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Products 產(chǎn)品詳情
產(chǎn)品名稱:

石英管道清洗機(jī)設(shè)備-CSE

上市日期: 2016-12-05

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管道清洗機(jī)設(shè)備—華林科納CSE

半自動石英管清洗設(shè)備適用于臥式或立式石英管清洗

34.jpg


優(yōu)點

石英管清洗:臥式—標(biāo)準(zhǔn)/立式—選項

> 先進(jìn)的圖形化界面

> 極高的生產(chǎn)效率

> 最佳的占地

> 結(jié)合最先進(jìn)工藝技術(shù)

> 優(yōu)越的可靠性

> 獨特的模塊化結(jié)構(gòu)

> 極其便于維修

35.png



?應(yīng)用

> 清洗不同尺寸的石英管

36.jpg


一般特征

> 可編程使得清洗管旋轉(zhuǎn),清洗更干凈

> PVDF工藝槽

> 裝有清洗溶劑的儲備槽(根據(jù)使用化學(xué)品的數(shù)量)放置在工藝槽的后下方 — 直接注入且內(nèi) 部進(jìn)行不斷循環(huán)

> 特別的噴淋嘴更益于石英管清洗

> 集成水槍和N2搶

> 單獨排液系統(tǒng)

> 安全蓋子

> 易于操作和控制

> 節(jié)約用酸系統(tǒng)

> 全自動的清洗工藝步驟

> 備件

> 經(jīng)濟(jì)實惠的PP外殼材料—標(biāo)準(zhǔn)


更多的石英管道清洗機(jī)設(shè)備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(regal-bio.cn),現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096可立即獲取免費的半導(dǎo)體清洗解決方案。?

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1、設(shè)備概況:

主要功能:本設(shè)備主要采用手動搬運方式,通過對擴(kuò)散、外延等設(shè)備的石英管、碳化硅管腐蝕、漂洗等方式進(jìn)行處理,從而達(dá)到一個用戶要求的清洗效果。主體采用德國勞士領(lǐng) 瓷白PP板,骨架采用不銹鋼 外包PP 防腐板;

設(shè)備名稱:半自動石英管清洗機(jī)

設(shè)備型號:CSE-SC-N401

整機(jī)尺寸(參考):4500mm*1500mm*2100mm;

被清洗爐管尺寸(Max):也可清洗其它可放入清洗槽中的石英器皿等被清洗物

設(shè)備形式:室內(nèi)放置型;

節(jié)拍:約1--12小時(節(jié)拍可調(diào)根據(jù)實際工藝時間而定)

操作形式:半自動

2、設(shè)備描述

此裝置是一個半自動的處理設(shè)備。

PROFACE 8.0英寸大型觸摸屏顯示?/檢測?/操作

清洗工作過程由三菱 / 歐姆龍PLC控制。

3、設(shè)備特點:

腐蝕漂洗能力強(qiáng),穩(wěn)定,安全;

設(shè)備成合理,自動程度高,使成本低;

技術(shù)先進(jìn),結(jié)構(gòu)合理,宜生產(chǎn)線上大批次操作;

結(jié)合華林科納公司全體同仁之力,年品質(zhì)保障,使其各分遠(yuǎn)遠(yuǎn)領(lǐng)先同類產(chǎn)品;

設(shè)備上層電器控制系統(tǒng)及抽風(fēng)系統(tǒng),中層工作區(qū),下層為管道安裝維修區(qū),主體結(jié)構(gòu)由清洗機(jī)主體、酸洗槽、水清洗槽、防漏盤、抽風(fēng)系統(tǒng)、工件滾動系統(tǒng)、氮氣鼓泡系統(tǒng)、支撐及旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)、管路部分、電控部分。

本設(shè)備裝有雙防漏盤結(jié)構(gòu),并有防漏檢測報警系統(tǒng),在整臺設(shè)備的底部裝有接液盤。

設(shè)備配有在槽體下方配有傾斜式防漏層。

4、工藝流程:

檢查水、電、氣正常→啟動電源→人工上料→注酸→槽體底部氮氣鼓泡→石英管轉(zhuǎn)動(7轉(zhuǎn)/min)→進(jìn)入酸泡程序→自動排酸(到儲酸箱)→槽體底部自動注水(同時氣動碟閥關(guān)閉)→懸浮顆粒物經(jīng)過溢流壩流出→排水碟閥打開(重顆粒雜質(zhì)排出)→初級潔凈水經(jīng)過溢流壩溢出→清洗次數(shù)重復(fù)循環(huán)(人工控制)→下料。?

酸洗和水洗在同一槽內(nèi)完成

1#,2#可通過循環(huán)泵循環(huán)使用

5、設(shè)備可靠性保障措施:

系統(tǒng)結(jié)構(gòu)采用國外典型處理方法,保證系統(tǒng)結(jié)構(gòu)的合理性和適應(yīng)性;

結(jié)構(gòu)采用潔凈化處理技術(shù),可達(dá)到國外同類產(chǎn)品水平;

采用國外引進(jìn)元器件及專業(yè)廠家產(chǎn)品;

國產(chǎn)元器件采用國內(nèi)專業(yè)廠家生產(chǎn)和經(jīng)證實質(zhì)量優(yōu)質(zhì)的高性能元件;

設(shè)計、生產(chǎn)、制造采用 ISO9001 和軍工質(zhì)量管理體系保證;

設(shè)備的生產(chǎn)加工除下料、焊接在普通廠房內(nèi)進(jìn)行外,裝配、調(diào)試等工序都在萬級超凈間內(nèi)進(jìn)行;

所有零部件在進(jìn)入萬級超凈間前均進(jìn)行清洗;

設(shè)備出廠前都經(jīng)過嚴(yán)格的滲漏檢查;

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2016 - 03 - 07
枚葉式清洗機(jī)-華林科納CSE華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-單片枚葉式洗凈裝置的特長:單片式清洗裝置的優(yōu)點(與浸漬.槽式比較)1.晶片表面的微粒數(shù)非常少(到25nm可對應(yīng))例:附著粒子數(shù)…10個/W以下(0.08UM以上粒子)(參考)槽式200個/W2.藥液純水的消費量少藥液…(例)1%DHF的情況  20L/日純水...每處理一枚晶片0.5-1L/分3.小裝置size(根據(jù)每個客戶可以定制) 液體濺射(塵埃強(qiáng)制除去)  (推薦)清洗方法單片式裝置的Particle再附著問題   更多的半導(dǎo)體單片枚葉式濕法腐蝕清洗設(shè)備相關(guān)信息可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(www.hlkncas.com),現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096;18913575037可立即獲取免費的半導(dǎo)體清洗解決方案。
2016 - 03 - 07
自動供酸系統(tǒng)(CDS)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-CDS自動供酸系統(tǒng) 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進(jìn)行配送,經(jīng)管道至設(shè)備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點;具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩涌刂颇J?、自動控制模式設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-CDS自動供酸系統(tǒng)設(shè)備型號CSE-CDS-N1507設(shè)計基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房內(nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房;3. 設(shè)備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10...
2016 - 03 - 08
IPA干燥設(shè)備-華林科納CSE華林科納(江蘇)CSE-IPA干燥設(shè)備主要用于材料加工 太陽能電池片 分立器件 GPP等行業(yè)中晶片的沖洗干燥工藝,單臺產(chǎn)量大,效率高設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-IPA干燥設(shè)備應(yīng)用范圍適用于2-8”圓片及方片動平衡精度高規(guī)格工藝時間: 一般親水性晶圓片: ≤10 增加 @ 0.12 μm疏水性晶圓片: ≤30 增加 @ 0.12 μm金屬含量: 任何金屬≤ 1?1010 atoms / cm2 增加干燥斑點: 干燥后無斑點IPA 消耗量: ≤ 30 ml / run 設(shè)備制造商華林科納(江蘇)半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 regal-bio.cn 400-8768-096 ;18913575037IPA 干燥系統(tǒng)組成: IPA干燥工藝原理 01...
2016 - 03 - 07
刻蝕方法分為:干法刻蝕和濕法刻蝕,干法刻蝕是以等離子體進(jìn)行薄膜刻蝕的技術(shù),一般是借助等離子體中產(chǎn)生的粒子轟擊刻蝕區(qū),它是各向異性的刻蝕技術(shù),即在被刻蝕的區(qū)域內(nèi),各個方向上的刻蝕速度不同,通常Si3N4、多晶硅、金屬以及合金材料采用干法刻蝕技術(shù);濕法刻蝕是將被刻蝕材料浸泡在腐蝕液內(nèi)進(jìn)行腐蝕的技術(shù),這是各向同性的刻蝕方法,利用化學(xué)反應(yīng)過程去除待刻蝕區(qū)域的薄膜材料,通常SiO2采用濕法刻蝕技術(shù),有時金屬鋁也采用濕法刻蝕技術(shù)。下面分別介紹各種薄膜的腐蝕方法流程:二氧化硅腐蝕:在二氧化硅硅片腐蝕機(jī)中進(jìn)行,腐蝕液是由HF、NH4F、與H2O按一定比例配成的緩沖溶液。腐蝕溫度一定時,腐蝕速率取決于腐蝕液的配比和SiO2摻雜情況。摻磷濃度越高,腐蝕越快,摻硼則相反。SiO2腐蝕速率對溫度最敏感,溫度越高,腐蝕越快。具體步驟為:1、將裝有待腐蝕硅片的片架放入浸潤劑(FUJI FILM DRIWEL)中浸泡1...
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