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發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
在LED外延及芯片制造領(lǐng)域,濕法設(shè)備占據(jù)約40%以上的工藝,隨著工藝技術(shù)的不斷發(fā)展,濕法設(shè)備已經(jīng)成為LED外延及芯片制造領(lǐng)域的關(guān)鍵設(shè)備,如SPM酸清洗、有機清洗、顯影、去膠、ITO蝕刻、BOE蝕刻、PSS高溫側(cè)腐、下蠟、勻膠、甩干、掩膜版清洗等。華林科納(江蘇)CSE深入研究LED生產(chǎn)工藝,現(xiàn)已形成可滿足LED產(chǎn)業(yè)化項目需求的全自動濕法工藝標(biāo)準(zhǔn)成套設(shè)備。 LED 芯片的制造工藝流程為:外延片→清洗→鍍透明電極層→透明電極圖形光刻→腐蝕→去膠→平臺圖形光刻→干法刻蝕→去膠→退火→SiO2 沉積→窗口圖形光刻→SiO2腐蝕→去膠→N極圖形光刻→預(yù)清洗→鍍膜→剝離→退火→P 極圖形光刻→鍍膜→剝離→研磨→切割→芯片→成品測試。 CSE-外延片清洗機設(shè)備 設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-外延片清洗機設(shè)備可處理晶圓尺寸2”-12”可處理晶圓材料硅、砷化鎵、磷化銦、氮化鎵、碳化硅、鈮酸鋰、鉭酸鋰等應(yīng)用領(lǐng)域集成電路、聲表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先進(jìn)封裝等專有技術(shù)系統(tǒng)潔凈性技術(shù)均勻性技術(shù)晶圓片N2干燥技術(shù)模塊化系統(tǒng)集成技術(shù)自動傳輸及精確控制技術(shù)溶液溫度、流量和壓力的精確控制技術(shù)主要技術(shù)特點系統(tǒng)結(jié)構(gòu)緊湊、安全腔體獨立密封,具有多種功能可實現(xiàn)晶圓干進(jìn)干出采用工控機控制,功能強大,操作簡便可根據(jù)用戶要求提供個性化解決方案設(shè)備制造商華林科納(江蘇)半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 regal-bio.cn 400-8768-096 ;18915583058更多的外延片清洗設(shè)備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(regal-bio.cn),現(xiàn)在熱線咨詢400-8798-096可立即獲取免費的半導(dǎo)體行業(yè)相關(guān)清洗設(shè)備解決方案。
發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
旋轉(zhuǎn)式噴鍍臺結(jié)合微組裝工藝對鍍制工藝的小批量、多規(guī)格和特殊應(yīng)用要求等特點,在6" (150mm)晶圓電鍍系統(tǒng)中采用了傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍單元分由兩個部分組成,一為陰極夾具、旋轉(zhuǎn)單元、導(dǎo)線電刷、N2 保護(hù)單元組成的陰極回轉(zhuǎn)體,二為三角形槽體、陽極和電力線擋板組成的陽極腔。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍結(jié)構(gòu)示意圖如下:從鍍制結(jié)構(gòu)方式、鍍制工藝應(yīng)用分析可以看出,采用傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍有以下幾種優(yōu)勢。一是這種結(jié)構(gòu)方式易實現(xiàn)槽體密封和附加N2 保護(hù)功能。二是在這種鍍制工藝中,陰極的旋轉(zhuǎn)運動使槽內(nèi)電場不均問題得以解決,從而提高了鍍制的均勻性。三是呈45°傾斜加陰極旋轉(zhuǎn)的方式,可以較容易的祛除晶圓表面的氣泡附著及“產(chǎn)生”氣泡的消除。四是采用了多微孔進(jìn)行鍍液噴射,實現(xiàn)攪拌功能,消除局部PH值、溫度、離子濃度等不均勻帶來的影響。五是采用三角形鍍槽設(shè)計最大限度的減少了鍍液的消耗。六是該鍍制結(jié)構(gòu)方式可以滿足多品種、小批量、低成本的生產(chǎn)需求。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)、工藝優(yōu)勢斜式三角鍍槽結(jié)構(gòu)本系統(tǒng)采用傾斜式三角形鍍槽結(jié)構(gòu),鍍槽入口溢流口均與三角形斜邊平行,可得到穩(wěn)定且不易積累氣泡的流場環(huán)境。通過進(jìn)行相關(guān)模擬、仿真和驗證,鍍液入口采用扇形噴咀式結(jié)構(gòu),可保證鍍液在平行于陰極表面方向上形成均勻而穩(wěn)定的流場。從而通過改變流場的方法改善了鍍層的均勻性。該結(jié)構(gòu)的另一優(yōu)點可使電鍍液的用量減至最少程度。 華林科納(江蘇)CSE采用傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍方法進(jìn)行晶圓電鍍工藝處理,由于結(jié)構(gòu)上的特點,該方法經(jīng)實驗驗證具有:①結(jié)構(gòu)簡單;②工藝參數(shù)控制容易;③有利氣泡的消除;④鍍制均勻性得到提高;⑤鍍制溶液用量少。該方法尤其適應(yīng)于小批量、多規(guī)格的電鍍工藝,同時可以取得較好的鍍制均勻性。圖6為我們所研制的150mm晶圓傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍系統(tǒng),目前已批量生產(chǎn)并在工藝線上得到較好的應(yīng)用,產(chǎn)品已通過技術(shù)定型鑒定和用戶驗收。實現(xiàn)的主要工藝指標(biāo):最...
發(fā)布時間: 2016 - 06 - 22
雙腔甩干機1. 應(yīng)用范圍:l 本機臺適用於半導(dǎo)體2”4”6”8”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 設(shè)備為垂直式雙槽體機臺,可同Run 50片.l 可對旋乾步驟進(jìn)行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設(shè)備已超過20年以上的應(yīng)用馬達(dá)控制系統(tǒng)設(shè)計, 高穩(wěn)定度Rotor 設(shè)計, 震動值均控制於300 um 以下.l 高潔淨(jìng)設(shè)計,微塵控制於每次運轉(zhuǎn)增加量, 0.3um , 30顆以下.   2. 操作流程3. 圖示 4. 規(guī)格l 機臺內(nèi)皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達(dá): DC無刷馬達(dá)750Wl 真空負(fù)壓軸封設(shè)計,隔離槽外污染l 不銹鋼N2過濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測保護(hù)(加熱器空燒保護(hù))l 槽外貼Silicon材質(zhì)加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開關(guān)90°C OFF 70°C ON)l  Viton材質(zhì)充氣式氣囊及槽後密封環(huán),保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經(jīng)拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉(zhuǎn)子,並按客戶需求指定使用訂做l 轉(zhuǎn)子經(jīng)拋光及電解研磨,並做動態(tài)平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂故障碼功能: 門鎖警告,氣體不足,傳動異常警告 5. 電控系統(tǒng)l  控制器操作介面: 7”記憶人機+ PLC可程式自動化控制器(人機 Touch Screen,整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/,皆可從操作螢?zāi)簧闲薷摹?#216; 儲存能力記憶模組...
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 07
枚葉式清洗機-華林科納CSE華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-單片枚葉式洗凈裝置的特長:單片式清洗裝置的優(yōu)點(與浸漬.槽式比較)1.晶片表面的微粒數(shù)非常少(到25nm可對應(yīng))例:附著粒子數(shù)…10個/W以下(0.08UM以上粒子)(參考)槽式200個/W2.藥液純水的消費量少藥液…(例)1%DHF的情況  20L/日純水...每處理一枚晶片0.5-1L/分3.小裝置size(根據(jù)每個客戶可以定制) 液體濺射(塵埃強制除去)  (推薦)清洗方法單片式裝置的Particle再附著問題   更多的半導(dǎo)體單片枚葉式濕法腐蝕清洗設(shè)備相關(guān)信息可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(www.hlkncas.com),現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096;18913575037可立即獲取免費的半導(dǎo)體清洗解決方案。
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 07
自動供酸系統(tǒng)(CDS)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-CDS自動供酸系統(tǒng) 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進(jìn)行配送,經(jīng)管道至設(shè)備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點;具有良好的耐腐蝕性能。控制模式:手動控制模式、自動控制模式設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-CDS自動供酸系統(tǒng)設(shè)備型號CSE-CDS-N1507設(shè)計基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房內(nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房;3. 設(shè)備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點;5. 過濾器:配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學(xué)液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質(zhì)的進(jìn)口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān);8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能:每種化學(xué)液體配兩個桶(自動切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動化與親和力。在...
發(fā)布時間: 2018 - 01 - 23
單片清洗機-華林科納CSESingle wafer cleaner system華林科納(江蘇)CSE-自動單片式腐蝕清洗機應(yīng)用于清洗(包括光刻板清洗)刻蝕 去膠 金屬剝離等;可處理晶圓尺寸2'-12';可處理晶圓材料:硅 砷化鎵 磷化銦 氮化鎵 碳化硅 鈮酸鋰 鉭酸鋰等;主要應(yīng)用領(lǐng)域:集成電路   聲表面波器件  微波毫米波器件  MEMS  先進(jìn)封裝等  設(shè) 備 名 稱CSE-單片清洗機類  型單片式適 用 領(lǐng) 域半導(dǎo)體、太陽能、液晶、MEMS等清 洗 方 式2英寸——12英寸設(shè)備穩(wěn)定性1、≥0.2um顆粒少于10顆2、金屬附著量:3E10 atoms/ cm²3、純水消耗量:1L/min/片4、蝕刻均一性良好(SiO?氧化膜被稀釋HF處理):≤2%5、干燥時間:≤20S6、藥液回收率:>95%單片式優(yōu)點1、單片處理時間短(相較于槽式清洗機)2、節(jié)約成本(藥液循環(huán)利用,消耗量遠(yuǎn)低于槽式)3、良品率高4、有效避免邊緣再附著5、立體層疊式結(jié)構(gòu),占地面積小 更多的單片(枚葉)式清洗相關(guān)設(shè)備可以關(guān)注華林科納(江蘇)半導(dǎo)體官網(wǎng),關(guān)注http://regal-bio.cn ,400-8768-096,18913575037
發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
氫氟酸HF自動供液系統(tǒng)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-氫氟酸供液系統(tǒng) 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進(jìn)行配送,經(jīng)管道至設(shè)備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點;具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩涌刂颇J?、自動控制模式 設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-氫氟酸(HF)供液系統(tǒng)設(shè)備型號CSE-CDS-N2601設(shè)計基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房內(nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房;3. 設(shè)備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點;5. 過濾器:配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學(xué)液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質(zhì)的進(jìn)口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān);8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能:每種化學(xué)液體配兩個桶(自動切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動化...
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2017年4月10日半導(dǎo)體行業(yè)新聞

時間: 2017-04-10
點擊次數(shù): 285

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半導(dǎo)體新聞

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1、力晶合肥12寸廠6月量產(chǎn) DRAM缺貨或持續(xù)至明年

力晶董事長黃崇仁出席臺灣半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會會員大會,他表示,目前臺灣地區(qū)旗下所有12寸廠的產(chǎn)能都滿載,還把客人趕走了,因為根本就不夠用,而新投資的大陸合肥也就是晶合廠預(yù)計6月落成量產(chǎn),初期月產(chǎn)能規(guī)劃2萬片。

市場關(guān)心存儲器產(chǎn)業(yè)的發(fā)展情況,黃崇仁引用美光執(zhí)行長杜肯的說法,這一波存儲器的熱度將會延續(xù)到今年底,如果沒有新廠蓋出來的話,明年會缺貨更嚴(yán)重。

黃崇仁說,以他對杜肯的認(rèn)識,他是非常保守的人,這次在法說會上釋出如此樂觀的訊息,我也認(rèn)同他的看法。

黃崇仁表示,臺灣P1、P2、P3廠的產(chǎn)能全部滿載,市場需求強勁,現(xiàn)在還把客人趕走,因為產(chǎn)能實在不夠用,而且以現(xiàn)在的設(shè)備來生產(chǎn),是非常有競爭力,未來會考慮慢慢擴產(chǎn),不過大陸合晶晶合廠不會生產(chǎn)存儲器。

力晶大舉投資的大陸12寸晶合廠正在趕工當(dāng)中,預(yù)計最快6月落成投產(chǎn),初期月產(chǎn)能規(guī)劃維持2萬片不變,先以導(dǎo)入90納米,并生產(chǎn)面板驅(qū)動芯片、傳感等為主,據(jù)悉已經(jīng)有不少廠商開始搶先下單,力晶臺灣廠也希望產(chǎn)能全滿,所以也會把部分產(chǎn)能轉(zhuǎn)移到晶合廠。

力晶臺灣P3產(chǎn)能由存儲器模組大廠金士頓全吃下,以生產(chǎn)DRAM為主,今年將轉(zhuǎn)進(jìn)2X納米制程,月產(chǎn)能維持3萬片。

至于P1與P2廠生產(chǎn)面板驅(qū)動芯片、電源管理芯片、CMOS傳感器等等,合計月產(chǎn)能約6~7萬片。?

2、山海資本5億美元收購硅谷數(shù)模半導(dǎo)體交易完成

硅谷數(shù)模半導(dǎo)體(Analogix Semiconductor,Inc.)和北京山海昆侖資本管理有限公司(簡稱“山海資本”)今日聯(lián)合宣布,雙方已完成以大約5億美元收購硅谷數(shù)模半導(dǎo)體的交易。國家集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金(簡稱“國家集成電路基金”)加入山海資本基金,成為有限合伙人之一。

硅谷數(shù)模半導(dǎo)體董事長兼執(zhí)行長楊可為博士表示:“我們非常高興完成此次收購。 由于在財務(wù)方面得到了新投資人的大力支持,硅谷數(shù)模半導(dǎo)體的未來比以往任何時候都更加光明。 我們很興奮能繼續(xù)將公司打造和發(fā)展成為高效能半導(dǎo)體領(lǐng)域的全球領(lǐng)軍企業(yè)。 ”

山海資本董事長趙顯峰先生表示:“作為硅谷數(shù)模半導(dǎo)體主要的財務(wù)合作伙伴與投資人,我們期待充分運用自身資源,加速公司進(jìn)軍新市場。 我們也將利用公司的核心技術(shù)實力和客戶關(guān)系,打造一流的半導(dǎo)體公司,并最終實現(xiàn)在中國上市。 ”

Sino-American International Investment Ltd與Needham & Company, LLC擔(dān)任硅谷數(shù)模半導(dǎo)體的財務(wù)顧問。 O‘Melveny & Myers LLP擔(dān)任硅谷數(shù)模半導(dǎo)體的法律顧問。

Pillsbury Winthrop Shaw Pittman LLP與競天公誠律師事務(wù)所(Jingtian & Gongcheng)擔(dān)任北京山海資本管理有限公司的法律顧問。

關(guān)于硅谷數(shù)模半導(dǎo)體

硅谷數(shù)模半導(dǎo)體公司(Analogix Semiconductor,Inc.) 致力于為數(shù)字多媒體市場設(shè)計并制造半導(dǎo)體——從智能型手機等可攜式設(shè)備到高階顯卡以及大型高畫質(zhì)顯示器。該公司是一家提供包括高速信號調(diào)整器和SlimPort系列產(chǎn)品在內(nèi)的端對端DisplayPort接口連接半導(dǎo)體解決方案的市場領(lǐng)先企業(yè);同時也是行動顯示控制器的產(chǎn)業(yè)領(lǐng)導(dǎo)者,例如低功耗、高速定時控制器解決方案。DisplayPort標(biāo)準(zhǔn)是針對高分辨率視訊和音頻的創(chuàng)新型封裝化數(shù)字接口標(biāo)準(zhǔn),由視訊電子標(biāo)準(zhǔn)協(xié)會(VESA)制定。采用SlimPort商標(biāo)的產(chǎn)品均符合DisplayPort、Mobility DisplayPort (MyDP)以及部署在USB Type-C連接器上的DisplayPort替代模式要求。

關(guān)于北京山海昆侖資本管理有限公司

北京山海昆侖資本管理有限公司總部位于中國北京,是中國國內(nèi)醫(yī)療和TMT產(chǎn)業(yè)并購基金的最早發(fā)起人之一,致力于管理以長期產(chǎn)業(yè)整合為目標(biāo)的人民幣和美元基金。 其投資團隊擁有深厚的產(chǎn)業(yè)背景,并致力于長期價值投資。 借助其產(chǎn)業(yè)及資本營運的資源和專長,山海資本在提供加值服務(wù)的同時,積極致力于加快其投資計劃的橫向和縱向整合,打造具有長期競爭力的產(chǎn)業(yè)龍頭。

Analogix和SlimPort是硅谷數(shù)模半導(dǎo)體公司的商標(biāo)或注冊商標(biāo)。其他所有商標(biāo)和商品名稱均為其各自所有者的財產(chǎn)。?

3、傳三星、SK海力士研發(fā)EMI屏蔽技術(shù)

韓國存儲器大廠三星電子和 SK 海力士,研發(fā)業(yè)界首見的涂布式(Spray)的“電磁波屏蔽”(EMI shielding)技術(shù),打算自行吃下此一封裝程序,省下外包費用。

韓媒 Investor 和 etnews 5 日報導(dǎo),去年蘋果 iPhone 7 芯片開始采用電磁波屏蔽技術(shù),當(dāng)時韓廠選擇把此一封裝程序外包。如今消息人士透露,三星電子和 SK 海力士都研發(fā)出涂布式技術(shù),比傳統(tǒng)方法更有投資效益、成本也有優(yōu)勢,兩廠正在試產(chǎn),預(yù)計 6 月起與產(chǎn)線整合。

不具名的內(nèi)情人士說,韓廠克服困難,研發(fā)出新技術(shù)量產(chǎn),未來不必外包電磁波屏蔽封裝程序,就能供應(yīng) NAND Flash 芯片給蘋果。據(jù)悉蘋果將進(jìn)行測試,決定是否用于今年的新 iPhone。

報導(dǎo)稱,iPhone 7 是市面智能手機中,唯一搭載電磁波屏蔽芯片的機種,此種技術(shù)能減少電磁波干擾,提升表現(xiàn)。業(yè)界觀察家說,三星和華為的次世代旗艦機,或許也會要求供應(yīng)商采用此一技術(shù)。

4、臺廠以先進(jìn)制程卡位大陸 臺積電南京廠4月簽約供應(yīng)商

臺積電南京12吋廠自2016年7月動土至今,建廠腳程十分快速,日前更廣發(fā)英雄帖號召上百家半導(dǎo)體周邊材料和零組件供應(yīng)商赴南京設(shè)廠,進(jìn)駐當(dāng)?shù)夭⑻峁┚徒гA(yù)計臺積電會在4月和供應(yīng)商正式簽約,距離臺積電南京12吋廠2018年量產(chǎn)16納米FinFET制程,全面倒數(shù)計時。

臺灣半導(dǎo)體大廠積極以先進(jìn)制程卡位大陸,且近期屢有突破性進(jìn)展,聯(lián)電28納米制程已獲得經(jīng)濟部投審會核準(zhǔn),廈門12吋廠(聯(lián)芯)將在第2季開始量產(chǎn)28納米制程,而臺積電更規(guī)劃要把16納米FinFET制程帶到南京12吋廠,這是大陸晶圓代工產(chǎn)業(yè)的震撼,會是當(dāng)?shù)刈钕冗M(jìn)的邏輯制程技術(shù)。

臺積電南京12吋廠近期進(jìn)度是快馬加鞭,已發(fā)出邀請函廣邀合作廠商一同到南京設(shè)廠,估計接獲邀請的供應(yīng)商超過百家,且開始從松江8吋廠調(diào)派人員回臺灣訓(xùn)練,未來讓南京12吋廠的生產(chǎn)線快速上手,進(jìn)入量產(chǎn)。

臺積電2016年3月與南京市政府簽約,大陸首座12吋廠和服務(wù)中心落腳南京江北新區(qū)浦口園區(qū),同年7月中開始動土后并進(jìn)入密集建廠期,根據(jù)既定時程,廠房將在2018年完工,下半年投入16納米制程生產(chǎn),初期月產(chǎn)能為2萬片。

臺積電為了讓南京12吋廠的生產(chǎn)效率一步到位,日前已調(diào)派松江8吋廠將近200~300人回臺灣受訓(xùn),未來該批人員再調(diào)到南京12吋廠,副理級以上的職等將采一對一的人員配置,一位臺籍干部帶一位陸級干部,自愿轉(zhuǎn)調(diào)大陸可升一級職等,全面讓南京12吋廠生產(chǎn)線快速上手。

臺積電不只在南京建立12吋廠生產(chǎn)線和服務(wù)中心,更廣發(fā)英雄帖號召上百家半導(dǎo)體周邊材料和零組件供應(yīng)商,一同進(jìn)駐南京設(shè)廠,提供就近和即時的支援,預(yù)計在4月會和供應(yīng)商正式簽約。

臺灣半導(dǎo)體供應(yīng)鏈至少有上百家供應(yīng)商接獲邀請,估計一同到南京設(shè)廠的包括設(shè)備清洗廠世禾、客制化光罩和晶圓盒供應(yīng)商中勤、廠務(wù)工程設(shè)備商帆宣、晶圓傳輸盒供應(yīng)商家登、自動化清洗設(shè)備錸恩帕斯、氣體供應(yīng)商聯(lián)華、三福等。

再者,IC晶圓測試廠欣銓也宣布跟隨臺積電腳步,投資規(guī)模4,500萬美元以內(nèi)到南京設(shè)廠,預(yù)計2018年投入生產(chǎn),同時也看好大陸半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)在車用、安控、網(wǎng)通通訊相關(guān)IC在半導(dǎo)體測試服務(wù)的成長性。

大陸“中國制造”政策提出2025年芯片自制率達(dá)70%目標(biāo),吸引全球半導(dǎo)體大廠紛紛到大陸蓋晶圓廠,外商半導(dǎo)體廠已經(jīng)成為當(dāng)?shù)刂髁鲃萘Γ?016年三星電子(Samsung Electronics)西安3D NAND廠的產(chǎn)值已經(jīng)超越中芯國際成為大陸半導(dǎo)體制造一哥,加上英特爾(Intel)大連廠、SK海力士(SK Hynix)無錫廠等,將大陸2016年半導(dǎo)體產(chǎn)值推升至人民幣4,335.5億元(約新臺幣1.95兆元),逼近臺灣的規(guī)模。

近幾年臺灣半導(dǎo)體廠積極西進(jìn)大陸設(shè)廠,聯(lián)電的廈門12吋廠聯(lián)芯已開始量產(chǎn)40納米制程,同時28納米登陸也獲得投審會批準(zhǔn),預(yù)計2017年第2季開始量產(chǎn)28納米;力晶合肥12吋廠合晶也將以90納米以上制程技術(shù)生產(chǎn)面板驅(qū)動IC,月產(chǎn)能規(guī)劃為4萬片。

半導(dǎo)體業(yè)者認(rèn)為,在中芯國際28納米HKMG制程成熟量產(chǎn)之前,聯(lián)電28納米、臺積電16納米先后登陸量產(chǎn),可就地卡位當(dāng)?shù)馗叨薎C訂單需求,以半導(dǎo)體先進(jìn)制程來看,臺廠在大陸具有絕對技術(shù)優(yōu)勢。

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