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濕法制程整體解決方案提供商

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推薦產(chǎn)品 / 產(chǎn)品中心
發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
在LED外延及芯片制造領(lǐng)域,濕法設(shè)備占據(jù)約40%以上的工藝,隨著工藝技術(shù)的不斷發(fā)展,濕法設(shè)備已經(jīng)成為LED外延及芯片制造領(lǐng)域的關(guān)鍵設(shè)備,如SPM酸清洗、有機清洗、顯影、去膠、ITO蝕刻、BOE蝕刻、PSS高溫側(cè)腐、下蠟、勻膠、甩干、掩膜版清洗等。華林科納(江蘇)CSE深入研究LED生產(chǎn)工藝,現(xiàn)已形成可滿足LED產(chǎn)業(yè)化項目需求的全自動濕法工藝標(biāo)準(zhǔn)成套設(shè)備。 LED 芯片的制造工藝流程為:外延片→清洗→鍍透明電極層→透明電極圖形光刻→腐蝕→去膠→平臺圖形光刻→干法刻蝕→去膠→退火→SiO2 沉積→窗口圖形光刻→SiO2腐蝕→去膠→N極圖形光刻→預(yù)清洗→鍍膜→剝離→退火→P 極圖形光刻→鍍膜→剝離→研磨→切割→芯片→成品測試。 CSE-外延片清洗機設(shè)備 設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-外延片清洗機設(shè)備可處理晶圓尺寸2”-12”可處理晶圓材料硅、砷化鎵、磷化銦、氮化鎵、碳化硅、鈮酸鋰、鉭酸鋰等應(yīng)用領(lǐng)域集成電路、聲表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先進封裝等專有技術(shù)系統(tǒng)潔凈性技術(shù)均勻性技術(shù)晶圓片N2干燥技術(shù)模塊化系統(tǒng)集成技術(shù)自動傳輸及精確控制技術(shù)溶液溫度、流量和壓力的精確控制技術(shù)主要技術(shù)特點系統(tǒng)結(jié)構(gòu)緊湊、安全腔體獨立密封,具有多種功能可實現(xiàn)晶圓干進干出采用工控機控制,功能強大,操作簡便可根據(jù)用戶要求提供個性化解決方案設(shè)備制造商華林科納(江蘇)半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 regal-bio.cn 400-8768-096 ;18915583058更多的外延片清洗設(shè)備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(regal-bio.cn),現(xiàn)在熱線咨詢400-8798-096可立即獲取免費的半導(dǎo)體行業(yè)相關(guān)清洗設(shè)備解決方案。
發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
旋轉(zhuǎn)式噴鍍臺結(jié)合微組裝工藝對鍍制工藝的小批量、多規(guī)格和特殊應(yīng)用要求等特點,在6" (150mm)晶圓電鍍系統(tǒng)中采用了傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍單元分由兩個部分組成,一為陰極夾具、旋轉(zhuǎn)單元、導(dǎo)線電刷、N2 保護單元組成的陰極回轉(zhuǎn)體,二為三角形槽體、陽極和電力線擋板組成的陽極腔。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍結(jié)構(gòu)示意圖如下:從鍍制結(jié)構(gòu)方式、鍍制工藝應(yīng)用分析可以看出,采用傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍有以下幾種優(yōu)勢。一是這種結(jié)構(gòu)方式易實現(xiàn)槽體密封和附加N2 保護功能。二是在這種鍍制工藝中,陰極的旋轉(zhuǎn)運動使槽內(nèi)電場不均問題得以解決,從而提高了鍍制的均勻性。三是呈45°傾斜加陰極旋轉(zhuǎn)的方式,可以較容易的祛除晶圓表面的氣泡附著及“產(chǎn)生”氣泡的消除。四是采用了多微孔進行鍍液噴射,實現(xiàn)攪拌功能,消除局部PH值、溫度、離子濃度等不均勻帶來的影響。五是采用三角形鍍槽設(shè)計最大限度的減少了鍍液的消耗。六是該鍍制結(jié)構(gòu)方式可以滿足多品種、小批量、低成本的生產(chǎn)需求。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)、工藝優(yōu)勢斜式三角鍍槽結(jié)構(gòu)本系統(tǒng)采用傾斜式三角形鍍槽結(jié)構(gòu),鍍槽入口溢流口均與三角形斜邊平行,可得到穩(wěn)定且不易積累氣泡的流場環(huán)境。通過進行相關(guān)模擬、仿真和驗證,鍍液入口采用扇形噴咀式結(jié)構(gòu),可保證鍍液在平行于陰極表面方向上形成均勻而穩(wěn)定的流場。從而通過改變流場的方法改善了鍍層的均勻性。該結(jié)構(gòu)的另一優(yōu)點可使電鍍液的用量減至最少程度。 華林科納(江蘇)CSE采用傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍方法進行晶圓電鍍工藝處理,由于結(jié)構(gòu)上的特點,該方法經(jīng)實驗驗證具有:①結(jié)構(gòu)簡單;②工藝參數(shù)控制容易;③有利氣泡的消除;④鍍制均勻性得到提高;⑤鍍制溶液用量少。該方法尤其適應(yīng)于小批量、多規(guī)格的電鍍工藝,同時可以取得較好的鍍制均勻性。圖6為我們所研制的150mm晶圓傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍系統(tǒng),目前已批量生產(chǎn)并在工藝線上得到較好的應(yīng)用,產(chǎn)品已通過技術(shù)定型鑒定和用戶驗收。實現(xiàn)的主要工藝指標(biāo):最...
發(fā)布時間: 2016 - 06 - 22
雙腔甩干機1. 應(yīng)用范圍:l 本機臺適用於半導(dǎo)體2”4”6”8”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 設(shè)備為垂直式雙槽體機臺,可同Run 50片.l 可對旋乾步驟進行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設(shè)備已超過20年以上的應(yīng)用馬達控制系統(tǒng)設(shè)計, 高穩(wěn)定度Rotor 設(shè)計, 震動值均控制於300 um 以下.l 高潔淨(jìng)設(shè)計,微塵控制於每次運轉(zhuǎn)增加量, 0.3um , 30顆以下.   2. 操作流程3. 圖示 4. 規(guī)格l 機臺內(nèi)皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達: DC無刷馬達750Wl 真空負壓軸封設(shè)計,隔離槽外污染l 不銹鋼N2過濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測保護(加熱器空燒保護)l 槽外貼Silicon材質(zhì)加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開關(guān)90°C OFF 70°C ON)l  Viton材質(zhì)充氣式氣囊及槽後密封環(huán),保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經(jīng)拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉(zhuǎn)子,並按客戶需求指定使用訂做l 轉(zhuǎn)子經(jīng)拋光及電解研磨,並做動態(tài)平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂故障碼功能: 門鎖警告,氣體不足,傳動異常警告 5. 電控系統(tǒng)l  控制器操作介面: 7”記憶人機+ PLC可程式自動化控制器(人機 Touch Screen,整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/,皆可從操作螢?zāi)簧闲薷摹?#216; 儲存能力記憶模組...
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 07
枚葉式清洗機-華林科納CSE華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-單片枚葉式洗凈裝置的特長:單片式清洗裝置的優(yōu)點(與浸漬.槽式比較)1.晶片表面的微粒數(shù)非常少(到25nm可對應(yīng))例:附著粒子數(shù)…10個/W以下(0.08UM以上粒子)(參考)槽式200個/W2.藥液純水的消費量少藥液…(例)1%DHF的情況  20L/日純水...每處理一枚晶片0.5-1L/分3.小裝置size(根據(jù)每個客戶可以定制) 液體濺射(塵埃強制除去)  (推薦)清洗方法單片式裝置的Particle再附著問題   更多的半導(dǎo)體單片枚葉式濕法腐蝕清洗設(shè)備相關(guān)信息可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(www.hlkncas.com),現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096;18913575037可立即獲取免費的半導(dǎo)體清洗解決方案。
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 07
自動供酸系統(tǒng)(CDS)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-CDS自動供酸系統(tǒng) 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送,經(jīng)管道至設(shè)備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點;具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩涌刂颇J健⒆詣涌刂颇J皆O(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-CDS自動供酸系統(tǒng)設(shè)備型號CSE-CDS-N1507設(shè)計基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房內(nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房;3. 設(shè)備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點;5. 過濾器:配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學(xué)液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質(zhì)的進口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān);8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能:每種化學(xué)液體配兩個桶(自動切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動化與親和力。在...
發(fā)布時間: 2018 - 01 - 23
單片清洗機-華林科納CSESingle wafer cleaner system華林科納(江蘇)CSE-自動單片式腐蝕清洗機應(yīng)用于清洗(包括光刻板清洗)刻蝕 去膠 金屬剝離等;可處理晶圓尺寸2'-12';可處理晶圓材料:硅 砷化鎵 磷化銦 氮化鎵 碳化硅 鈮酸鋰 鉭酸鋰等;主要應(yīng)用領(lǐng)域:集成電路   聲表面波器件  微波毫米波器件  MEMS  先進封裝等  設(shè) 備 名 稱CSE-單片清洗機類  型單片式適 用 領(lǐng) 域半導(dǎo)體、太陽能、液晶、MEMS等清 洗 方 式2英寸——12英寸設(shè)備穩(wěn)定性1、≥0.2um顆粒少于10顆2、金屬附著量:3E10 atoms/ cm²3、純水消耗量:1L/min/片4、蝕刻均一性良好(SiO?氧化膜被稀釋HF處理):≤2%5、干燥時間:≤20S6、藥液回收率:>95%單片式優(yōu)點1、單片處理時間短(相較于槽式清洗機)2、節(jié)約成本(藥液循環(huán)利用,消耗量遠低于槽式)3、良品率高4、有效避免邊緣再附著5、立體層疊式結(jié)構(gòu),占地面積小 更多的單片(枚葉)式清洗相關(guān)設(shè)備可以關(guān)注華林科納(江蘇)半導(dǎo)體官網(wǎng),關(guān)注http://regal-bio.cn ,400-8768-096,18913575037
發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
氫氟酸HF自動供液系統(tǒng)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-氫氟酸供液系統(tǒng) 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送,經(jīng)管道至設(shè)備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點;具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩涌刂颇J健⒆詣涌刂颇J?#160;設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-氫氟酸(HF)供液系統(tǒng)設(shè)備型號CSE-CDS-N2601設(shè)計基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房內(nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房;3. 設(shè)備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點;5. 過濾器:配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學(xué)液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質(zhì)的進口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān);8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能:每種化學(xué)液體配兩個桶(自動切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動化...
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我國傳感器產(chǎn)業(yè)發(fā)展仍需政策引導(dǎo)

時間: 2017-01-05
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?市場壟斷/技術(shù)封鎖 我國傳感器產(chǎn)業(yè)發(fā)展仍需政策引導(dǎo)

長期以來,我國傳感器產(chǎn)業(yè)化未能受到高度重視,與市場需求和作用不相適應(yīng),企業(yè)均處于小規(guī)模生產(chǎn)階段,存在工藝?yán)匣?、結(jié)構(gòu)不合理等問題,缺乏產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)的基礎(chǔ)條件。核心技術(shù)與產(chǎn)品停留在實驗室或小批量生產(chǎn)的初級階段,難以形成和產(chǎn)生規(guī)模經(jīng)濟效益。

在國內(nèi)已有的1700多家企業(yè)、大專院校、科研機構(gòu)中,都有不同程度的研發(fā)、小批量生產(chǎn)制造傳感器產(chǎn)品。由于非專業(yè)型、非主流產(chǎn)品的企業(yè)比例較高,產(chǎn)值相對較低,重視程度不夠,因此,產(chǎn)值過億的企業(yè)僅占總數(shù)的5%,產(chǎn)品種類齊全的專業(yè)廠家不足3%。與國外相比,在產(chǎn)品品質(zhì)、工藝水平、生產(chǎn)裝備、企業(yè)規(guī)模、市場占有率和綜合競爭能力等方面存在較大差距。

新品研制仍落后近10年,而產(chǎn)業(yè)化水平落后10-15年。目前我國敏感元件與傳感器大約有60%依賴進口,核心芯片約80%以上依賴進口,物聯(lián)網(wǎng)中使用的MEMS 傳感器幾乎全部依賴進口。致使我國持續(xù)增長的龐大市場被國外長期控制與壟斷,不僅造成經(jīng)濟利益的損失,而且對于國家政治、經(jīng)濟、軍事等信息安全造成嚴(yán)重影響和威脅。

同時,嚴(yán)重制約和影響我國物聯(lián)網(wǎng)、大數(shù)據(jù)、云計算、“互聯(lián)網(wǎng)+”,乃至智慧城市,特別是軍工與武器裝備水平的整體發(fā)展與提高,現(xiàn)實問題與矛盾尤為突出。

此外,我國在國家戰(zhàn)略規(guī)劃和產(chǎn)業(yè)政策上沒有提到相應(yīng)高度予以足夠的重視和扶持培育,資源配置偏離行業(yè)發(fā)展,政策關(guān)注度不夠也是傳感器產(chǎn)業(yè)化與國際相比存在較大的差距的主要原因之一。長此已久,使得產(chǎn)業(yè)分散、規(guī)模偏小、缺少龍頭企業(yè)帶動和領(lǐng)軍人才的引領(lǐng)作用,產(chǎn)業(yè)鏈不完整,產(chǎn)業(yè)融合與聚集度不高,產(chǎn)業(yè)空心化加重,與發(fā)達國家相比存在較大差距。

問題與矛盾突出,阻礙產(chǎn)業(yè)發(fā)展

第一,資源匹配和關(guān)注度不夠,貸款難、融資成本高的問題長期存在。整體技術(shù)裝備落后,自動化生產(chǎn)與檢測水平較低,其生產(chǎn)過程被稱為制造“工業(yè)工藝品”產(chǎn)品質(zhì)量差。而工藝技術(shù)裝備的投資需求較大,企業(yè)無力進行技術(shù)改造和設(shè)備能力提升。直接影響科研和生產(chǎn)工藝技術(shù)整體能力提高,嚴(yán)重影響產(chǎn)業(yè)化進程。

第二,科技成果轉(zhuǎn)化難度較大,科技研發(fā)與產(chǎn)業(yè)生產(chǎn)脫節(jié)。技術(shù)創(chuàng)新資源在科研院所,不在企業(yè)手中,企業(yè)自主創(chuàng)新能力不夠,形成的科技成果轉(zhuǎn)化缺乏轉(zhuǎn)化的通道和橋梁,成果和產(chǎn)業(yè)化形成兩張皮,實際應(yīng)用水平較低,科研成果與產(chǎn)業(yè)化結(jié)合機制和體系不夠健全,產(chǎn)業(yè)發(fā)展后勁不足和持續(xù)性不夠。

第三,人才流動導(dǎo)向偏離,缺乏領(lǐng)軍人物影響力和示范帶動作用。一是基礎(chǔ)理論研究和技術(shù)開發(fā)科研人員偏少,二是人才培養(yǎng)的專業(yè)化、批量化、實用性與傳感器產(chǎn)業(yè)化偏離較大,三是人才的流向不能流入傳感器這樣的中小企業(yè),人才的聚集度不高,缺乏領(lǐng)軍人才的培育和和優(yōu)秀企業(yè)家引領(lǐng)作用的發(fā)揮。

第四,產(chǎn)業(yè)政策扶持力度不夠,企業(yè)稅費負擔(dān)過重。傳感器產(chǎn)業(yè)技術(shù)含量較高,人才、技術(shù)密集,開發(fā)成本大于其他行業(yè),企業(yè)負擔(dān)過重,在同等高科技中享有稅收等政策較少,企業(yè)規(guī)模小,各項產(chǎn)業(yè)政策扶持條件適應(yīng)性不夠,難于獲得項目資金支持;

第五,長期受到進口產(chǎn)品沖擊,市場公平性秩序混亂和壁壘太高。成熟領(lǐng)域配套市場長期被國外壟斷和擠壓,導(dǎo)致國內(nèi)企業(yè)在生產(chǎn)規(guī)模、品種、質(zhì)量、價格缺乏競爭優(yōu)勢,市場反應(yīng)速度,個性化服務(wù)能力不足,缺少規(guī)模效應(yīng)和拉動作用。此外,市場推廣與產(chǎn)品銷售成本過大,約束條件和要求過多,準(zhǔn)入門檻偏高,也是進入良性循環(huán)的制約因素。

營造“雙生態(tài)”產(chǎn)業(yè)環(huán)境,促進多技術(shù)融合及協(xié)同發(fā)展

業(yè)內(nèi)普遍認(rèn)為,受市場壟斷和技術(shù)封鎖的制約,傳感器產(chǎn)業(yè)化發(fā)展要想從發(fā)達國家獲取核心技術(shù)和關(guān)鍵工藝是不可能的,需要產(chǎn)業(yè)與行業(yè)發(fā)展的頂層設(shè)計,制定出國家層面的統(tǒng)籌規(guī)劃和戰(zhàn)略性政策予以扶持。

具體建議內(nèi)容為以下基本原則和措施:

第一,提升戰(zhàn)略地位,加強統(tǒng)籌規(guī)劃,把傳感器定為“國家產(chǎn)業(yè)發(fā)展重點目標(biāo)”,列為“國家戰(zhàn)略”項目,在十三五規(guī)劃中列為重點支持,優(yōu)先發(fā)展的內(nèi)容。設(shè)立“傳感器產(chǎn)業(yè)化發(fā)展專項資金”,激勵中小企業(yè)發(fā)展專業(yè)性強、有特色、有特長技術(shù)與產(chǎn)品,鼓勵并推動中小企業(yè)朝著產(chǎn)業(yè)化方向發(fā)展。

第二,搭建并促進由政府、大學(xué)、科研院所、企業(yè)共同建立的國家、行業(yè)技術(shù)研發(fā)、檢測和標(biāo)準(zhǔn)知識產(chǎn)權(quán)公共服務(wù)平臺。建立傳感器標(biāo)準(zhǔn)委員會,制定傳感器標(biāo)準(zhǔn)體系,加快標(biāo)準(zhǔn)建設(shè)。推動并聯(lián)合企業(yè)、大專院校、科研院所、行業(yè)協(xié)會、支撐機構(gòu),成立產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟。

第三,打造良好的傳感器產(chǎn)業(yè)生態(tài)環(huán)境,創(chuàng)建中國國際傳感器產(chǎn)業(yè)園。優(yōu)化產(chǎn)業(yè)發(fā)展環(huán)境,形成行業(yè)資源優(yōu)勢互補,促進產(chǎn)學(xué)研結(jié)合,創(chuàng)造上下游整合契機。通過產(chǎn)業(yè)聚集、整合、并購,在國內(nèi)產(chǎn)業(yè)優(yōu)勢突出和相對集中地區(qū),打造技術(shù)、產(chǎn)品特色明確,產(chǎn)業(yè)鏈完整、具有國際化市場能力的國際傳感器產(chǎn)業(yè)園——中國‘傳感谷’。

形成常態(tài)化支持與服務(wù)和政、產(chǎn)、學(xué)、研、用、服六維一體的產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)完整的功能,以實現(xiàn)產(chǎn)業(yè)聚集和規(guī)模效應(yīng),形成產(chǎn)業(yè)鏈完備、結(jié)構(gòu)合理、具有國際影響力和年產(chǎn)值規(guī)模的產(chǎn)業(yè)聚集區(qū),促進產(chǎn)業(yè)化發(fā)展及行業(yè)整體能力提升。

其目的就是使創(chuàng)新真正發(fā)揮效能,使產(chǎn)業(yè)真正形成特色,使地區(qū)具有國際化競爭的品牌和優(yōu)勢,樹立起國際化市場的理念,立足國際化市場,把地區(qū)建設(shè)成為具有國際化優(yōu)勢與特色的地區(qū)名片。

(新聞出自:中國電子報;由華林科納整理發(fā)布,內(nèi)容僅供參考,謝謝?。?/span>


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