圖形(旋涂/光刻/顯影)→干法/濕法/ 刻蝕(濕法刻蝕/硅刻蝕/SiO?刻蝕/去膠清洗/金屬刻蝕/金屬剝離/RCA清洗)設(shè)備名稱(chēng)華林科納(江蘇)CSE-金屬剝離清洗機(jī)設(shè)備系列CSE-CX13系列設(shè)備概況尺寸(參考):機(jī)臺(tái)尺寸 : 1750mmWx1400mmDx1900mmH(具體尺寸根據(jù)實(shí)際圖紙確定)清洗量:6寸25裝花籃2籃;重量:500Kg( 大約);工作環(huán)境:室內(nèi)放置;主體構(gòu)造特點(diǎn)外 殼:不銹鋼304 板組合焊接而成。安全門(mén):無(wú)安全門(mén),采用敞開(kāi)式設(shè)計(jì);管路系統(tǒng):藥液管路采用不銹鋼管,純水管路采用CL-PVC管;閥門(mén):藥液管路閥門(mén)采用不銹鋼電磁閥門(mén);排 風(fēng):后下抽風(fēng),動(dòng)力抽風(fēng)法蘭位于機(jī)臺(tái)上部;水汽槍?zhuān)号溆兴畾鈽尭?把,分置于兩側(cè);隔板:藥液槽之間配有隔離板,防止藥液交叉污染;照明:機(jī)臺(tái)上方配照明(與工作區(qū)隔離);機(jī)臺(tái)支腳:有滑輪裝置及固定裝置,并且有高低調(diào)整及鎖定功能。三色警示燈置于機(jī)臺(tái)上方明顯處。工作槽參數(shù)剝離洗槽槽體:不銹鋼316,有效尺寸405×220×260mm;化學(xué)藥品:剝離洗液;藥液供液:人工手動(dòng)加入;工作溫度:60℃并可調(diào);溫度可調(diào);加熱方式:五面體貼膜加熱/投入式加熱器加入熱;液位控制:采用N2背壓數(shù)位檢測(cè); 計(jì)時(shí)功能:工藝時(shí)間可設(shè)定,并可調(diào),到設(shè)定時(shí)間后聲?shū)Q提示,點(diǎn)擊按鈕后開(kāi)始倒序計(jì)時(shí);批次記憶:藥液使用次數(shù)可記憶,藥液供入時(shí)間可記憶,設(shè)定次數(shù)和設(shè)定時(shí)間到后更換藥液;排液:排液管道材質(zhì)為不銹鋼管,按鈕控制;槽蓋:配有手動(dòng)槽蓋;IPA槽...
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 12 - 05
管道清洗機(jī)設(shè)備—華林科納CSE半自動(dòng)石英管清洗設(shè)備適用于臥式或立式石英管清洗優(yōu)點(diǎn)石英管清洗:臥式—標(biāo)準(zhǔn)/立式—選項(xiàng) 先進(jìn)的圖形化界面 極高的生產(chǎn)效率 最佳的占地 結(jié)合最先進(jìn)工藝技術(shù) 優(yōu)越的可靠性 獨(dú)特的模塊化結(jié)構(gòu) 極其便于維修 應(yīng)用 清洗不同尺寸的石英管一般特征 可編程使得清洗管旋轉(zhuǎn),清洗更干凈 PVDF工藝槽 裝有清洗溶劑的儲(chǔ)備槽(根據(jù)使用化學(xué)品的數(shù)量)放置在工藝槽的后下方 — 直接注入且內(nèi)部進(jìn)行不斷循環(huán) 特別的噴淋嘴更益于石英管清洗 集成水槍和N2搶 單獨(dú)排液系統(tǒng) 安全蓋子 易于操作和控制 節(jié)約用酸系統(tǒng) 全自動(dòng)的清洗工藝步驟 備件 經(jīng)濟(jì)實(shí)惠的PP外殼材料—標(biāo)準(zhǔn)更多的石英管道清洗機(jī)設(shè)備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(regal-bio.cn),現(xiàn)在熱線咨詢(xún)400-8768-096可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體清洗解決方案。
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 03 - 14
1、設(shè)備概況:主要功能:本設(shè)備主要采用手動(dòng)搬運(yùn)方式,通過(guò)對(duì)擴(kuò)散、外延等設(shè)備的石英管、碳化硅管腐蝕、漂洗等方式進(jìn)行處理,從而達(dá)到一個(gè)用戶要求的清洗效果。主體采用德國(guó)勞士領(lǐng) 瓷白PP板,骨架采用不銹鋼 外包PP 防腐板;設(shè)備名稱(chēng):半自動(dòng)石英管清洗機(jī)設(shè)備型號(hào):CSE-SC-N401整機(jī)尺寸(參考):4500mm*1500mm*2100mm;被清洗爐管尺寸(Max):也可清洗其它可放入清洗槽中的石英器皿等被清洗物設(shè)備形式:室內(nèi)放置型;節(jié)拍:約1--12小時(shí)(節(jié)拍可調(diào)根據(jù)實(shí)際工藝時(shí)間而定)      操作形式:半自動(dòng)2、設(shè)備描述:此裝置是一個(gè)半自動(dòng)的處理設(shè)備。PROFACE 8.0英寸大型觸摸屏顯示 / 檢測(cè) / 操作清洗工作過(guò)程由三菱 / 歐姆龍PLC控制。3、設(shè)備特點(diǎn): 腐蝕漂洗能力強(qiáng),性能穩(wěn)定,安全可靠;設(shè)備成本合理,自動(dòng)化程度高,使用成本低;技術(shù)先進(jìn),結(jié)構(gòu)合理,適宜生產(chǎn)線上大批次操作;結(jié)合華林科納公司全體同仁之力,多年品質(zhì)保障,使其各部分遠(yuǎn)遠(yuǎn)領(lǐng)先同類(lèi)產(chǎn)品;設(shè)備上層電器控制系統(tǒng)及抽風(fēng)系統(tǒng),中層工作區(qū),下層為管道安裝維修區(qū),主體結(jié)構(gòu)由清洗機(jī)主體、酸洗槽、水清洗槽、防漏盤(pán)、抽風(fēng)系統(tǒng)、工件滾動(dòng)系統(tǒng)、氮?dú)夤呐菹到y(tǒng)、支撐及旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)、管路部分、電控部分。本設(shè)備裝有雙防漏盤(pán)結(jié)構(gòu),并有防漏檢測(cè)報(bào)警系統(tǒng),在整臺(tái)設(shè)備的底部裝有接液盤(pán)。設(shè)備配有在槽體下方配有傾斜式防漏層。4、工藝流程:檢查水、電、氣正?!鷨?dòng)電源→人工上料→注酸→槽體底部氮?dú)夤呐荨⒐苻D(zhuǎn)動(dòng)(7轉(zhuǎn)/min)→進(jìn)入酸泡程序→自動(dòng)排酸(到儲(chǔ)酸箱)→槽體底部自動(dòng)注水(同時(shí)氣動(dòng)碟閥關(guān)閉)→懸浮顆粒物經(jīng)過(guò)溢流壩流出→排水碟閥打開(kāi)(重顆粒雜質(zhì)排出)→初級(jí)潔凈水經(jīng)過(guò)溢流壩溢出→清洗次數(shù)重復(fù)循環(huán)(人工控制)→下料。 酸洗和水洗在同一槽內(nèi)完成1#,2#可通過(guò)循環(huán)泵循環(huán)使用...
發(fā)布時(shí)間: 2017 - 12 - 08
KOH etching is a chemical process used for the fabrication of silicon nanostructures. This etching process has been studied extensively in both research and real-world applications.CSE  provides individualized solutions for customers that want to use this process by using theKOH etching tank along with their existing wet bench equipment. All ofCSE’s KOH tanks are manufactured on site and built per your specifications. All PFA material is used for cleanliness and compatibility.Definition of KOH EtchingPotassium Hydroxide (KOH) etching is a wet chemical etching process used to create cavities in silicon. Highly corrosive alkaline chemical compound (pH 12) is used in conjunction with DI water and thermal regulation. The etch rate is limited; and the precision of Si etching...
發(fā)布時(shí)間: 2017 - 12 - 08
WET PROCESSING-MANUAL WET BENCHESWet Processing Manual Wet Bench Stations for Clean Room ApplicationsCSE’s wet processing manual wet benches are available in a wide variety of configurations. Standard construction will support both acid and solvent applications. Our standard wet benches give you all of the process and safety features as our fully automated or semi-automatedwet bencheswithout the extra cost for robotics. Our electrical and mechanical engineers prepare sign off drawings for each wet bench order. Our 30 plus years of continues business operation gives you the satisfaction you deserve. All process, etching or cleaning components are built and designed in-house giving you complete turnkey support.Benefits of Wet Processing Manual Benches:§ High end manual eq...
發(fā)布時(shí)間: 2018 - 01 - 02
Single cavity vertical dryer -CSEApplication of CSE cleaning system to various cleaning and drying processes AdvantageCSE cleaning system is applied to various cleaning and drying processesDifferent configurations (devices that can be placed on desktop operations, single independent, double chambers) for wafer size to 200mm best area, equipment with rollers can be movedSuperior reliabilityUnique modular structure it is extremely easy to repairEasy to use and operate The cleaning and drying machine is equipped with two kinds of automatic and manual systems. It is capable of complicate and different process requirements. Its stability and ease of operation will bring additional economic benefits to any factory. RinseSte can handle wafers of different sizes. The software program th...
產(chǎn)品中心 產(chǎn)品中心
產(chǎn)品列表
CSE’s Horizontal Quartz Tube Cleaning Stations are designed and built around your quartz tube configuration. All quartz tube cleaners incorporate an acid spray cycle, rinse cycle and an option dry cycle. Once the application is defined we add appropriate options like holding tanks, programmable rinse cycles, bottle washer and T/C sheath cleaner to complete your design. All tube cleaners include all required safety features with sign off drawings. Our expertise in developingquartz tube cleaning stations and outstanding customer support gives you the satisfaction you deserve. All process, etching or cleaning components are built and designed in-house giving you complete turnkey support. Quartz Tube Cleaning Station Benefits Include:§ Custom designed around your tube requi...
實(shí)驗(yàn)室自動(dòng)配液機(jī)(灌裝機(jī))CSE-LIQOUR-II  隨著濕化學(xué)設(shè)備在LED、太陽(yáng)能、MEMS、功率器件、分立器件、先進(jìn)封裝和半導(dǎo)體材料等領(lǐng)域自動(dòng)化程度的不斷提高,傳統(tǒng)的人工手動(dòng)配液、補(bǔ)液逐漸由自動(dòng)配液取代?! ∪欢?,在濕制程工藝實(shí)驗(yàn)以及生物配藥實(shí)驗(yàn)等實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證的過(guò)程中,大多數(shù)還保持著采用量筒量杯逐一調(diào)配制程藥液的方法。采用人為手工配置藥液不僅精度得不到保證,而且化學(xué)品大多有腐蝕性、毒性等特點(diǎn)(如硫酸H2SO4、硝酸HNO3、磷酸H3PO4、鹽酸HCL、氫氟酸HF、緩沖氧化物刻蝕液BOE等酸性溶液;氨水NH4OH、氫氧化鉀KOH等堿性溶液;NMP溶液、丙酮、甲醇、IPA等有機(jī)液),在配比過(guò)程中對(duì)操作人員具有一定的危險(xiǎn)性?! 榻鉀Q實(shí)驗(yàn)室手動(dòng)配液的弊端,華林科納(江蘇)半導(dǎo)體設(shè)備有限公司開(kāi)發(fā)研制了新型實(shí)驗(yàn)室自動(dòng)配液機(jī)(灌裝機(jī))CSE-LIQOUR-II。此配液機(jī)專(zhuān)為化學(xué)生物制藥工藝實(shí)驗(yàn)室設(shè)計(jì),是用來(lái)滿足藥液自動(dòng)配比的設(shè)備,通過(guò)稱(chēng)重、流量計(jì)準(zhǔn)確計(jì)量、氣壓輸送或注塞抽取等方式將藥液按照比例輸送,配液精確度能夠達(dá)到2‰?! ≡撛O(shè)備操作自動(dòng)化,質(zhì)量好,能預(yù)防藥液污染。適用于半導(dǎo)體清洗和藥廠配制普通液體藥劑等用途,具有以下優(yōu)點(diǎn):  1)操作安全:系統(tǒng)應(yīng)具有抗腐蝕性、毒性、耐壓、防燃防爆等功能,保證操作者安全;  2)兼容性:與化學(xué)品接觸部分完全與輸送化學(xué)品兼容,對(duì)化學(xué)品零污染;  3)自動(dòng)控制操作運(yùn)轉(zhuǎn):系統(tǒng)單元與機(jī)臺(tái)界面自動(dòng)化;  4)精確配比:系統(tǒng)連續(xù)供液(配液、補(bǔ)液)過(guò)程中準(zhǔn)確可靠,脈動(dòng)性較好;  5)泄漏警報(bào):檢測(cè)泄漏及緊急關(guān)閉系統(tǒng)(E-MO);  6)其他:系統(tǒng)自診斷及管路維修保養(yǎng)功能?! ∽鳛闈裰瞥淘O(shè)備專(zhuān)業(yè)制造商,華林科納(江蘇)半導(dǎo)體設(shè)備有限公司對(duì)實(shí)驗(yàn)室自動(dòng)配液機(jī)(灌裝機(jī))CSE-LIQOUR-II的成功研發(fā),為濕制程工藝實(shí)驗(yàn)室或生物配藥實(shí)驗(yàn)室的精確配比,提升實(shí)驗(yàn)人員的實(shí)驗(yàn)...
太陽(yáng)能單晶制絨清洗機(jī)設(shè)備-CSE華林科納(江蘇)CSE密切跟蹤太陽(yáng)能光伏行業(yè)發(fā)展,致力于“設(shè)備+工藝”的研發(fā)模式,現(xiàn)生產(chǎn)的單多晶制絨設(shè)備已經(jīng)形成了良好的客戶基礎(chǔ)和市場(chǎng)影響。生產(chǎn)工藝流程為:預(yù)清洗→制絨→擴(kuò)散→刻蝕→去PSG→PECVD→印刷→燒結(jié)太陽(yáng)能電池片濕法設(shè)備主要技術(shù)特點(diǎn):1.獨(dú)特的雙槽制絨工藝槽設(shè)計(jì);2.分立式加熱系統(tǒng)保證溶液均勻性并降低運(yùn)營(yíng)成本;3.多通道注入結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)制絨工藝槽溶液均勻性控制;4.機(jī)械傳動(dòng)特殊設(shè)計(jì)及人性化安全保證;5.適應(yīng)性強(qiáng)的工藝過(guò)程控制。  在太陽(yáng)能電池生產(chǎn)中,制絨是晶硅電池的第一道工藝。華林科納CSE的工程師提到對(duì)于單晶硅來(lái)說(shuō),制絨的目的就是延長(zhǎng)光在電池表面的傳播路徑,從而提高太陽(yáng)能電池對(duì)光的吸收效率。單晶硅制絨的主要方法是用堿(NaOH、KOH)對(duì)硅片表面進(jìn)行腐蝕。由于硅片的內(nèi)部結(jié)構(gòu)不同,各向異性的堿液制絨主要是使晶向分布均勻的單晶硅表面形成類(lèi)似“金字塔”狀的絨面,有效地增強(qiáng)硅片對(duì)入射太陽(yáng)光的吸收,從而提高光生電流密度。對(duì)于既可獲得低的表面反射率,又有利于太陽(yáng)能電池的后續(xù)制作工藝的絨面,應(yīng)該是金字塔大小均勻,單體尺寸在 2~10 μm之間,相鄰金字塔之間沒(méi)有空隙,即覆蓋率達(dá)到100%。理想質(zhì)量絨面的形成,受到了諸多因素的影響,如硅片被腐蝕前的表面狀態(tài)、制絨液的組成、各組分的含量、溫度、反應(yīng)時(shí)間等。而在工業(yè)生產(chǎn)中,對(duì)這一工藝過(guò)程的影響因素更加復(fù)雜,例如加工硅片的數(shù)量、醇類(lèi)的揮發(fā)、反應(yīng)產(chǎn)物在溶液中的積聚、制絨液中各組分的變化等。為了維持生產(chǎn)良好的可重復(fù)性,并獲得高的生產(chǎn)效率。就要比較透徹地了解金字塔絨面的形成機(jī)理,控制對(duì)制絨過(guò)程中影響較大的因素,在較短的時(shí)間內(nèi)形成質(zhì)量較好的金字塔絨面。      單晶制絨的工藝比較復(fù)雜,不同公司有各自獨(dú)特的制絨方法。一般堿制絨有以下幾種方法:...
全自動(dòng)硅料清洗機(jī) ---華林科納CSE華林科納(江蘇)CSE密切跟蹤太陽(yáng)能光伏行業(yè)發(fā)展,致力于“設(shè)備+工藝”的研發(fā)模式,現(xiàn)生產(chǎn)的單多晶制絨設(shè)備已經(jīng)形成了良好的客戶基礎(chǔ)和市場(chǎng)影響。生產(chǎn)工藝流程為:預(yù)清洗→制絨→擴(kuò)散→刻蝕→去PSG→PECVD→印刷→燒結(jié)太陽(yáng)能電池片濕法設(shè)備主要技術(shù)特點(diǎn):1.獨(dú)特的雙槽制絨工藝槽設(shè)計(jì);2.分立式加熱系統(tǒng)保證溶液均勻性并降低運(yùn)營(yíng)成本;3.多通道注入結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)制絨工藝槽溶液均勻性控制;4.機(jī)械傳動(dòng)特殊設(shè)計(jì)及人性化安全保證;5.適應(yīng)性強(qiáng)的工藝過(guò)程控制。特點(diǎn):1)主要用于對(duì)硅材料行業(yè)中多晶硅塊進(jìn)行清洗干燥處理。2)工藝流程:根據(jù)客戶需求定制,可處理腐蝕、清洗、超聲、加熱、干燥、上料 、噴淋 、酸洗、漂洗、下料等工藝;3)控制方式:手動(dòng)或自動(dòng)4)材質(zhì):根據(jù)客戶及工藝需求選用,可選PP、PVC、PVDF、石英、不銹鋼等材質(zhì),保證設(shè)備的耐用性;5)槽體的槽底均為傾斜漏斗式結(jié)構(gòu),便于清洗和排渣;  6)設(shè)備設(shè)有旋轉(zhuǎn)裝置使工件達(dá)到更好的清洗效果;7)頂部設(shè)有排霧系統(tǒng)結(jié)合酸霧塔進(jìn)行廢霧、廢水處理避免污染環(huán)境;8)PLC控制人機(jī)界面操作顯示能根據(jù)實(shí)際情況更改清洗參數(shù)。更多的太陽(yáng)能光伏清洗設(shè)備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(regal-bio.cn),現(xiàn)在熱線咨詢(xún)400-8768-096可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體清洗解決方案。
全自動(dòng)硅芯硅棒清洗機(jī)---CSE華林科納(江蘇)CSE密切跟蹤太陽(yáng)能光伏行業(yè)發(fā)展,致力于“設(shè)備+工藝”的研發(fā)模式,現(xiàn)生產(chǎn)的單多晶制絨設(shè)備已經(jīng)形成了良好的客戶基礎(chǔ)和市場(chǎng)影響。生產(chǎn)工藝流程為:預(yù)清洗→制絨→擴(kuò)散→刻蝕→去PSG→PECVD→印刷→燒結(jié)太陽(yáng)能電池片濕法設(shè)備主要技術(shù)特點(diǎn):1.獨(dú)特的雙槽制絨工藝槽設(shè)計(jì);2.分立式加熱系統(tǒng)保證溶液均勻性并降低運(yùn)營(yíng)成本;3.多通道注入結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)制絨工藝槽溶液均勻性控制;4.機(jī)械傳動(dòng)特殊設(shè)計(jì)及人性化安全保證;5.適應(yīng)性強(qiáng)的工藝過(guò)程控制。產(chǎn)品描述1)主要用于對(duì)硅材料行業(yè)中多晶硅塊進(jìn)行清洗干燥處理。2)工藝流程:根據(jù)客戶需求定制,可處理腐蝕、清洗、超聲、加熱、干燥、上料 、噴淋 、酸洗、漂洗、下料等工藝;3)控制方式:手動(dòng)或自動(dòng)4)材質(zhì):根據(jù)客戶及工藝需求選用,可選PP、PVC、PVDF、石英、不銹鋼等材質(zhì),保證設(shè)備的耐用性;5)槽體的槽底均為傾斜漏斗式結(jié)構(gòu),便于清洗和排渣;  6)設(shè)備設(shè)有旋轉(zhuǎn)裝置使工件達(dá)到更好的清洗效果;7)頂部設(shè)有排霧系統(tǒng)結(jié)合酸霧塔進(jìn)行廢霧、廢水處理避免污染環(huán)境;8)PLC控制人機(jī)界面操作顯示能根據(jù)實(shí)際情況更改清洗參數(shù)。更多的太陽(yáng)能光伏清洗設(shè)備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(www.hlcas.com),現(xiàn)在熱線咨詢(xún)400-8768-096可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體清洗解決方案。
顯影清洗機(jī)CSE-華林科納(江蘇)微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)是指用微機(jī)械加工技術(shù)制作的包括傳感器/微致動(dòng)器/微能源/等微機(jī)械基本部分以及高性能的電子集成線路組成的微機(jī)電器件與裝置。其典型的生產(chǎn)工藝流程為:成膜工藝(氧化/CVD:LPCVD PECVD/PVD:濺射/電鍍/摻雜:擴(kuò)散 注入 退火)→光刻圖形(旋涂/光刻/顯影)→干法/濕法/ 刻蝕(濕法刻蝕/硅刻蝕/SiO?刻蝕/去膠清洗/金屬刻蝕/金屬剝離/RCA清洗)設(shè)備概述設(shè)備名稱(chēng):顯影清洗機(jī)整機(jī)尺寸:約1000mm(L) ×1260mm(W) ×1900mm(H)(具體尺寸根據(jù)實(shí)際圖紙確定)主體構(gòu)造特點(diǎn)設(shè)備包括設(shè)備主體、電氣控制部分、顯影清洗槽等;并提供與廠務(wù)供電、供氣、供水、排廢水、排氣系統(tǒng)配套的接口等主體設(shè)備主體使用德國(guó)勞士林10mm瓷白PP骨架SUS304+PP德國(guó)勞士領(lǐng)板組合而成安全門(mén)設(shè)備安裝高透明PVC上下推拉安全門(mén),分隔與保護(hù)人員安全;邊緣處設(shè)備密封條臺(tái)面高度約900mm,適合高于1.5米人群操作工藝槽模組化設(shè)計(jì),放置在同一個(gè)承漏底盤(pán)中。底盤(pán)采用滿焊接工藝加工而成,杜絕機(jī)臺(tái)的滲漏危險(xiǎn)。管路系統(tǒng)位于設(shè)備下部,所有工藝槽、管路、閥門(mén)部分均有清晰的標(biāo)簽注明;藥液管路采用勞士林PP管,純水管路采用積水CL-PVC管,廢液可通過(guò)專(zhuān)用管道排放電氣保護(hù)電器控制、氣路控制和工藝槽控制部份在機(jī)臺(tái)頂部電控區(qū),電氣元件有充分的防護(hù)以免腐蝕以保障設(shè)備性能運(yùn)行穩(wěn)定可靠。工作照明上方防酸型照明220V 40W 可更換水氣槍機(jī)臺(tái)前部配備有PP純水槍和PP CDA槍各一只置左右兩側(cè),水槍滴漏活水設(shè)計(jì),方便操作員手工清洗槽體或工件機(jī)臺(tái)支腳有滑輪裝置及固定裝置并加防腐座,并且有高低調(diào)整及鎖定功能安全保障完善的報(bào)警和保護(hù)設(shè)計(jì),排風(fēng)壓力、液位、排液均有硬件或軟件互鎖,直觀的操作界面,清晰的信息提示,保障了生產(chǎn)、工藝控制和安全性三色...
全自動(dòng)制絨清洗機(jī)設(shè)備--CSE華林科納(江蘇)CSE密切跟蹤太陽(yáng)能光伏行業(yè)發(fā)展,致力于“設(shè)備+工藝”的研發(fā)模式,現(xiàn)生產(chǎn)的單多晶制絨設(shè)備已經(jīng)形成了良好的客戶基礎(chǔ)和市場(chǎng)影響。生產(chǎn)工藝流程為:預(yù)清洗→制絨→擴(kuò)散→刻蝕→去PSG→PECVD→印刷→燒結(jié)太陽(yáng)能電池片濕法設(shè)備主要技術(shù)特點(diǎn):1.獨(dú)特的雙槽制絨工藝槽設(shè)計(jì);2.分立式加熱系統(tǒng)保證溶液均勻性并降低運(yùn)營(yíng)成本;3.多通道注入結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)制絨工藝槽溶液均勻性控制;4.機(jī)械傳動(dòng)特殊設(shè)計(jì)及人性化安全保證;5.適應(yīng)性強(qiáng)的工藝過(guò)程控制。產(chǎn)品描述1)主要用于對(duì)硅材料行業(yè)中多晶硅塊進(jìn)行清洗干燥處理。2)工藝流程:根據(jù)客戶需求定制,可處理腐蝕、清洗、超聲、加熱、干燥、上料 、噴淋 、酸洗、漂洗、下料等工藝;3)控制方式:手動(dòng)或自動(dòng)4)材質(zhì):根據(jù)客戶及工藝需求選用,可選PP、PVC、PVDF、石英、不銹鋼等材質(zhì),保證設(shè)備的耐用性;5)槽體的槽底均為傾斜漏斗式結(jié)構(gòu),便于清洗和排渣;  6)設(shè)備設(shè)有旋轉(zhuǎn)裝置使工件達(dá)到更好的清洗效果;7)頂部設(shè)有排霧系統(tǒng)結(jié)合酸霧塔進(jìn)行廢霧、廢水處理避免污染環(huán)境;8)PLC控制人機(jī)界面操作顯示能根據(jù)實(shí)際情況更改清洗參數(shù)。更多的太陽(yáng)能單晶多晶硅片制絨腐蝕清洗機(jī)設(shè)備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(www.hlcas.com),現(xiàn)在熱線咨詢(xún)400-8768-096可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體清洗解決方案。
晶圓清洗機(jī)設(shè)備名稱(chēng):晶圓清洗機(jī)-CSE產(chǎn)品特點(diǎn):? 針對(duì)21英寸外徑或15x15英寸的基底? 巨聲環(huán)境清洗艙(可配備去離子水, 清洗刷, 熱去離子水, 高壓去離子水, 熱氮?dú)猓? 化學(xué)注射臂? 帶化學(xué)噴射的可變速清洗刷? 觸屏用戶界面? 手動(dòng)上下載? 安全鎖和報(bào)警器? 占地尺寸30”D x 26”W 可選配項(xiàng):? 化學(xué)試劑傳送單元? 白骨化清洗? 臭氧發(fā)生器? 氫化雙氧水發(fā)生器? 高壓雙氧單元? 硫酸氫過(guò)氧化物? 紅外加熱? 雙氧水循環(huán)裝置? 機(jī)械手上下載單元? 帶EFEM和SMIF界面的 集群系統(tǒng)清洗功能? 晶圓片? 藍(lán)寶石外延片? 晶圓框架上的芯片? 顯示面板? ITO膜顯示材料? 有圖形掩膜和無(wú)圖形掩膜? 掩膜坯料? 薄膜式掩膜? 接觸式掩膜光刻處理工藝? SPM剝離? 光刻膠涂膜? 光刻膠剝離工藝刻蝕? 金屬刻蝕(鋁,銅,鉻,鈦)白骨化清洗? 在晶圓片上注射硫酸和雙氧水的混合液? 紅外加熱? 刷洗? 兆聲雙氧水清洗? 熱氮和甩干去膠/剝離工藝? 帶紅外加熱的NMP滴膠? 刷洗? 兆聲雙氧水清洗? 熱氮和甩干CMP溶液清洗? 用刷洗和兆聲清洗去除CMP顆粒? 化學(xué)噴射臂? 化學(xué)噴射罐? 為前面和背面刷洗設(shè)計(jì)的特殊托盤(pán)? 可調(diào)速的PVA清洗刷? 可調(diào)的清洗刷/晶圓接觸壓力? 刷式化學(xué)噴射帶膜/不帶膜式掩膜清洗? 全套清洗(無(wú)需更換保護(hù)膜)? 全保護(hù)膜? 膜式掩膜清洗工藝 1)  掩膜背面清洗后 兆聲雙氧水清洗 刷式清洗 化學(xué)清洗 熱氮甩干 2)熱氮甩干更多半導(dǎo)體設(shè)備可以關(guān)注華林科納(江蘇)半導(dǎo)體設(shè)備官網(wǎng)regal-bio.cn;現(xiàn)在咨詢(xún)400-8768-096,18913575037可立即免費(fèi)獲取華林科納CSE提供的設(shè)備相關(guān)方案
無(wú)機(jī)清洗機(jī)?設(shè)備名稱(chēng):無(wú)機(jī)清洗機(jī)?設(shè)備型號(hào):CSE-JR11-WJ04?整機(jī)尺寸(參考):約2000mmL×1400mmW×2000mmH;?硅片尺寸:2寸~6寸?工作環(huán)境:室內(nèi)放置;?操作形式:手動(dòng)?重量:650Kg( 大約);蘇州華林科納半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)有限公司由中國(guó)科學(xué)院蘇州納米技術(shù)與納米仿生研究所合資成立于2008年3月,投資4500萬(wàn)元。主要從事半導(dǎo)體設(shè)備、太陽(yáng)能光伏設(shè)備、液晶濕制程設(shè)備、真空設(shè)備的研發(fā)、技術(shù)推廣和生產(chǎn)銷(xiāo)售。
硅片濕法清洗技術(shù)與設(shè)備---華林科納CSE硅片制造過(guò)程中,在進(jìn)行下一步工藝前要獲得 一個(gè)潔凈的表面,以保證后道工藝能再一個(gè)完全潔 凈的表面上進(jìn)行,這就需要對(duì)硅片進(jìn)行清洗。清洗是硅片制造過(guò)程中重復(fù)次數(shù)最多的工藝。目前,在 清洗工藝中使用最多的就是濕法清洗技術(shù),華林科納半導(dǎo)體設(shè)備公司的硅片濕法腐蝕清洗機(jī)在半導(dǎo)體行業(yè)得到了很多客戶的認(rèn)可.1 硅片濕法清洗的種類(lèi)1.1 刷洗刷洗是去除硅片表面顆粒的一種直接而有效的方法,該清洗技術(shù)一般用在切割或拋光后的硅片清洗上,可高效地清除拋光后產(chǎn)生的大量顆粒。刷洗一般有單面或雙面兩種模式,雙面模式可同時(shí)清洗硅片的兩面。刷洗有時(shí)也與超聲及去離子水或化學(xué)液一起配合使用,以達(dá)到更好的清洗效果和更高的清洗效率。1.2 化學(xué)清洗1.2.1 RCA 清洗20 世紀(jì) 60 年代,由美國(guó)無(wú)線電公司(RCA)研發(fā)了用于硅片清洗的 RCA 清洗技術(shù),這種技術(shù)成為后來(lái)各種化學(xué)清洗技術(shù)的基礎(chǔ),現(xiàn)在大多數(shù)工廠所使用的清洗技術(shù)都是基于最初的 RCA 清洗法。RCA 清洗是按照一定的順序依次浸入兩種標(biāo)準(zhǔn)清洗液(SC-1 和 SC-2)中來(lái)完成,這兩種清洗液的使用溫度一般在 80 ℃以?xún)?nèi),有時(shí)也需要將溶液冷卻到室溫以下。1.2.2 改進(jìn)的 RCA 清洗RCA 清洗一般都需要在高溫下進(jìn)行,并且化學(xué)液的濃度很高,這樣就造成大量消耗化學(xué)液和去離子水的問(wèn)題。目前,很少有人還按照最初的 RCA化學(xué)液配比進(jìn)行濕法清洗。在 RCA 清洗的基礎(chǔ)上,采用稀釋化學(xué)法,將SC-1、SC-2 稀釋到 100 倍以上,也可以達(dá)到甚至超過(guò)最初的 RCA 清洗效果。改進(jìn)的 RCA 清洗方法最大的好處是減少了化學(xué)液的消耗,可使化學(xué)液的消耗量減少 85﹪以上。另外,附加兆聲或超聲能量后,可大大降低溶液的使用溫度和反應(yīng)時(shí)間,提高溶液的使用壽命,大幅度降低了生產(chǎn)成本,同時(shí),低濃度化學(xué)液對(duì)人體健康和安全方面...
晶片清洗機(jī)設(shè)備名稱(chēng):晶片清洗機(jī)-華林科納CSE清洗對(duì)象:本設(shè)備適用于2″~8″晶片清洗。 ⑴超聲清洗,加熱清洗為單槽定時(shí)控制,到時(shí)給予結(jié)束提示音。⑵工藝過(guò)程:上料→支離子水超聲清洗→去離子水加熱清洗→去離子水沖洗→ 下 料 本設(shè)備為柜體式,操作面帶有透明門(mén)窗。⑴槽體材料為德國(guó)進(jìn)口聚丙烯(磁白色PP板),焊口采用SS外包5mm厚德國(guó)磁白色PP板,外型美觀實(shí)用。 ⑵設(shè)備超聲,加熱清洗時(shí)間由定時(shí)器控制。 ⑶加熱槽裝有溫控表(pompon)和傳感器。 ⑷每個(gè)清洗槽互不影響,超聲、沖洗清洗槽的上給水(沖洗清洗槽配有熱水)、下排水為手動(dòng)方式。 ⑸配有可調(diào)節(jié)式的排風(fēng)裝置。 ⑹配有美國(guó)進(jìn)口氮?dú)鈬姌尅?#160;⑺電控部分采用密封保護(hù)方式配有緊急停機(jī)及報(bào)警裝置。更多半導(dǎo)體設(shè)備可以關(guān)注華林科納(江蘇)半導(dǎo)體設(shè)備官網(wǎng)regal-bio.cn;現(xiàn)在咨詢(xún)400-8768-096,18913575037可立即免費(fèi)獲取華林科納CSE提供的設(shè)備相關(guān)方案
太陽(yáng)能硅片制絨腐蝕清洗機(jī)-CSE在光伏發(fā)電領(lǐng)域,由于多晶硅電池片成本較低,其 市 場(chǎng) 占有率已躍居首位,但相對(duì)于單晶硅電池片而言仍存在著反 射率較高、電池效率不足的缺陷。為縮小多晶硅太陽(yáng)能電池 片與單晶硅太陽(yáng)能電池片之間的差距,采用織構(gòu)化多晶硅表 面的方法提高多晶硅片吸光能力是一條行之有效的途徑。目前,多晶硅表面織構(gòu)化的方法主要有機(jī)械刻槽、激光刻槽、反應(yīng)離子體蝕刻、酸腐蝕制絨等,其中各 向同性酸腐制絨技術(shù)的工藝簡(jiǎn)單,可以較容易地整合到多晶 硅太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)工序中,同時(shí)成 本 最 低,因 而 在 大 規(guī) 模 的工業(yè)生產(chǎn)中得到了廣泛的應(yīng)用。更多的太陽(yáng)能硅片制絨腐蝕清洗機(jī)設(shè)備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(regal-bio.cn),現(xiàn)在熱線咨詢(xún)400-8768-096可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體清洗解決方案。
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