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歡迎訪問華林科納(江蘇)半導體設備技術(shù)有限公司官網(wǎng)
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始于90年代末

濕法制程整體解決方案提供商

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發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
在LED外延及芯片制造領域,濕法設備占據(jù)約40%以上的工藝,隨著工藝技術(shù)的不斷發(fā)展,濕法設備已經(jīng)成為LED外延及芯片制造領域的關鍵設備,如SPM酸清洗、有機清洗、顯影、去膠、ITO蝕刻、BOE蝕刻、PSS高溫側(cè)腐、下蠟、勻膠、甩干、掩膜版清洗等。華林科納(江蘇)CSE深入研究LED生產(chǎn)工藝,現(xiàn)已形成可滿足LED產(chǎn)業(yè)化項目需求的全自動濕法工藝標準成套設備。 LED 芯片的制造工藝流程為:外延片→清洗→鍍透明電極層→透明電極圖形光刻→腐蝕→去膠→平臺圖形光刻→干法刻蝕→去膠→退火→SiO2 沉積→窗口圖形光刻→SiO2腐蝕→去膠→N極圖形光刻→預清洗→鍍膜→剝離→退火→P 極圖形光刻→鍍膜→剝離→研磨→切割→芯片→成品測試。 CSE-外延片清洗機設備 設備名稱華林科納(江蘇)CSE-外延片清洗機設備可處理晶圓尺寸2”-12”可處理晶圓材料硅、砷化鎵、磷化銦、氮化鎵、碳化硅、鈮酸鋰、鉭酸鋰等應用領域集成電路、聲表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先進封裝等專有技術(shù)系統(tǒng)潔凈性技術(shù)均勻性技術(shù)晶圓片N2干燥技術(shù)模塊化系統(tǒng)集成技術(shù)自動傳輸及精確控制技術(shù)溶液溫度、流量和壓力的精確控制技術(shù)主要技術(shù)特點系統(tǒng)結(jié)構(gòu)緊湊、安全腔體獨立密封,具有多種功能可實現(xiàn)晶圓干進干出采用工控機控制,功能強大,操作簡便可根據(jù)用戶要求提供個性化解決方案設備制造商華林科納(江蘇)半導體設備有限公司 regal-bio.cn 400-8768-096 ;18915583058更多的外延片清洗設備相關資訊可以關注華林科納CSE官網(wǎng)(regal-bio.cn),現(xiàn)在熱線咨詢400-8798-096可立即獲取免費的半導體行業(yè)相關清洗設備解決方案。
發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
旋轉(zhuǎn)式噴鍍臺結(jié)合微組裝工藝對鍍制工藝的小批量、多規(guī)格和特殊應用要求等特點,在6" (150mm)晶圓電鍍系統(tǒng)中采用了傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍單元分由兩個部分組成,一為陰極夾具、旋轉(zhuǎn)單元、導線電刷、N2 保護單元組成的陰極回轉(zhuǎn)體,二為三角形槽體、陽極和電力線擋板組成的陽極腔。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍結(jié)構(gòu)示意圖如下:從鍍制結(jié)構(gòu)方式、鍍制工藝應用分析可以看出,采用傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍有以下幾種優(yōu)勢。一是這種結(jié)構(gòu)方式易實現(xiàn)槽體密封和附加N2 保護功能。二是在這種鍍制工藝中,陰極的旋轉(zhuǎn)運動使槽內(nèi)電場不均問題得以解決,從而提高了鍍制的均勻性。三是呈45°傾斜加陰極旋轉(zhuǎn)的方式,可以較容易的祛除晶圓表面的氣泡附著及“產(chǎn)生”氣泡的消除。四是采用了多微孔進行鍍液噴射,實現(xiàn)攪拌功能,消除局部PH值、溫度、離子濃度等不均勻帶來的影響。五是采用三角形鍍槽設計最大限度的減少了鍍液的消耗。六是該鍍制結(jié)構(gòu)方式可以滿足多品種、小批量、低成本的生產(chǎn)需求。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)、工藝優(yōu)勢斜式三角鍍槽結(jié)構(gòu)本系統(tǒng)采用傾斜式三角形鍍槽結(jié)構(gòu),鍍槽入口溢流口均與三角形斜邊平行,可得到穩(wěn)定且不易積累氣泡的流場環(huán)境。通過進行相關模擬、仿真和驗證,鍍液入口采用扇形噴咀式結(jié)構(gòu),可保證鍍液在平行于陰極表面方向上形成均勻而穩(wěn)定的流場。從而通過改變流場的方法改善了鍍層的均勻性。該結(jié)構(gòu)的另一優(yōu)點可使電鍍液的用量減至最少程度。 華林科納(江蘇)CSE采用傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍方法進行晶圓電鍍工藝處理,由于結(jié)構(gòu)上的特點,該方法經(jīng)實驗驗證具有:①結(jié)構(gòu)簡單;②工藝參數(shù)控制容易;③有利氣泡的消除;④鍍制均勻性得到提高;⑤鍍制溶液用量少。該方法尤其適應于小批量、多規(guī)格的電鍍工藝,同時可以取得較好的鍍制均勻性。圖6為我們所研制的150mm晶圓傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍系統(tǒng),目前已批量生產(chǎn)并在工藝線上得到較好的應用,產(chǎn)品已通過技術(shù)定型鑒定和用戶驗收。實現(xiàn)的主要工藝指標:最...
發(fā)布時間: 2016 - 06 - 22
雙腔甩干機1. 應用范圍:l 本機臺適用於半導體2”4”6”8”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 設備為垂直式雙槽體機臺,可同Run 50片.l 可對旋乾步驟進行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設備已超過20年以上的應用馬達控制系統(tǒng)設計, 高穩(wěn)定度Rotor 設計, 震動值均控制於300 um 以下.l 高潔淨設計,微塵控制於每次運轉(zhuǎn)增加量, 0.3um , 30顆以下.   2. 操作流程3. 圖示 4. 規(guī)格l 機臺內(nèi)皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達: DC無刷馬達750Wl 真空負壓軸封設計,隔離槽外污染l 不銹鋼N2過濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測保護(加熱器空燒保護)l 槽外貼Silicon材質(zhì)加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開關90°C OFF 70°C ON)l  Viton材質(zhì)充氣式氣囊及槽後密封環(huán),保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經(jīng)拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉(zhuǎn)子,並按客戶需求指定使用訂做l 轉(zhuǎn)子經(jīng)拋光及電解研磨,並做動態(tài)平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂故障碼功能: 門鎖警告,氣體不足,傳動異常警告 5. 電控系統(tǒng)l  控制器操作介面: 7”記憶人機+ PLC可程式自動化控制器(人機 Touch Screen,整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/,皆可從操作螢幕上修改。Ø 儲存能力記憶模組...
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 07
枚葉式清洗機-華林科納CSE華林科納(江蘇)半導體CSE-單片枚葉式洗凈裝置的特長:單片式清洗裝置的優(yōu)點(與浸漬.槽式比較)1.晶片表面的微粒數(shù)非常少(到25nm可對應)例:附著粒子數(shù)…10個/W以下(0.08UM以上粒子)(參考)槽式200個/W2.藥液純水的消費量少藥液…(例)1%DHF的情況  20L/日純水...每處理一枚晶片0.5-1L/分3.小裝置size(根據(jù)每個客戶可以定制) 液體濺射(塵埃強制除去)  (推薦)清洗方法單片式裝置的Particle再附著問題   更多的半導體單片枚葉式濕法腐蝕清洗設備相關信息可以關注華林科納CSE官網(wǎng)(www.hlkncas.com),現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096;18913575037可立即獲取免費的半導體清洗解決方案。
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 07
自動供酸系統(tǒng)(CDS)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導體CSE-CDS自動供酸系統(tǒng) 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送,經(jīng)管道至設備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點;具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩涌刂颇J?、自動控制模式設備名稱華林科納(江蘇)CSE-CDS自動供酸系統(tǒng)設備型號CSE-CDS-N1507設計基準1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設置于化學房內(nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學房;3. 設備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點;5. 過濾器:配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質(zhì)的進口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關;8. 所有化學品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統(tǒng)設備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設備主要功能:每種化學液體配兩個桶(自動切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動化與親和力。在...
發(fā)布時間: 2018 - 01 - 23
單片清洗機-華林科納CSESingle wafer cleaner system華林科納(江蘇)CSE-自動單片式腐蝕清洗機應用于清洗(包括光刻板清洗)刻蝕 去膠 金屬剝離等;可處理晶圓尺寸2'-12';可處理晶圓材料:硅 砷化鎵 磷化銦 氮化鎵 碳化硅 鈮酸鋰 鉭酸鋰等;主要應用領域:集成電路   聲表面波器件  微波毫米波器件  MEMS  先進封裝等  設 備 名 稱CSE-單片清洗機類  型單片式適 用 領 域半導體、太陽能、液晶、MEMS等清 洗 方 式2英寸——12英寸設備穩(wěn)定性1、≥0.2um顆粒少于10顆2、金屬附著量:3E10 atoms/ cm²3、純水消耗量:1L/min/片4、蝕刻均一性良好(SiO?氧化膜被稀釋HF處理):≤2%5、干燥時間:≤20S6、藥液回收率:>95%單片式優(yōu)點1、單片處理時間短(相較于槽式清洗機)2、節(jié)約成本(藥液循環(huán)利用,消耗量遠低于槽式)3、良品率高4、有效避免邊緣再附著5、立體層疊式結(jié)構(gòu),占地面積小 更多的單片(枚葉)式清洗相關設備可以關注華林科納(江蘇)半導體官網(wǎng),關注http://regal-bio.cn ,400-8768-096,18913575037
發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
氫氟酸HF自動供液系統(tǒng)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導體CSE-氫氟酸供液系統(tǒng) 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送,經(jīng)管道至設備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點;具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩涌刂颇J健⒆詣涌刂颇J?#160;設備名稱華林科納(江蘇)CSE-氫氟酸(HF)供液系統(tǒng)設備型號CSE-CDS-N2601設計基準1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設置于化學房內(nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學房;3. 設備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點;5. 過濾器:配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質(zhì)的進口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關;8. 所有化學品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統(tǒng)設備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設備主要功能:每種化學液體配兩個桶(自動切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動化...
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硅以外的半導體材料探索之旅

時間: 2018-10-09
點擊次數(shù): 153

此時此刻,半導體行業(yè)理所當然地關注著摩爾定律即將發(fā)生的變化,這個著名的技術(shù)預測奠定了微電子時代驚人進步的基礎,以及它對硅芯片技術(shù)持續(xù)進步和主導地位的潛在影響。這意味著考慮微系統(tǒng)的歷史中的另一個卓有遠見的觀點是值得的。當新生的高級研究計劃局(DARPA)在1959年度過一周年紀念日時,加州理工學院的理查德·費曼(Richard Feynman)教授發(fā)表了他最著名、最重要的演講之一,題為“在底部還有很大空間”。

同戈登·摩爾一樣,費曼也預測到了微尺度系統(tǒng)內(nèi)的許多技術(shù)進步機會。然而,費曼的觀點更為寬泛,強調(diào)了在原子尺度上操縱結(jié)構(gòu)的能力所帶來的奇特可能性。DARPA在將包括半導體在內(nèi)的許多“奇異”結(jié)構(gòu)帶入現(xiàn)實生活的過程中發(fā)揮了核心作用,其能力超越了半個世紀以來硅電子所取得的二進制處理能力。

硅以外的半導體材料探索之旅

費曼的演講在20世紀80年代激發(fā)了人們對納米技術(shù)的興趣,因為他對納米技術(shù)的推測以及在原子尺度上定制材料的能力正逐步實現(xiàn)。當時,新興的晶體生長技術(shù)正在創(chuàng)造一種稱為復合半導體的材料,在這種材料中,精確的化學成分或合金可以在原子水平上逐層變化。特別是GaAs及其合金作為新的神奇材料出現(xiàn),使晶體管的性能遠遠超過硅的極限。DARPA發(fā)現(xiàn)新型GaAs晶體管具有更快速移動電子的潛力,從而可以在電磁頻譜的更高頻率上工作。雖然這項新技術(shù)不會在高度集成的數(shù)字邏輯上取代硅技術(shù),但DARPA預計其價值將推動下一代雷達和通信系統(tǒng)的發(fā)展。為此,DARPA在1988年從國防部長辦公室(OSD)手中接過了指揮棒,開始了“微波和毫米波集成電路(MIMIC)”計劃,該計劃于兩年前由OSD提出。

DARPA的MIMIC技術(shù),特別是由它產(chǎn)生的集成技術(shù),使國防部能夠制造出無線電和雷達系統(tǒng),以比先前任何時候都更高的頻率和帶寬使用頻譜。

2018年3月11日,美國空軍一架F-16C獵鷹戰(zhàn)斗機在阿富汗上空同KC-135同溫層加油機補給完畢后,起飛返回巡邏區(qū)域。這架飛機的聯(lián)合直接攻擊彈藥的核心是通過DARPA的MIMIC計劃開發(fā)的高性能芯片,這種芯片也使得精確武器所需的RF和毫米波電路成為可能。

硅以外的半導體材料探索之旅

一名第10山地師步兵旅戰(zhàn)斗隊3-6 FA的士兵駕駛著新型精密火力拆卸系統(tǒng),該系統(tǒng)讓士兵可以通過一個應用程序在已批準的智能手機上觀看無人機上的實時流媒體全動態(tài)視頻。世界范圍內(nèi)普遍使用的手機技術(shù)部分歸功于DARPA資助研究的GaAs半導體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。

MIMIC計劃一直持續(xù)到1995年,對工業(yè)產(chǎn)生了深遠的影響,它尋求開發(fā)將高頻材料和組件集成到軍事相關技術(shù)(如無線電和雷達)中的方法和手段,并建立可靠的工業(yè)基地完成這些事情。實際上,MIMIC計劃可以實現(xiàn)GaAs晶體管技術(shù),從而產(chǎn)生一類新的RF“前端”組件。射頻系統(tǒng)的前端是在電磁頻譜中發(fā)送和接收信號的放大技術(shù)。DARPA的MIMIC技術(shù),特別是其中出現(xiàn)的集成技術(shù),使得國防部(DOD)能夠制造出比以往任何時候都能在更高頻率和帶寬上接入頻譜的無線電和雷達系統(tǒng)。GaAs技術(shù)在國防部系統(tǒng)中的應用一直持續(xù)到今天。

除了國防應用之外,高頻GaAs放大器為商業(yè)界提供了一個關鍵的拼圖,因為商業(yè)界在上世紀90年代尋求建立新的移動電話技術(shù)。GaAs晶體管使得裝有小電池的手提電話能夠建立與發(fā)射塔的關鍵通信鏈路。直到今天,每一部智能手機都包含一小部分GaAs來執(zhí)行這一關鍵功能,而且由于DARPA對MIMIC計劃的投資,美國在這個價值數(shù)十億美元的半導體行業(yè)的供應商中享有占據(jù)主導地位。

GaAs技術(shù)的成功證明了硅之外的半導體技術(shù)的防御意義和商業(yè)可行性,并將一種曾經(jīng)新奇的研究材料變成了一種商品技術(shù)。然而,即使GaAs正在逐漸成熟,但由美國海軍研究辦公室(ONR)和其他機構(gòu)贊助的研究人員已經(jīng)開始發(fā)現(xiàn)半導體材料的下一個飛躍。寬帶隙半導體(WBGS)材料被認為是很有前途的,因為它們能像GaAs那樣快速移動電子,同時也能處理大電場。這種高電流和高電壓的結(jié)合驅(qū)動了提供更多RF功率的能力。雖然世界各地也正在開發(fā)幾種候選材料,但DARPA認為GaN及其合金最有前途,并且建立了寬帶隙半導體射頻(WBGS-RF)計劃來快速推進這項技術(shù)。

WBGS-RF計劃試圖將尚未經(jīng)證實的有潛力的材料成熟化,使之成為可以促進國防事業(yè)的工業(yè)技術(shù)。該計劃于21世紀初啟動,最初采用GaN材料,用直徑2英寸的小型半導體晶圓承載,晶圓上有大量微管或孔洞,形如瑞士奶酪。在這種不順利的狀態(tài)下,WBGS-RF計劃系統(tǒng)地解決了材料方面的挑戰(zhàn),然后逐步成功地承擔了器件和電路設計方面的挑戰(zhàn)。最終,GaN技術(shù)實現(xiàn)了它的承諾,現(xiàn)在正被用于下一代雷達技術(shù),如海軍的空中和導彈防御雷達(AMDR)。除此之外,還有更多的事情要做:GaN現(xiàn)在是所有主要RF半導體公司的技術(shù)組合的一部分。美國再次在這個新興市場中占據(jù)主導地位。

DARPA的努力使得復合半導體從研究邊緣發(fā)展成為主流半導體產(chǎn)業(yè)。DARPA還推動主流硅技術(shù)采用包括硅合金在內(nèi)的變體。特別值得一提的是,硅與鍺的組合是DARPA在21世紀初支持的“高效、敏捷的微系統(tǒng)技術(shù)(TEAM)”計劃所倡導的技術(shù)。鍺(Ge)是1947年貝爾實驗室制造的晶體管的材料基礎;然而,由于鍺的可靠性問題和硅的加工優(yōu)勢,鍺很快就被拋棄,人們轉(zhuǎn)而青睞硅。讓鍺回歸的理由是,盡管它本身沒有用,但是包含Ge與Si或SiGe混合的材料使得具有增強RF性能的器件的原子級工程可以直接構(gòu)建高密度的傳統(tǒng)硅邏輯器件。這種技術(shù)不具備GaAs和GaN等其他復合半導體的完整性能優(yōu)勢,但它有能力生產(chǎn)混合模擬和數(shù)字功能的芯片。事實證明,這種特性非常有用,SiGe技術(shù)現(xiàn)在已成為為本地WiFi放大器等應用提供低功耗商用解決方案的主導,現(xiàn)在有望為5G通信提供相控陣系統(tǒng)。

GaAs、GaN和SiGe晶體管技術(shù)的這些引人注目的成功證明了通過在原子尺度上操縱晶體結(jié)構(gòu)可能實現(xiàn)的持續(xù)創(chuàng)新。然而,即使這些努力也是在硅半導體領域建立的相對容易理解的晶體管物理范例內(nèi)進行的。微系統(tǒng)更廣泛的前沿領域已經(jīng)超越了材料的電子特性,正如在此過程中出現(xiàn)的一些更奇特的技術(shù)所說明的那樣。例如,DARPA在21世紀初進行了一系列計劃,利用半導體加工來制造可移動和彎曲的微小結(jié)構(gòu),而不僅僅是傳導電子,支持了微型機電系統(tǒng)(MEMS)的發(fā)展。MEMS技術(shù)在DARPA的支持下蓬勃發(fā)展,如今已發(fā)展成為一個價值數(shù)十億美元的產(chǎn)業(yè)。MEMS運動傳感器和執(zhí)行器是安全氣囊保護系統(tǒng)、導航,以及游戲產(chǎn)品的核心,甚至是在影院屏幕上投射電影的內(nèi)含數(shù)百萬個的微鏡的數(shù)字微鏡芯片。

近年來,DARPA率先利用所謂的相變材料來制造RF開關,這種開關通過材料晶體結(jié)構(gòu)的轉(zhuǎn)換來操作,而不是通過傳統(tǒng)的晶體管動作。這種大規(guī)模轉(zhuǎn)換到另一種物理基礎和用于數(shù)字切換的材料,讓太赫茲頻段的RF開關的演示成為可能,太赫茲頻段是手機操作頻率的1000倍左右。

在DARPA的持續(xù)投資下,半導體技術(shù)層出不窮,它們強化了費曼關于微系統(tǒng)領域存在的廣泛機會的觀點。雖然這些微米和納米的景觀已經(jīng)不是DARPA成立時的樣子,但是在底部還有很大空間!

硅以外的半導體材料探索之旅

?2英寸單晶GaAs晶圓,紫色是橡膠手套的反射。

硅以外的半導體材料探索之旅

?DARPA的GaN-on-diamond高電子遷移率晶體管(HEMT)表現(xiàn)出了改進的熱性能,可以為RF系統(tǒng)帶來更好的性能。

硅以外的半導體材料探索之旅

▲?密歇根大學受DARPA資助的研究人員在定時和慣性測量單元(TIMU)方面取得了重大進展,該單元包含了暫時無法使用GPS時所需的一切輔助導航。單芯片TIMU原型包含六軸IMU(三個陀螺儀和三個加速度計),并將高度精確的主時鐘集成到比一美分硬幣還小的微型系統(tǒng)中。這個IMU芯片集成了突破性器件(時鐘、陀螺儀和加速度計)、材料,以及DARPA的“用于定位導航授時的微技術(shù)(Micro-PNT)”計劃中的設計。

來源:半導體行業(yè)觀察



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