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始于90年代末

濕法制程整體解決方案提供商

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發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
在LED外延及芯片制造領域,濕法設備占據(jù)約40%以上的工藝,隨著工藝技術的不斷發(fā)展,濕法設備已經(jīng)成為LED外延及芯片制造領域的關鍵設備,如SPM酸清洗、有機清洗、顯影、去膠、ITO蝕刻、BOE蝕刻、PSS高溫側腐、下蠟、勻膠、甩干、掩膜版清洗等。華林科納(江蘇)CSE深入研究LED生產(chǎn)工藝,現(xiàn)已形成可滿足LED產(chǎn)業(yè)化項目需求的全自動濕法工藝標準成套設備。 LED 芯片的制造工藝流程為:外延片→清洗→鍍透明電極層→透明電極圖形光刻→腐蝕→去膠→平臺圖形光刻→干法刻蝕→去膠→退火→SiO2 沉積→窗口圖形光刻→SiO2腐蝕→去膠→N極圖形光刻→預清洗→鍍膜→剝離→退火→P 極圖形光刻→鍍膜→剝離→研磨→切割→芯片→成品測試。 CSE-外延片清洗機設備 設備名稱華林科納(江蘇)CSE-外延片清洗機設備可處理晶圓尺寸2”-12”可處理晶圓材料硅、砷化鎵、磷化銦、氮化鎵、碳化硅、鈮酸鋰、鉭酸鋰等應用領域集成電路、聲表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先進封裝等專有技術系統(tǒng)潔凈性技術均勻性技術晶圓片N2干燥技術模塊化系統(tǒng)集成技術自動傳輸及精確控制技術溶液溫度、流量和壓力的精確控制技術主要技術特點系統(tǒng)結構緊湊、安全腔體獨立密封,具有多種功能可實現(xiàn)晶圓干進干出采用工控機控制,功能強大,操作簡便可根據(jù)用戶要求提供個性化解決方案設備制造商華林科納(江蘇)半導體設備有限公司 regal-bio.cn 400-8768-096 ;18915583058更多的外延片清洗設備相關資訊可以關注華林科納CSE官網(wǎng)(regal-bio.cn),現(xiàn)在熱線咨詢400-8798-096可立即獲取免費的半導體行業(yè)相關清洗設備解決方案。
發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
旋轉式噴鍍臺結合微組裝工藝對鍍制工藝的小批量、多規(guī)格和特殊應用要求等特點,在6" (150mm)晶圓電鍍系統(tǒng)中采用了傾斜式旋轉噴鍍技術傾斜式旋轉噴鍍單元分由兩個部分組成,一為陰極夾具、旋轉單元、導線電刷、N2 保護單元組成的陰極回轉體,二為三角形槽體、陽極和電力線擋板組成的陽極腔。傾斜旋轉噴鍍結構示意圖如下:從鍍制結構方式、鍍制工藝應用分析可以看出,采用傾斜式旋轉噴鍍有以下幾種優(yōu)勢。一是這種結構方式易實現(xiàn)槽體密封和附加N2 保護功能。二是在這種鍍制工藝中,陰極的旋轉運動使槽內(nèi)電場不均問題得以解決,從而提高了鍍制的均勻性。三是呈45°傾斜加陰極旋轉的方式,可以較容易的祛除晶圓表面的氣泡附著及“產(chǎn)生”氣泡的消除。四是采用了多微孔進行鍍液噴射,實現(xiàn)攪拌功能,消除局部PH值、溫度、離子濃度等不均勻帶來的影響。五是采用三角形鍍槽設計最大限度的減少了鍍液的消耗。六是該鍍制結構方式可以滿足多品種、小批量、低成本的生產(chǎn)需求。傾斜旋轉噴鍍技術、工藝優(yōu)勢斜式三角鍍槽結構本系統(tǒng)采用傾斜式三角形鍍槽結構,鍍槽入口溢流口均與三角形斜邊平行,可得到穩(wěn)定且不易積累氣泡的流場環(huán)境。通過進行相關模擬、仿真和驗證,鍍液入口采用扇形噴咀式結構,可保證鍍液在平行于陰極表面方向上形成均勻而穩(wěn)定的流場。從而通過改變流場的方法改善了鍍層的均勻性。該結構的另一優(yōu)點可使電鍍液的用量減至最少程度。 華林科納(江蘇)CSE采用傾斜旋轉噴鍍方法進行晶圓電鍍工藝處理,由于結構上的特點,該方法經(jīng)實驗驗證具有:①結構簡單;②工藝參數(shù)控制容易;③有利氣泡的消除;④鍍制均勻性得到提高;⑤鍍制溶液用量少。該方法尤其適應于小批量、多規(guī)格的電鍍工藝,同時可以取得較好的鍍制均勻性。圖6為我們所研制的150mm晶圓傾斜旋轉噴鍍系統(tǒng),目前已批量生產(chǎn)并在工藝線上得到較好的應用,產(chǎn)品已通過技術定型鑒定和用戶驗收。實現(xiàn)的主要工藝指標:最...
發(fā)布時間: 2016 - 06 - 22
雙腔甩干機1. 應用范圍:l 本機臺適用於半導體2”4”6”8”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 設備為垂直式雙槽體機臺,可同Run 50片.l 可對旋乾步驟進行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設備已超過20年以上的應用馬達控制系統(tǒng)設計, 高穩(wěn)定度Rotor 設計, 震動值均控制於300 um 以下.l 高潔淨設計,微塵控制於每次運轉增加量, 0.3um , 30顆以下.   2. 操作流程3. 圖示 4. 規(guī)格l 機臺內(nèi)皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達: DC無刷馬達750Wl 真空負壓軸封設計,隔離槽外污染l 不銹鋼N2過濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測保護(加熱器空燒保護)l 槽外貼Silicon材質(zhì)加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開關90°C OFF 70°C ON)l  Viton材質(zhì)充氣式氣囊及槽後密封環(huán),保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經(jīng)拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉子,並按客戶需求指定使用訂做l 轉子經(jīng)拋光及電解研磨,並做動態(tài)平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂故障碼功能: 門鎖警告,氣體不足,傳動異常警告 5. 電控系統(tǒng)l  控制器操作介面: 7”記憶人機+ PLC可程式自動化控制器(人機 Touch Screen,整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/,皆可從操作螢幕上修改。Ø 儲存能力記憶模組...
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 07
枚葉式清洗機-華林科納CSE華林科納(江蘇)半導體CSE-單片枚葉式洗凈裝置的特長:單片式清洗裝置的優(yōu)點(與浸漬.槽式比較)1.晶片表面的微粒數(shù)非常少(到25nm可對應)例:附著粒子數(shù)…10個/W以下(0.08UM以上粒子)(參考)槽式200個/W2.藥液純水的消費量少藥液…(例)1%DHF的情況  20L/日純水...每處理一枚晶片0.5-1L/分3.小裝置size(根據(jù)每個客戶可以定制) 液體濺射(塵埃強制除去)  (推薦)清洗方法單片式裝置的Particle再附著問題   更多的半導體單片枚葉式濕法腐蝕清洗設備相關信息可以關注華林科納CSE官網(wǎng)(www.hlkncas.com),現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096;18913575037可立即獲取免費的半導體清洗解決方案。
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 07
自動供酸系統(tǒng)(CDS)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導體CSE-CDS自動供酸系統(tǒng) 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送,經(jīng)管道至設備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點;具有良好的耐腐蝕性能。控制模式:手動控制模式、自動控制模式設備名稱華林科納(江蘇)CSE-CDS自動供酸系統(tǒng)設備型號CSE-CDS-N1507設計基準1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設置于化學房內(nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學房;3. 設備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點;5. 過濾器:配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質(zhì)的進口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關;8. 所有化學品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統(tǒng)設備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設備主要功能:每種化學液體配兩個桶(自動切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動化與親和力。在...
發(fā)布時間: 2018 - 01 - 23
單片清洗機-華林科納CSESingle wafer cleaner system華林科納(江蘇)CSE-自動單片式腐蝕清洗機應用于清洗(包括光刻板清洗)刻蝕 去膠 金屬剝離等;可處理晶圓尺寸2'-12';可處理晶圓材料:硅 砷化鎵 磷化銦 氮化鎵 碳化硅 鈮酸鋰 鉭酸鋰等;主要應用領域:集成電路   聲表面波器件  微波毫米波器件  MEMS  先進封裝等  設 備 名 稱CSE-單片清洗機類  型單片式適 用 領 域半導體、太陽能、液晶、MEMS等清 洗 方 式2英寸——12英寸設備穩(wěn)定性1、≥0.2um顆粒少于10顆2、金屬附著量:3E10 atoms/ cm²3、純水消耗量:1L/min/片4、蝕刻均一性良好(SiO?氧化膜被稀釋HF處理):≤2%5、干燥時間:≤20S6、藥液回收率:>95%單片式優(yōu)點1、單片處理時間短(相較于槽式清洗機)2、節(jié)約成本(藥液循環(huán)利用,消耗量遠低于槽式)3、良品率高4、有效避免邊緣再附著5、立體層疊式結構,占地面積小 更多的單片(枚葉)式清洗相關設備可以關注華林科納(江蘇)半導體官網(wǎng),關注http://regal-bio.cn ,400-8768-096,18913575037
發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
氫氟酸HF自動供液系統(tǒng)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導體CSE-氫氟酸供液系統(tǒng) 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送,經(jīng)管道至設備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點;具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩涌刂颇J?、自動控制模式 設備名稱華林科納(江蘇)CSE-氫氟酸(HF)供液系統(tǒng)設備型號CSE-CDS-N2601設計基準1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設置于化學房內(nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學房;3. 設備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點;5. 過濾器:配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質(zhì)的進口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關;8. 所有化學品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統(tǒng)設備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設備主要功能:每種化學液體配兩個桶(自動切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動化...
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紹興重磅發(fā)布集成電路規(guī)劃,中芯國際、韋爾半導體等陸續(xù)簽約落戶

時間: 2018-09-17
點擊次數(shù): 420

9月15日,2018中國(紹興)首屆集成電路產(chǎn)業(yè)高峰論壇在紹興市越城區(qū)召開,本次論壇以“融入大灣區(qū),打造‘芯’高地”為主題,集中交流探討新時期下集成電路產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新機遇與挑戰(zhàn),把脈未來市場熱點與應用,共商紹興集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展大計。

浙江省人民政府副省長高興夫、工信部電子信息司副司長吳勝武、市委書記馬衛(wèi)光、浙江省半導體行業(yè)協(xié)會理事長嚴曉浪、國家集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金股份有限公司副總裁張春生等致辭,市委副書記、市長盛閱春主持。包括中科院院士楊德仁在內(nèi)的約200位集成電路產(chǎn)業(yè)的專家學者、領軍企業(yè)代表金融及投資服務機構代表,集成電路專業(yè)媒體代表等參加了此次會議。

紹興集成電路發(fā)展早,列入大灣區(qū)打造芯高地

紹興市集成電路的發(fā)展起始于華越微電子有限公司(原八七一廠)落戶紹興。八七一廠為原國家集成電路重點發(fā)展的五大支柱企業(yè),八七一廠的到來為紹興帶來了當時集成電路產(chǎn)業(yè)最前沿的技術,營造了良好的氛圍。隨后,浙江華越芯裝電子股份有限公司、紹興光大芯業(yè)微電子有限公司、紹興芯谷科技有限公司等一批集成電路產(chǎn)業(yè)企業(yè)先后成立。

目前,紹興集成電路產(chǎn)業(yè)鏈已基本完善,涵蓋了設計、制造、封裝測試、設備等多個領域。據(jù)統(tǒng)計,紹興市共有集成電路產(chǎn)業(yè)企業(yè)13家,已初具規(guī)模,總投資58.8億元的中芯國際也選擇落戶紹興越城,目前已開工建設。2016年,全市集成電路產(chǎn)業(yè)主營業(yè)務收入13.8億元,利潤總額2.4億元;2017年,主營業(yè)務收入達25億元,同比增長81.2%;完成利潤總額3.81億元,同比增長59.1%。起步早、基礎實、后勁足,紹興集成電路蓄勢待發(fā),已成為紹興成長性最強的新興產(chǎn)業(yè)之一。

大灣區(qū)時代的到來,給紹興集成電路的發(fā)展帶來難得機遇。紹興地處杭州灣南岸,與國家集成電路產(chǎn)業(yè)設計基地杭州毗鄰,與全國集成電路設計中心上海僅一橋之隔。今年5月底,紹興濱海新區(qū)被列為杭州灣大灣區(qū)四大新區(qū)之一。6月3日,紹興發(fā)展大會進一步明確紹興濱海新區(qū)的“四片區(qū)”,越城片區(qū)被定義為“著力打造以集成電路、新一代信息技術為特色的信息高技術產(chǎn)業(yè)發(fā)展分區(qū)”。

論壇上,中共越城區(qū)委書記、區(qū)長金曉明發(fā)布了紹興集成電路小鎮(zhèn)規(guī)劃,將以集成電路產(chǎn)業(yè)為主導,著重引進集成電路設計-制造-封裝-測試-裝備等全產(chǎn)業(yè)鏈項目形成產(chǎn)業(yè)集群,計劃通過三到五年努力,到2022年末形成200億產(chǎn)值,到2025年形成500億產(chǎn)值,成為國家級集成電路產(chǎn)業(yè)園示范區(qū),目前正全力規(guī)劃建設集成電路小鎮(zhèn)。

紹興重磅發(fā)布集成電路規(guī)劃,中芯國際、韋爾半導體等陸續(xù)簽約落戶

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近期,越城區(qū)正全力跟進集成電路相關產(chǎn)業(yè)項目13個,所涉項目計劃總投資超200億元,意向用地1413畝。在本次論壇集中簽約活動上,該區(qū)與紹興集成電路小鎮(zhèn)創(chuàng)新綜合體項目、新華越IPT項目、北斗導航產(chǎn)業(yè)園項目、吉姆西半導體設備項目等8個項目集中簽約,協(xié)議總投資超150億元,主要涉及集成電路設計、制造、封裝、綜合運營、產(chǎn)業(yè)基金等領域。

紹興重磅發(fā)布集成電路規(guī)劃,中芯國際、韋爾半導體等陸續(xù)簽約落戶

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現(xiàn)場熱議集成電路的趨勢與機會

由芯謀市場信息咨詢首席分析師顧文軍主持了此次會議的主題演講環(huán)節(jié),作為活動的協(xié)辦方,顧文軍表示,紹興無論從地理位置、產(chǎn)業(yè)基礎還是政策措施等方面都具備突出的優(yōu)勢,芯謀為紹興的集成電路發(fā)展也提供了專業(yè)的規(guī)劃建議并協(xié)助引入企業(yè),相信在集成電路小鎮(zhèn)規(guī)劃出臺后必將吸引一批集成電路企業(yè)來紹興落戶。

致象爾微電子創(chuàng)始人兼CEO方之煕,中芯國際(紹興)董事長高永崗、Mentor中國區(qū)總經(jīng)理凌琳、深迪半導體(上海)有限公司創(chuàng)始人/總裁鄒波、上創(chuàng)新微總經(jīng)理秦曦、中科漢天下創(chuàng)始人兼董事長楊清華等業(yè)內(nèi)大咖分享了今后晶圓制造的建廠經(jīng)營策略、硅基集成電路的生命周期,以及如何為物聯(lián)網(wǎng)的顛覆式發(fā)展做準備,還有半導體協(xié)同創(chuàng)新、MEMS智能傳感器以及5G到來射頻芯片的機會等主題。

致象爾微方之煕分析,每10-15年左右運算平臺出現(xiàn)一次變革,新的IT產(chǎn)業(yè)鏈、商業(yè)模式、服務模式和技術產(chǎn)品將誕生?;乜碢C/服務器時代的以X86架構為主導,智能手機時代的ARM,他提出物聯(lián)網(wǎng)時代開源的RISC-V是否能夠成為主流,中國是否有機會呢。他表示致象爾微的規(guī)劃是2022年起引領IOT上RISC-V架構,全面競爭ARM市場。致象物聯(lián)網(wǎng)芯片也將由消費類電子向工業(yè)控制、汽車電子類轉移。

紹興重磅發(fā)布集成電路規(guī)劃,中芯國際、韋爾半導體等陸續(xù)簽約落戶

紹興地理位置優(yōu)越,能夠成為中芯國際布局長三角的一個重點據(jù)點,同時紹興市和越城區(qū)兩級政府在發(fā)展集成電路產(chǎn)業(yè)方面堅定的決心和高效的執(zhí)行力,使得中芯國際落戶紹興,在簽資合同簽署后,8天完成公司設立手續(xù),78后項目開工奠基。工廠建成后,將主要打造8寸線特色工藝,主要覆蓋功率器件、MEMS等的生產(chǎn)制造。高永崗表示特色工藝產(chǎn)線的投資一般為100億人民幣左右, 中芯紹興第一期約為50-60億,第二期實現(xiàn)共100億元投資。制造企業(yè)一定要在投資與獲利能力之間找到平衡。

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Mentor中國區(qū)總經(jīng)理凌琳分析說,在2015、2016年全球IC收入增長僅為0.4%,2017年由于MOS存儲器的高速增長拉抬IC實現(xiàn)22%的增長,預計2018年的增速將回落但仍然增長。并且,實際的并購行動大幅減少,幾項大型并購最后并未通過,例如博通收購高通、高通收購NXP。2017年半導體研發(fā)經(jīng)費增長9.8%,高于前三年,谷歌、亞馬遜、FACEBOOK、博世等紛紛開始自研芯片,中國投資正從制造業(yè)轉向設計,人工智能、機器學習、加密數(shù)字貨、高速通訊等領域成為投資熱門。

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這些特定領域體系結構需要新的設計方法和工具,Mentor作為EDA公司將助力IC設計企業(yè)實現(xiàn)產(chǎn)品的低功耗、高性能、低成本并減少設計時間和設計成本。根據(jù)總晶體管Compertz曲線,直到2040年前需要替代硅晶體管,距離今天還有20多年時間,特定域架構和學習曲線將持續(xù)實現(xiàn)下一波增長。

來源:國際電子商情網(wǎng)



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