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始于90年代末

濕法制程整體解決方案提供商

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發(fā)布時(shí)間: 2017 - 12 - 06
在LED外延及芯片制造領(lǐng)域,濕法設(shè)備占據(jù)約40%以上的工藝,隨著工藝技術(shù)的不斷發(fā)展,濕法設(shè)備已經(jīng)成為LED外延及芯片制造領(lǐng)域的關(guān)鍵設(shè)備,如SPM酸清洗、有機(jī)清洗、顯影、去膠、ITO蝕刻、BOE蝕刻、PSS高溫側(cè)腐、下蠟、勻膠、甩干、掩膜版清洗等。華林科納(江蘇)CSE深入研究LED生產(chǎn)工藝,現(xiàn)已形成可滿足LED產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目需求的全自動(dòng)濕法工藝標(biāo)準(zhǔn)成套設(shè)備。 LED 芯片的制造工藝流程為:外延片→清洗→鍍透明電極層→透明電極圖形光刻→腐蝕→去膠→平臺圖形光刻→干法刻蝕→去膠→退火→SiO2 沉積→窗口圖形光刻→SiO2腐蝕→去膠→N極圖形光刻→預(yù)清洗→鍍膜→剝離→退火→P 極圖形光刻→鍍膜→剝離→研磨→切割→芯片→成品測試。 CSE-外延片清洗機(jī)設(shè)備 設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-外延片清洗機(jī)設(shè)備可處理晶圓尺寸2”-12”可處理晶圓材料硅、砷化鎵、磷化銦、氮化鎵、碳化硅、鈮酸鋰、鉭酸鋰等應(yīng)用領(lǐng)域集成電路、聲表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先進(jìn)封裝等專有技術(shù)系統(tǒng)潔凈性技術(shù)均勻性技術(shù)晶圓片N2干燥技術(shù)模塊化系統(tǒng)集成技術(shù)自動(dòng)傳輸及精確控制技術(shù)溶液溫度、流量和壓力的精確控制技術(shù)主要技術(shù)特點(diǎn)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)緊湊、安全腔體獨(dú)立密封,具有多種功能可實(shí)現(xiàn)晶圓干進(jìn)干出采用工控機(jī)控制,功能強(qiáng)大,操作簡便可根據(jù)用戶要求提供個(gè)性化解決方案設(shè)備制造商華林科納(江蘇)半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 regal-bio.cn 400-8768-096 ;18915583058更多的外延片清洗設(shè)備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(regal-bio.cn),現(xiàn)在熱線咨詢400-8798-096可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體行業(yè)相關(guān)清洗設(shè)備解決方案。
發(fā)布時(shí)間: 2017 - 12 - 06
旋轉(zhuǎn)式噴鍍臺結(jié)合微組裝工藝對鍍制工藝的小批量、多規(guī)格和特殊應(yīng)用要求等特點(diǎn),在6" (150mm)晶圓電鍍系統(tǒng)中采用了傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍單元分由兩個(gè)部分組成,一為陰極夾具、旋轉(zhuǎn)單元、導(dǎo)線電刷、N2 保護(hù)單元組成的陰極回轉(zhuǎn)體,二為三角形槽體、陽極和電力線擋板組成的陽極腔。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍結(jié)構(gòu)示意圖如下:從鍍制結(jié)構(gòu)方式、鍍制工藝應(yīng)用分析可以看出,采用傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍有以下幾種優(yōu)勢。一是這種結(jié)構(gòu)方式易實(shí)現(xiàn)槽體密封和附加N2 保護(hù)功能。二是在這種鍍制工藝中,陰極的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)使槽內(nèi)電場不均問題得以解決,從而提高了鍍制的均勻性。三是呈45°傾斜加陰極旋轉(zhuǎn)的方式,可以較容易的祛除晶圓表面的氣泡附著及“產(chǎn)生”氣泡的消除。四是采用了多微孔進(jìn)行鍍液噴射,實(shí)現(xiàn)攪拌功能,消除局部PH值、溫度、離子濃度等不均勻帶來的影響。五是采用三角形鍍槽設(shè)計(jì)最大限度的減少了鍍液的消耗。六是該鍍制結(jié)構(gòu)方式可以滿足多品種、小批量、低成本的生產(chǎn)需求。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)、工藝優(yōu)勢斜式三角鍍槽結(jié)構(gòu)本系統(tǒng)采用傾斜式三角形鍍槽結(jié)構(gòu),鍍槽入口溢流口均與三角形斜邊平行,可得到穩(wěn)定且不易積累氣泡的流場環(huán)境。通過進(jìn)行相關(guān)模擬、仿真和驗(yàn)證,鍍液入口采用扇形噴咀式結(jié)構(gòu),可保證鍍液在平行于陰極表面方向上形成均勻而穩(wěn)定的流場。從而通過改變流場的方法改善了鍍層的均勻性。該結(jié)構(gòu)的另一優(yōu)點(diǎn)可使電鍍液的用量減至最少程度。 華林科納(江蘇)CSE采用傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍方法進(jìn)行晶圓電鍍工藝處理,由于結(jié)構(gòu)上的特點(diǎn),該方法經(jīng)實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證具有:①結(jié)構(gòu)簡單;②工藝參數(shù)控制容易;③有利氣泡的消除;④鍍制均勻性得到提高;⑤鍍制溶液用量少。該方法尤其適應(yīng)于小批量、多規(guī)格的電鍍工藝,同時(shí)可以取得較好的鍍制均勻性。圖6為我們所研制的150mm晶圓傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍系統(tǒng),目前已批量生產(chǎn)并在工藝線上得到較好的應(yīng)用,產(chǎn)品已通過技術(shù)定型鑒定和用戶驗(yàn)收。實(shí)現(xiàn)的主要工藝指標(biāo):最...
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 06 - 22
雙腔甩干機(jī)1. 應(yīng)用范圍:l 本機(jī)臺適用於半導(dǎo)體2”4”6”8”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 設(shè)備為垂直式雙槽體機(jī)臺,可同Run 50片.l 可對旋乾步驟進(jìn)行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設(shè)備已超過20年以上的應(yīng)用馬達(dá)控制系統(tǒng)設(shè)計(jì), 高穩(wěn)定度Rotor 設(shè)計(jì), 震動(dòng)值均控制於300 um 以下.l 高潔淨(jìng)設(shè)計(jì),微塵控制於每次運(yùn)轉(zhuǎn)增加量, 0.3um , 30顆以下.   2. 操作流程3. 圖示 4. 規(guī)格l 機(jī)臺內(nèi)皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達(dá): DC無刷馬達(dá)750Wl 真空負(fù)壓軸封設(shè)計(jì),隔離槽外污染l 不銹鋼N2過濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測保護(hù)(加熱器空燒保護(hù))l 槽外貼Silicon材質(zhì)加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開關(guān)90°C OFF 70°C ON)l  Viton材質(zhì)充氣式氣囊及槽後密封環(huán),保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經(jīng)拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉(zhuǎn)子,並按客戶需求指定使用訂做l 轉(zhuǎn)子經(jīng)拋光及電解研磨,並做動(dòng)態(tài)平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂故障碼功能: 門鎖警告,氣體不足,傳動(dòng)異常警告 5. 電控系統(tǒng)l  控制器操作介面: 7”記憶人機(jī)+ PLC可程式自動(dòng)化控制器(人機(jī) Touch Screen,整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/,皆可從操作螢?zāi)簧闲薷摹?#216; 儲存能力記憶模組...
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 03 - 07
枚葉式清洗機(jī)-華林科納CSE華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-單片枚葉式洗凈裝置的特長:單片式清洗裝置的優(yōu)點(diǎn)(與浸漬.槽式比較)1.晶片表面的微粒數(shù)非常少(到25nm可對應(yīng))例:附著粒子數(shù)…10個(gè)/W以下(0.08UM以上粒子)(參考)槽式200個(gè)/W2.藥液純水的消費(fèi)量少藥液…(例)1%DHF的情況  20L/日純水...每處理一枚晶片0.5-1L/分3.小裝置size(根據(jù)每個(gè)客戶可以定制) 液體濺射(塵埃強(qiáng)制除去)  (推薦)清洗方法單片式裝置的Particle再附著問題   更多的半導(dǎo)體單片枚葉式濕法腐蝕清洗設(shè)備相關(guān)信息可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(www.hlkncas.com),現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096;18913575037可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體清洗解決方案。
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 03 - 07
自動(dòng)供酸系統(tǒng)(CDS)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-CDS自動(dòng)供酸系統(tǒng) 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進(jìn)行配送,經(jīng)管道至設(shè)備;具有自動(dòng)化程度高,配比精確,操作簡便等特點(diǎn);具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩?dòng)控制模式、自動(dòng)控制模式設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-CDS自動(dòng)供酸系統(tǒng)設(shè)備型號CSE-CDS-N1507設(shè)計(jì)基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房內(nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房;3. 設(shè)備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運(yùn)送到制程使用點(diǎn);5. 過濾器:配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學(xué)液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質(zhì)的進(jìn)口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān);8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報(bào)功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能:每種化學(xué)液體配兩個(gè)桶(自動(dòng)切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動(dòng)化與親和力。在...
發(fā)布時(shí)間: 2018 - 01 - 23
單片清洗機(jī)-華林科納CSESingle wafer cleaner system華林科納(江蘇)CSE-自動(dòng)單片式腐蝕清洗機(jī)應(yīng)用于清洗(包括光刻板清洗)刻蝕 去膠 金屬剝離等;可處理晶圓尺寸2'-12';可處理晶圓材料:硅 砷化鎵 磷化銦 氮化鎵 碳化硅 鈮酸鋰 鉭酸鋰等;主要應(yīng)用領(lǐng)域:集成電路   聲表面波器件  微波毫米波器件  MEMS  先進(jìn)封裝等  設(shè) 備 名 稱CSE-單片清洗機(jī)類  型單片式適 用 領(lǐng) 域半導(dǎo)體、太陽能、液晶、MEMS等清 洗 方 式2英寸——12英寸設(shè)備穩(wěn)定性1、≥0.2um顆粒少于10顆2、金屬附著量:3E10 atoms/ cm²3、純水消耗量:1L/min/片4、蝕刻均一性良好(SiO?氧化膜被稀釋HF處理):≤2%5、干燥時(shí)間:≤20S6、藥液回收率:>95%單片式優(yōu)點(diǎn)1、單片處理時(shí)間短(相較于槽式清洗機(jī))2、節(jié)約成本(藥液循環(huán)利用,消耗量遠(yuǎn)低于槽式)3、良品率高4、有效避免邊緣再附著5、立體層疊式結(jié)構(gòu),占地面積小 更多的單片(枚葉)式清洗相關(guān)設(shè)備可以關(guān)注華林科納(江蘇)半導(dǎo)體官網(wǎng),關(guān)注http://regal-bio.cn ,400-8768-096,18913575037
發(fā)布時(shí)間: 2017 - 12 - 06
氫氟酸HF自動(dòng)供液系統(tǒng)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-氫氟酸供液系統(tǒng) 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進(jìn)行配送,經(jīng)管道至設(shè)備;具有自動(dòng)化程度高,配比精確,操作簡便等特點(diǎn);具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩?dòng)控制模式、自動(dòng)控制模式 設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-氫氟酸(HF)供液系統(tǒng)設(shè)備型號CSE-CDS-N2601設(shè)計(jì)基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房內(nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房;3. 設(shè)備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運(yùn)送到制程使用點(diǎn);5. 過濾器:配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學(xué)液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質(zhì)的進(jìn)口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān);8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報(bào)功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能:每種化學(xué)液體配兩個(gè)桶(自動(dòng)切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動(dòng)化...
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格芯退戰(zhàn)7nm,我們的路在何方?

時(shí)間: 2018-09-13
點(diǎn)擊次數(shù): 160

格芯的無奈之舉

近期,全球第二大晶圓廠格芯(Globa Foundries)宣布無限期擱置7nm FinFET項(xiàng)目,表示不愿陪你們繼續(xù)玩了。

前沿制程的爭奪歷來備受各方關(guān)注。今年5月,臺積電率先實(shí)現(xiàn)7nm量產(chǎn),搶下首發(fā);三星則緊隨其后,進(jìn)入量產(chǎn)倒計(jì)時(shí);Intel則還在埋頭硬啃10nm。在格芯罷兵7nm之前,聯(lián)電也直言放手12nm及以下制程。

格芯退戰(zhàn)7nm,我們的路在何方?

事實(shí)上,晶圓巨頭接連退出實(shí)屬無奈,主要是研發(fā)高階制程太耗錢了。2016年,為了研發(fā)10nm/7nm制程,臺積電投入了22億美元巨資。據(jù)悉,目前,臺積電7nm制程的良率超過76%,后續(xù)良率拉抬仍需持續(xù)投入。

在IC Insights公布的歷年“十億美元俱樂部”榜單中,臺積電多年穩(wěn)居前三,而格芯已跌落五名開外。目前,也只有俱樂部前三甲有資本硬拼7nm,其他廠商更多是有心無力。

▼2007-2017年全球半導(dǎo)體資本支出“十億美元俱樂部”

格芯退戰(zhàn)7nm,我們的路在何方?

資料來源:IC Insight

在半導(dǎo)體的世界里,只有搶到最先進(jìn)的制程技術(shù),才可能得到僅有的巨頭大單,收回前期投入。目前,臺積電基本包攬了蘋果、高通(驍龍855)、博通、AMD、比特大陸和海思等設(shè)計(jì)巨頭的7nm大單。其中,AMD是格芯的最大客戶。三星得到了高通(驍龍845)和ARM等的訂單。

根據(jù)調(diào)研機(jī)構(gòu)International Business Strategies公布的數(shù)據(jù)顯示,2018年,7nm代工的市場規(guī)模將達(dá)到49.8億美元,2019年則會達(dá)到98億美元,需求主要集中在幾家大公司。目前,臺積電基本壟斷了7nm市場,三星都活得很艱難,更何況第三、第四呢?新進(jìn)入者就算研發(fā)出7nm,也會因?yàn)榱悸什贿^關(guān)而難以拿到大客戶的訂單,這就意味著前期研發(fā)投入很難收回。據(jù)業(yè)界人士統(tǒng)計(jì),一旦手機(jī)芯片規(guī)劃采用7nm制程來生產(chǎn),芯片制造商大約需要每年1.2億套到1.5億套的產(chǎn)量才能夠?qū)崿F(xiàn)盈虧平衡,以此來彌補(bǔ)研發(fā)成本。目前,只有蘋果、三星、高通和聯(lián)發(fā)科能夠達(dá)到這樣的出貨規(guī)模。

在這樣的局面下,那些準(zhǔn)7nm的廠商再去和臺積電明爭暗斗也是得不償失,選擇退出未嘗不是明智之舉。這樣來看,格芯、聯(lián)電等接連退出也就不奇怪了。

格芯的退守與創(chuàng)新

在跳票7nm的同時(shí),格芯宣布將專注現(xiàn)有14/12nm FinFET工藝及22/12nm FD-SOI工藝。

目前主流的制程技術(shù)是28nm,該節(jié)點(diǎn)是公認(rèn)的長壽節(jié)點(diǎn)之一。2017年,全球28nm的代工市場規(guī)模達(dá)到了100億美元,占全球近20%。同時(shí),隨著AI、加密貨幣等高性能計(jì)算應(yīng)用的興起,14nm及以下制程的代工市場正在逐步放量,成為全球晶圓代工市場的新動(dòng)能。此次格芯退守也是希望鞏固戰(zhàn)線,搭上高階制程代工市場增長的順風(fēng)車。

格芯退戰(zhàn)7nm,我們的路在何方?

▲2001-2021E全球各制程節(jié)點(diǎn)市場情況

與此同時(shí),格芯首推了22/12nm FD-SOI制程工藝,走上了差異化的工藝之路。

傳統(tǒng)的bulk CMOS工藝在20nm制程基本結(jié)束了其歷史使命。再往下走就要用上FinFET(Fin Field-Effect Transistor)、FD-SOI(Fully Depleted-Silicon-On-Insulator)等新工藝。FinFET是3D化的晶體管,因形似魚鰭而得名,是目前的主流工藝。FD-SOI是絕緣體上的硅晶體管,結(jié)構(gòu)有點(diǎn)像漢堡包。

格芯退戰(zhàn)7nm,我們的路在何方?

▲從bulk CMOS工藝到FinFET和FD-SOI工藝演進(jìn)

與FinFET工藝相比,F(xiàn)D-SOI具有功耗低、成本低等優(yōu)勢。但FD-SOI的缺點(diǎn)是晶圓工藝成本高、供應(yīng)商少等。8寸FD-SOI晶圓的價(jià)格是FinFET體晶圓的10倍。目前,全球僅有法國Soitec、日本信越(SHE)、美國Sun Edison能供應(yīng)FD-SOI晶圓。同時(shí),F(xiàn)D-SOI的生態(tài)不完善,缺少相關(guān)的設(shè)計(jì)工具和IP。

格芯退戰(zhàn)7nm,我們的路在何方?

FinFET和FD-SOI工藝不同應(yīng)用領(lǐng)域

在應(yīng)用領(lǐng)域,F(xiàn)inFET定位于最先進(jìn)的應(yīng)用產(chǎn)品。例如,高階處理器、AI、深度學(xué)習(xí)等高性能領(lǐng)域,而FD-SOI則著眼于物聯(lián)網(wǎng)、5G、汽車電子、射頻(RF)和可穿戴設(shè)備等低功耗領(lǐng)域。據(jù)上海微系統(tǒng)所預(yù)測,隨著物聯(lián)網(wǎng)、5G、汽車電子等新興應(yīng)用不斷發(fā)展,未來幾年,F(xiàn)D-SOI市場規(guī)模將會從2015年的0.7億美元增長到2020年的超過40億美元,年平均增長率為68%。FD-SOI在全球半導(dǎo)體的市場份額會從2015年的0.2%增長到2020年的接近10%。

格芯退戰(zhàn)7nm,我們的路在何方?

▲2015-2020E FD-SOI市場發(fā)展及預(yù)測情況

目前,格芯已獲得意法半導(dǎo)體、Verisilicon等國內(nèi)外設(shè)計(jì)企業(yè)的訂單,F(xiàn)D-SOI有望助力格芯進(jìn)一步鞏固和提升其全球領(lǐng)先地位。

我國晶圓代工的發(fā)展抉擇

目前,經(jīng)過不懈努力,我國晶圓代工的制程工藝取得了突破發(fā)展,實(shí)現(xiàn)了28nm工藝量產(chǎn),且成功研發(fā)14nm FinFET,進(jìn)入客戶導(dǎo)入階段,打入了全球主流的制程工藝梯隊(duì),有望分享高階制程代工市場的增長紅利。

躋身高階制程俱樂部后,我國晶圓廠面臨的首要問題便是如何從既有的全球代工巨頭手中搶到市場,為下一代制程研發(fā)提供經(jīng)濟(jì)基礎(chǔ)。格芯的退出事件讓我們意識到今后突圍更高階制程后所面臨的嚴(yán)峻競爭形勢。在一味緊趕猛追先進(jìn)制程工藝的同時(shí),是否應(yīng)另辟戰(zhàn)場,加大特色工藝的布局力度。未來的應(yīng)用市場并非都是先進(jìn)工藝的天下,例如,物聯(lián)網(wǎng)、5G、汽車電子等新興應(yīng)用的要求是低功耗,這就為我國晶圓制造實(shí)現(xiàn)跨越發(fā)展提供了市場空間。我國晶圓廠可以借此契機(jī),根據(jù)下游客戶需求布局特色工藝,搶占中高端特色工藝應(yīng)用市場,實(shí)現(xiàn)彎道超車。

現(xiàn)階段,我國半導(dǎo)體特色工藝仍代工中低端產(chǎn)品為主。以功率半導(dǎo)體為例,絕大多數(shù)廠商只在二極管、低壓MOS器件、晶閘管等相對低端器件的生產(chǎn)工藝方面較為成熟,對于IGBT等高端器件,國內(nèi)只有極少數(shù)廠商擁有生產(chǎn)和封裝能力。我國特色工藝領(lǐng)域有著較大的上升空間和市場機(jī)遇,應(yīng)予以高度關(guān)注,國家要加大對特色工藝發(fā)展的政策扶持力度。

目前,我國也涌現(xiàn)了先進(jìn)半導(dǎo)體、華虹宏力、華潤上華等特色工藝代工廠商,擁有了廣泛的基礎(chǔ)。中芯國際和華大半導(dǎo)體等巨頭也積極布局,持續(xù)發(fā)力中高端特色工藝,加快進(jìn)軍中高端市場。2018年5月,中芯國際耗資58.5億元在紹興布局了特色工藝生產(chǎn)線,主攻微機(jī)電(MEMS)、功率器件等產(chǎn)品;2018年8月,華大半導(dǎo)體的積塔半導(dǎo)體特色工藝落地臨港等。未來,我國晶圓代廠在制程工藝上要實(shí)現(xiàn)多元布局、靈活發(fā)展、全面突破。

來源:浦科投資



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