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始于90年代末

濕法制程整體解決方案提供商

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發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
在LED外延及芯片制造領域,濕法設備占據(jù)約40%以上的工藝,隨著工藝技術的不斷發(fā)展,濕法設備已經成為LED外延及芯片制造領域的關鍵設備,如SPM酸清洗、有機清洗、顯影、去膠、ITO蝕刻、BOE蝕刻、PSS高溫側腐、下蠟、勻膠、甩干、掩膜版清洗等。華林科納(江蘇)CSE深入研究LED生產工藝,現(xiàn)已形成可滿足LED產業(yè)化項目需求的全自動濕法工藝標準成套設備。 LED 芯片的制造工藝流程為:外延片→清洗→鍍透明電極層→透明電極圖形光刻→腐蝕→去膠→平臺圖形光刻→干法刻蝕→去膠→退火→SiO2 沉積→窗口圖形光刻→SiO2腐蝕→去膠→N極圖形光刻→預清洗→鍍膜→剝離→退火→P 極圖形光刻→鍍膜→剝離→研磨→切割→芯片→成品測試。 CSE-外延片清洗機設備 設備名稱華林科納(江蘇)CSE-外延片清洗機設備可處理晶圓尺寸2”-12”可處理晶圓材料硅、砷化鎵、磷化銦、氮化鎵、碳化硅、鈮酸鋰、鉭酸鋰等應用領域集成電路、聲表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先進封裝等專有技術系統(tǒng)潔凈性技術均勻性技術晶圓片N2干燥技術模塊化系統(tǒng)集成技術自動傳輸及精確控制技術溶液溫度、流量和壓力的精確控制技術主要技術特點系統(tǒng)結構緊湊、安全腔體獨立密封,具有多種功能可實現(xiàn)晶圓干進干出采用工控機控制,功能強大,操作簡便可根據(jù)用戶要求提供個性化解決方案設備制造商華林科納(江蘇)半導體設備有限公司 regal-bio.cn 400-8768-096 ;18915583058更多的外延片清洗設備相關資訊可以關注華林科納CSE官網(wǎng)(regal-bio.cn),現(xiàn)在熱線咨詢400-8798-096可立即獲取免費的半導體行業(yè)相關清洗設備解決方案。
發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
旋轉式噴鍍臺結合微組裝工藝對鍍制工藝的小批量、多規(guī)格和特殊應用要求等特點,在6" (150mm)晶圓電鍍系統(tǒng)中采用了傾斜式旋轉噴鍍技術傾斜式旋轉噴鍍單元分由兩個部分組成,一為陰極夾具、旋轉單元、導線電刷、N2 保護單元組成的陰極回轉體,二為三角形槽體、陽極和電力線擋板組成的陽極腔。傾斜旋轉噴鍍結構示意圖如下:從鍍制結構方式、鍍制工藝應用分析可以看出,采用傾斜式旋轉噴鍍有以下幾種優(yōu)勢。一是這種結構方式易實現(xiàn)槽體密封和附加N2 保護功能。二是在這種鍍制工藝中,陰極的旋轉運動使槽內電場不均問題得以解決,從而提高了鍍制的均勻性。三是呈45°傾斜加陰極旋轉的方式,可以較容易的祛除晶圓表面的氣泡附著及“產生”氣泡的消除。四是采用了多微孔進行鍍液噴射,實現(xiàn)攪拌功能,消除局部PH值、溫度、離子濃度等不均勻帶來的影響。五是采用三角形鍍槽設計最大限度的減少了鍍液的消耗。六是該鍍制結構方式可以滿足多品種、小批量、低成本的生產需求。傾斜旋轉噴鍍技術、工藝優(yōu)勢斜式三角鍍槽結構本系統(tǒng)采用傾斜式三角形鍍槽結構,鍍槽入口溢流口均與三角形斜邊平行,可得到穩(wěn)定且不易積累氣泡的流場環(huán)境。通過進行相關模擬、仿真和驗證,鍍液入口采用扇形噴咀式結構,可保證鍍液在平行于陰極表面方向上形成均勻而穩(wěn)定的流場。從而通過改變流場的方法改善了鍍層的均勻性。該結構的另一優(yōu)點可使電鍍液的用量減至最少程度。 華林科納(江蘇)CSE采用傾斜旋轉噴鍍方法進行晶圓電鍍工藝處理,由于結構上的特點,該方法經實驗驗證具有:①結構簡單;②工藝參數(shù)控制容易;③有利氣泡的消除;④鍍制均勻性得到提高;⑤鍍制溶液用量少。該方法尤其適應于小批量、多規(guī)格的電鍍工藝,同時可以取得較好的鍍制均勻性。圖6為我們所研制的150mm晶圓傾斜旋轉噴鍍系統(tǒng),目前已批量生產并在工藝線上得到較好的應用,產品已通過技術定型鑒定和用戶驗收。實現(xiàn)的主要工藝指標:最...
發(fā)布時間: 2016 - 06 - 22
雙腔甩干機1. 應用范圍:l 本機臺適用於半導體2”4”6”8”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 設備為垂直式雙槽體機臺,可同Run 50片.l 可對旋乾步驟進行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設備已超過20年以上的應用馬達控制系統(tǒng)設計, 高穩(wěn)定度Rotor 設計, 震動值均控制於300 um 以下.l 高潔淨設計,微塵控制於每次運轉增加量, 0.3um , 30顆以下.   2. 操作流程3. 圖示 4. 規(guī)格l 機臺內皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達: DC無刷馬達750Wl 真空負壓軸封設計,隔離槽外污染l 不銹鋼N2過濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測保護(加熱器空燒保護)l 槽外貼Silicon材質加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開關90°C OFF 70°C ON)l  Viton材質充氣式氣囊及槽後密封環(huán),保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉子,並按客戶需求指定使用訂做l 轉子經拋光及電解研磨,並做動態(tài)平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂故障碼功能: 門鎖警告,氣體不足,傳動異常警告 5. 電控系統(tǒng)l  控制器操作介面: 7”記憶人機+ PLC可程式自動化控制器(人機 Touch Screen,整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/,皆可從操作螢幕上修改。Ø 儲存能力記憶模組...
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 07
枚葉式清洗機-華林科納CSE華林科納(江蘇)半導體CSE-單片枚葉式洗凈裝置的特長:單片式清洗裝置的優(yōu)點(與浸漬.槽式比較)1.晶片表面的微粒數(shù)非常少(到25nm可對應)例:附著粒子數(shù)…10個/W以下(0.08UM以上粒子)(參考)槽式200個/W2.藥液純水的消費量少藥液…(例)1%DHF的情況  20L/日純水...每處理一枚晶片0.5-1L/分3.小裝置size(根據(jù)每個客戶可以定制) 液體濺射(塵埃強制除去)  (推薦)清洗方法單片式裝置的Particle再附著問題   更多的半導體單片枚葉式濕法腐蝕清洗設備相關信息可以關注華林科納CSE官網(wǎng)(www.hlkncas.com),現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096;18913575037可立即獲取免費的半導體清洗解決方案。
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 07
自動供酸系統(tǒng)(CDS)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導體CSE-CDS自動供酸系統(tǒng) 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送,經管道至設備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點;具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩涌刂颇J?、自動控制模式設備名稱華林科納(江蘇)CSE-CDS自動供酸系統(tǒng)設備型號CSE-CDS-N1507設計基準1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設置于化學房內:酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學房;3. 設備材質說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構采以WPP 10T 板材,內部管路及組件采PFA 451 HP 材質;4. 系統(tǒng)為采以化學原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點;5. 過濾器:配有10” PFA材質過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質的進口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關;8. 所有化學品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統(tǒng)設備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設備主要功能:每種化學液體配兩個桶(自動切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動化與親和力。在...
發(fā)布時間: 2018 - 01 - 23
單片清洗機-華林科納CSESingle wafer cleaner system華林科納(江蘇)CSE-自動單片式腐蝕清洗機應用于清洗(包括光刻板清洗)刻蝕 去膠 金屬剝離等;可處理晶圓尺寸2'-12';可處理晶圓材料:硅 砷化鎵 磷化銦 氮化鎵 碳化硅 鈮酸鋰 鉭酸鋰等;主要應用領域:集成電路   聲表面波器件  微波毫米波器件  MEMS  先進封裝等  設 備 名 稱CSE-單片清洗機類  型單片式適 用 領 域半導體、太陽能、液晶、MEMS等清 洗 方 式2英寸——12英寸設備穩(wěn)定性1、≥0.2um顆粒少于10顆2、金屬附著量:3E10 atoms/ cm²3、純水消耗量:1L/min/片4、蝕刻均一性良好(SiO?氧化膜被稀釋HF處理):≤2%5、干燥時間:≤20S6、藥液回收率:>95%單片式優(yōu)點1、單片處理時間短(相較于槽式清洗機)2、節(jié)約成本(藥液循環(huán)利用,消耗量遠低于槽式)3、良品率高4、有效避免邊緣再附著5、立體層疊式結構,占地面積小 更多的單片(枚葉)式清洗相關設備可以關注華林科納(江蘇)半導體官網(wǎng),關注http://regal-bio.cn ,400-8768-096,18913575037
發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
氫氟酸HF自動供液系統(tǒng)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導體CSE-氫氟酸供液系統(tǒng) 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送,經管道至設備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點;具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩涌刂颇J健⒆詣涌刂颇J?#160;設備名稱華林科納(江蘇)CSE-氫氟酸(HF)供液系統(tǒng)設備型號CSE-CDS-N2601設計基準1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設置于化學房內:酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學房;3. 設備材質說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構采以WPP 10T 板材,內部管路及組件采PFA 451 HP 材質;4. 系統(tǒng)為采以化學原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點;5. 過濾器:配有10” PFA材質過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質的進口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關;8. 所有化學品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統(tǒng)設備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設備主要功能:每種化學液體配兩個桶(自動切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動化...
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【今日半導體新聞熱點】

時間: 2017-01-10
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半導體行業(yè)最新新聞資訊

爭取與美光合作 紫光網(wǎng)羅到前華亞科總經理

美商存儲器大廠美光科技上月合并華亞科技后,在新年度展開高層人事調整,原華亞科總經理牟瑞德(Rod)預定農歷春節(jié)后轉調日本,另調派一位新加坡籍華人來臺接任。另外,前華亞科總經理梅國勛(Scott Meikle)自美光退休后,正式加入紫光集團,擔任高級顧問,為近期加入紫光集團美光層級最高的人員。出自:經濟日報

英特爾發(fā)表10nm芯片

英特爾本周推出的幾款最新芯片(屬于高端KabyLake系列的一部分),仍然卡在14納米,性能僅勉強超過此前的Skylake系列處理器。出自:鳳凰科技

瑞芯微芯片打進三星Chrome Plus NB供應鏈

根據(jù)大陸媒體報導,RK3399為瑞芯微目前最強、可應用于全平臺的芯片。該芯片采用big.LITTLE大小核架構,具有2個Cortex-A72大核+4個Cortex-A53小核。GPU則采用整體效能較上代產品提升45%的ARM新一代高端影像處理器Mali-T860。

報導認為,三星Chromebook選擇RK3399的原因或許是看上其強大效能。而大陸IC設計公司首度打入三星的高端產品供應鏈,對大陸芯片的全球化有象征性意義。出自:Digitimes


中興通訊回應裁員風波:年流動率約 5% 屬正常情況

日前,《路透社》引用中國中興通訊(ZTE)多名高層主管的消息表示,中興通訊將裁員約 3,000 人,約占中興通訊當前在全球 60,000 名員工的5%。而且,其中裁員人數(shù)的五分之一 將來自表現(xiàn)欠佳的手機業(yè)務部門,也就是全球手機業(yè)務部門將裁員約 600 人,占手機部門員工總數(shù)的 10%。對此,中興通訊回應表示:公司全球當前有 60,000 名員工,每年流動率約為 5% 到 8%,都屬于正常情況。出自:TechNews科技新報

內存市場前景旺 未來5年年均增長達7.3%

內存市場日益擴大,研調機構 IC Insights 最新報告預測,DRAM 與 NAND 閃存等,未來5 年年均復合增長率(CAGR)可達7.3%,產值將從去年的773 億美元擴增至1,099 億美元。

報告將半導體區(qū)分成邏輯、內存,模擬與微組件(microcomponents)IC 等4 種類型,在 5 年的預測區(qū)間內,以內存成長力道最為強勁,模擬IC 以5.2%次之,微組件為4.4%,至于臺積電擅長代工的邏輯IC 則僅有2.9%。出自:MoneyDJ新聞


蘋果設備出貨量2017有望超過微軟

美國市場研究公司Gartner在最新報告中預計,采用蘋果操作系統(tǒng)的設備今年有望在出貨量這項指標上超過采用微軟操作系統(tǒng)的設備。這在本世紀尚屬首次。

Gartner預計,在今年超過微軟后,蘋果還將在2018和2019年進一步擴大領先優(yōu)勢。按照該公司的測算,2016年的各種設備出貨量為23億臺,微軟Windows約占2.6億臺,份額為11.2%。谷歌Android以絕對優(yōu)勢位居首位。出自:新浪科技

汽車廠商抱團開發(fā)無人駕駛技術:分攤成本 擴大市場

隨著無人駕駛汽車大戰(zhàn)愈演愈烈,相關廠商也分成了兩大陣營,一類可以獨自開發(fā)這種技術,另外一類則需要借助其他廠商的幫助來為其分擔財務和技術壓力。面對這樣的現(xiàn)狀,各大汽車供應商和汽車廠商都在擴大各自的聯(lián)盟規(guī)模,希望自己開發(fā)的無人駕駛汽車技術能夠被多家汽車廠商采用。

雖然特斯拉、通用汽車和福特都在開發(fā)專有無人駕駛系統(tǒng),但更多的汽車廠商似乎認為與供應商聯(lián)合開發(fā)無人駕駛技術更有意義——因為ABS和基于雷達的巡航控制功能已經存在。出自:新浪科技

人工智能熱潮興 推升SoC存儲器測試需求

人工智能(AI)將引發(fā)存儲器測試需求。AI發(fā)展持續(xù)升溫,深度學習(Deep learning)更是當中成長最為快速的領域,改變了電腦在現(xiàn)實世界中觀看、傾聽與認知事物的方式,并逐漸應用于智能手機、穿戴式裝置及自動駕駛汽車等領域中。現(xiàn)在已有許多芯片供應商對深度學習的興趣不斷增加,也意味著系統(tǒng)單芯片(SoC)對于存儲器的需求量將會大增,進而帶動存儲器測試需求。出自:新電子

東芝聚焦核能和半導體等優(yōu)勢業(yè)務

近日東芝集團主席稱,銀行將為東芝提供財務支持。近日,東芝發(fā)布消息稱,其在美國建設的核電站所需費用超出預期,可能對業(yè)績帶來數(shù)千億日元損失。東芝CEO綱川智表示,公司將會于2017年2月公布季度財報之際列出具體數(shù)據(jù)。

目前,圍繞核電業(yè)務的具體損失額還在詳細調查之中。但東芝稱,將修改2016財年盈利預期。有分析人士認為,這從側面反映出東芝在核電站建設等方面存在疏忽。出自:中國經營報

我國機器人產業(yè)出現(xiàn)“高端產業(yè)低端化”趨勢

中國機器人產業(yè)近來發(fā)展勢頭迅猛,已連續(xù)多年成為全球最大的機器人應用市場,機器人企業(yè)也在短短幾年間從幾十家發(fā)展到幾百家。從市場份額占有率來看,前幾年,中國本土機器人所占的市場份額占國內機器人市場的10%左右,后來上升到10%-15%,去年(2015年)已經達到25%,增速從全球范圍內位列前茅,按照中國機器人十三五的戰(zhàn)略和規(guī)劃,到2020年,這個比率應該達到50%。但值得注意的是,我國機器人產業(yè)仍然存在不少問題。(出自:人工智能機器人聯(lián)盟


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