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濕法制程整體解決方案提供商

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推薦產(chǎn)品 / 產(chǎn)品中心
發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
在LED外延及芯片制造領(lǐng)域,濕法設(shè)備占據(jù)約40%以上的工藝,隨著工藝技術(shù)的不斷發(fā)展,濕法設(shè)備已經(jīng)成為LED外延及芯片制造領(lǐng)域的關(guān)鍵設(shè)備,如SPM酸清洗、有機清洗、顯影、去膠、ITO蝕刻、BOE蝕刻、PSS高溫側(cè)腐、下蠟、勻膠、甩干、掩膜版清洗等。華林科納(江蘇)CSE深入研究LED生產(chǎn)工藝,現(xiàn)已形成可滿足LED產(chǎn)業(yè)化項目需求的全自動濕法工藝標準成套設(shè)備。 LED 芯片的制造工藝流程為:外延片→清洗→鍍透明電極層→透明電極圖形光刻→腐蝕→去膠→平臺圖形光刻→干法刻蝕→去膠→退火→SiO2 沉積→窗口圖形光刻→SiO2腐蝕→去膠→N極圖形光刻→預(yù)清洗→鍍膜→剝離→退火→P 極圖形光刻→鍍膜→剝離→研磨→切割→芯片→成品測試。 CSE-外延片清洗機設(shè)備 設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-外延片清洗機設(shè)備可處理晶圓尺寸2”-12”可處理晶圓材料硅、砷化鎵、磷化銦、氮化鎵、碳化硅、鈮酸鋰、鉭酸鋰等應(yīng)用領(lǐng)域集成電路、聲表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先進封裝等專有技術(shù)系統(tǒng)潔凈性技術(shù)均勻性技術(shù)晶圓片N2干燥技術(shù)模塊化系統(tǒng)集成技術(shù)自動傳輸及精確控制技術(shù)溶液溫度、流量和壓力的精確控制技術(shù)主要技術(shù)特點系統(tǒng)結(jié)構(gòu)緊湊、安全腔體獨立密封,具有多種功能可實現(xiàn)晶圓干進干出采用工控機控制,功能強大,操作簡便可根據(jù)用戶要求提供個性化解決方案設(shè)備制造商華林科納(江蘇)半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 regal-bio.cn 400-8768-096 ;18915583058更多的外延片清洗設(shè)備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(regal-bio.cn),現(xiàn)在熱線咨詢400-8798-096可立即獲取免費的半導(dǎo)體行業(yè)相關(guān)清洗設(shè)備解決方案。
發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
旋轉(zhuǎn)式噴鍍臺結(jié)合微組裝工藝對鍍制工藝的小批量、多規(guī)格和特殊應(yīng)用要求等特點,在6" (150mm)晶圓電鍍系統(tǒng)中采用了傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍單元分由兩個部分組成,一為陰極夾具、旋轉(zhuǎn)單元、導(dǎo)線電刷、N2 保護單元組成的陰極回轉(zhuǎn)體,二為三角形槽體、陽極和電力線擋板組成的陽極腔。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍結(jié)構(gòu)示意圖如下:從鍍制結(jié)構(gòu)方式、鍍制工藝應(yīng)用分析可以看出,采用傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍有以下幾種優(yōu)勢。一是這種結(jié)構(gòu)方式易實現(xiàn)槽體密封和附加N2 保護功能。二是在這種鍍制工藝中,陰極的旋轉(zhuǎn)運動使槽內(nèi)電場不均問題得以解決,從而提高了鍍制的均勻性。三是呈45°傾斜加陰極旋轉(zhuǎn)的方式,可以較容易的祛除晶圓表面的氣泡附著及“產(chǎn)生”氣泡的消除。四是采用了多微孔進行鍍液噴射,實現(xiàn)攪拌功能,消除局部PH值、溫度、離子濃度等不均勻帶來的影響。五是采用三角形鍍槽設(shè)計最大限度的減少了鍍液的消耗。六是該鍍制結(jié)構(gòu)方式可以滿足多品種、小批量、低成本的生產(chǎn)需求。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)、工藝優(yōu)勢斜式三角鍍槽結(jié)構(gòu)本系統(tǒng)采用傾斜式三角形鍍槽結(jié)構(gòu),鍍槽入口溢流口均與三角形斜邊平行,可得到穩(wěn)定且不易積累氣泡的流場環(huán)境。通過進行相關(guān)模擬、仿真和驗證,鍍液入口采用扇形噴咀式結(jié)構(gòu),可保證鍍液在平行于陰極表面方向上形成均勻而穩(wěn)定的流場。從而通過改變流場的方法改善了鍍層的均勻性。該結(jié)構(gòu)的另一優(yōu)點可使電鍍液的用量減至最少程度。 華林科納(江蘇)CSE采用傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍方法進行晶圓電鍍工藝處理,由于結(jié)構(gòu)上的特點,該方法經(jīng)實驗驗證具有:①結(jié)構(gòu)簡單;②工藝參數(shù)控制容易;③有利氣泡的消除;④鍍制均勻性得到提高;⑤鍍制溶液用量少。該方法尤其適應(yīng)于小批量、多規(guī)格的電鍍工藝,同時可以取得較好的鍍制均勻性。圖6為我們所研制的150mm晶圓傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍系統(tǒng),目前已批量生產(chǎn)并在工藝線上得到較好的應(yīng)用,產(chǎn)品已通過技術(shù)定型鑒定和用戶驗收。實現(xiàn)的主要工藝指標:最...
發(fā)布時間: 2016 - 06 - 22
雙腔甩干機1. 應(yīng)用范圍:l 本機臺適用於半導(dǎo)體2”4”6”8”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 設(shè)備為垂直式雙槽體機臺,可同Run 50片.l 可對旋乾步驟進行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設(shè)備已超過20年以上的應(yīng)用馬達控制系統(tǒng)設(shè)計, 高穩(wěn)定度Rotor 設(shè)計, 震動值均控制於300 um 以下.l 高潔淨設(shè)計,微塵控制於每次運轉(zhuǎn)增加量, 0.3um , 30顆以下.   2. 操作流程3. 圖示 4. 規(guī)格l 機臺內(nèi)皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達: DC無刷馬達750Wl 真空負壓軸封設(shè)計,隔離槽外污染l 不銹鋼N2過濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測保護(加熱器空燒保護)l 槽外貼Silicon材質(zhì)加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開關(guān)90°C OFF 70°C ON)l  Viton材質(zhì)充氣式氣囊及槽後密封環(huán),保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經(jīng)拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉(zhuǎn)子,並按客戶需求指定使用訂做l 轉(zhuǎn)子經(jīng)拋光及電解研磨,並做動態(tài)平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂故障碼功能: 門鎖警告,氣體不足,傳動異常警告 5. 電控系統(tǒng)l  控制器操作介面: 7”記憶人機+ PLC可程式自動化控制器(人機 Touch Screen,整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/,皆可從操作螢?zāi)簧闲薷摹?#216; 儲存能力記憶模組...
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 07
枚葉式清洗機-華林科納CSE華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-單片枚葉式洗凈裝置的特長:單片式清洗裝置的優(yōu)點(與浸漬.槽式比較)1.晶片表面的微粒數(shù)非常少(到25nm可對應(yīng))例:附著粒子數(shù)…10個/W以下(0.08UM以上粒子)(參考)槽式200個/W2.藥液純水的消費量少藥液…(例)1%DHF的情況  20L/日純水...每處理一枚晶片0.5-1L/分3.小裝置size(根據(jù)每個客戶可以定制) 液體濺射(塵埃強制除去)  (推薦)清洗方法單片式裝置的Particle再附著問題   更多的半導(dǎo)體單片枚葉式濕法腐蝕清洗設(shè)備相關(guān)信息可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(www.hlkncas.com),現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096;18913575037可立即獲取免費的半導(dǎo)體清洗解決方案。
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 07
自動供酸系統(tǒng)(CDS)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-CDS自動供酸系統(tǒng) 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送,經(jīng)管道至設(shè)備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點;具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩涌刂颇J?、自動控制模式設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-CDS自動供酸系統(tǒng)設(shè)備型號CSE-CDS-N1507設(shè)計基準1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設(shè)置于化學房內(nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學房;3. 設(shè)備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點;5. 過濾器:配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質(zhì)的進口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān);8. 所有化學品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能:每種化學液體配兩個桶(自動切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動化與親和力。在...
發(fā)布時間: 2018 - 01 - 23
單片清洗機-華林科納CSESingle wafer cleaner system華林科納(江蘇)CSE-自動單片式腐蝕清洗機應(yīng)用于清洗(包括光刻板清洗)刻蝕 去膠 金屬剝離等;可處理晶圓尺寸2'-12';可處理晶圓材料:硅 砷化鎵 磷化銦 氮化鎵 碳化硅 鈮酸鋰 鉭酸鋰等;主要應(yīng)用領(lǐng)域:集成電路   聲表面波器件  微波毫米波器件  MEMS  先進封裝等  設(shè) 備 名 稱CSE-單片清洗機類  型單片式適 用 領(lǐng) 域半導(dǎo)體、太陽能、液晶、MEMS等清 洗 方 式2英寸——12英寸設(shè)備穩(wěn)定性1、≥0.2um顆粒少于10顆2、金屬附著量:3E10 atoms/ cm²3、純水消耗量:1L/min/片4、蝕刻均一性良好(SiO?氧化膜被稀釋HF處理):≤2%5、干燥時間:≤20S6、藥液回收率:>95%單片式優(yōu)點1、單片處理時間短(相較于槽式清洗機)2、節(jié)約成本(藥液循環(huán)利用,消耗量遠低于槽式)3、良品率高4、有效避免邊緣再附著5、立體層疊式結(jié)構(gòu),占地面積小 更多的單片(枚葉)式清洗相關(guān)設(shè)備可以關(guān)注華林科納(江蘇)半導(dǎo)體官網(wǎng),關(guān)注http://regal-bio.cn ,400-8768-096,18913575037
發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
氫氟酸HF自動供液系統(tǒng)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-氫氟酸供液系統(tǒng) 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送,經(jīng)管道至設(shè)備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點;具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩涌刂颇J?、自動控制模式 設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-氫氟酸(HF)供液系統(tǒng)設(shè)備型號CSE-CDS-N2601設(shè)計基準1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設(shè)置于化學房內(nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學房;3. 設(shè)備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點;5. 過濾器:配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質(zhì)的進口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān);8. 所有化學品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能:每種化學液體配兩個桶(自動切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動化...
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半導(dǎo)體行業(yè)最新新聞資訊

時間: 2016-12-28
點擊次數(shù): 243

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2017年我國將調(diào)整集成電路等進出口關(guān)稅

據(jù)財政部發(fā)布消息,經(jīng)國務(wù)院關(guān)稅稅則委員會審議通過,并報經(jīng)國務(wù)院批準,自2017年1月1日起,我國將調(diào)整部分商品的進出口關(guān)稅。

據(jù)介紹,明年關(guān)稅調(diào)整將秉承創(chuàng)新驅(qū)動發(fā)展的理念,繼續(xù)鼓勵國內(nèi)亟需的先進設(shè)備、關(guān)鍵零部件和能源原材料進口,以進口暫定稅率方式降低集成電路測試分選設(shè)備、飛機用液壓作動器、熱裂解爐等商品的進口關(guān)稅。

為豐富國內(nèi)消費者的購物選擇,還將降低金槍魚、北極蝦、蔓越橘等特色食品和雕塑品原件等文化消費品的進口關(guān)稅。為回應(yīng)國民對醫(yī)療和健康的關(guān)注,降低生產(chǎn)抗癌藥所需的紅豆杉皮和枝葉、治療糖尿病藥所需阿卡波糖水合物的進口關(guān)稅。

為充分發(fā)揮關(guān)稅對國內(nèi)產(chǎn)業(yè)的保護作用,明年對此前實行暫定稅率的丙烯酸鈉聚合物、具有變流功能的半導(dǎo)體拈等商品的進口關(guān)稅稅率進行相應(yīng)調(diào)整。明年還將取消氮肥、磷肥和天然石墨等商品的出口關(guān)稅,適當降低三元復(fù)合肥、鋼坯等商品的出口關(guān)稅。

為擴大雙邊、多邊經(jīng)貿(mào)合作,加快實施自由貿(mào)易區(qū)戰(zhàn)略,明年我國將繼續(xù)對原產(chǎn)于25個國家或地區(qū)的部分進口商品實施協(xié)定稅率,其中需進一步降稅的有中國與韓國、澳大利亞、新西蘭、秘魯、哥斯達黎加、瑞士、冰島、巴基斯坦的自貿(mào)協(xié)定;商品范圍和稅率水平均維持不變的有中國與新加坡、東盟、智利的自貿(mào)協(xié)定,以及亞太貿(mào)易協(xié)定;同時,內(nèi)地分別與港澳的更緊密經(jīng)貿(mào)安排(CEPA)將適當增加實施零關(guān)稅的商品范圍,海峽兩岸經(jīng)濟合作框架協(xié)議(ECFA)的商品范圍和稅率維持不變。

2016年9月,我國實施了部分信息技術(shù)產(chǎn)品的最惠國稅率首次降稅,這一優(yōu)惠將在明年上半年繼續(xù)實施,并于明年7月1日起啟動第二次降稅。2017年,我國還將繼續(xù)以進口暫定稅率方式執(zhí)行APEC環(huán)境產(chǎn)品降稅承諾,并繼續(xù)給予有關(guān)最不發(fā)達國家零關(guān)稅待遇。

此外,2017年我國還將對進出口稅則稅目進行調(diào)整,調(diào)整后的稅目總數(shù)將增加至8547個,稅目結(jié)構(gòu)將更加符合國際貿(mào)易發(fā)展的實際需要。出自:新華網(wǎng)

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硅晶圓明年調(diào)漲價格10%

暌違8年,半導(dǎo)體矽晶圓(silicon wafer)終于再度“漲”聲響起!矽晶圓廠上周與臺灣半導(dǎo)體廠敲定明年第一季12寸矽晶圓合約價,是近8年首度漲價,平均漲幅約10%,20奈米以下先進制程矽晶圓更是一口氣大漲10美元,環(huán)球晶、臺勝科成為最大受惠者。

由于近幾年矽晶圓廠均無擴產(chǎn)計劃,現(xiàn)有產(chǎn)能無法足額供貨,且預(yù)期大陸晶圓廠龐大需求將在明年下半年浮現(xiàn),而新建矽晶棒鑄造爐至少要一年以上時間。在此一供需環(huán)境,業(yè)界對第明年二季合約價續(xù)漲已有共識,下半年價格漲幅恐將再擴大,部份半導(dǎo)體廠更決定直接簽下一年長約。

包括環(huán)球晶、臺勝科等臺灣矽晶圓廠,崇越等矽晶圓代理商,及國外矽晶圓廠如SUMCO、信越等,上周陸續(xù)與臺灣半導(dǎo)體廠完成明年矽晶圓議價及簽訂新合約。業(yè)者表示,第一季雖然半導(dǎo)體市場淡季,但包括臺積電、聯(lián)電、力晶、南亞科等,均接受矽晶圓廠調(diào)漲價格。

據(jù)了解,12寸拋光矽晶圓(polished)原本合約均價為每片50~60美元,外延矽晶圓(epitaxial)為每片80美元,第一季均調(diào)漲10%幅度。20奈米以下高階矽晶圓原本合約均價約120美元,第一季已調(diào)漲10美元至130美元左右。

在這波矽晶圓漲價潮中,環(huán)球晶的表現(xiàn)最受法人青睞,因為環(huán)球晶看準市場即將供不應(yīng)求,搶在漲價前完成并購案,如今已是全球第三大矽晶圓廠。

法人指出,環(huán)球晶2012年收購日商Covalent Silicon不到1年就虧轉(zhuǎn)盈,去年中決定并購SunEdison(SEMI)時曾一度被市場看衰,但現(xiàn)在卻將環(huán)球晶推上全球第三大矽晶圓廠,更迎接此波8年來首度漲價潮。出自:工商時報

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北方微電子單片退火系統(tǒng)進入14納米工藝驗證階段

近日,七星電子全資子公司北方微電子推出的Booster A630 plus 單片退火系統(tǒng),成功進入中芯國際上海先進工藝生產(chǎn)線驗證。據(jù)悉,這是北方微電子繼NMC 612D硅刻蝕機之后,第二臺進入14納米工藝驗證階段的機臺。

目前,世界范圍內(nèi)集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展突飛猛進,工藝制程向更加精細化的方向發(fā)展,這對14納米工藝設(shè)備提出了更嚴苛的挑戰(zhàn)。隨著北方微電子28納米工藝設(shè)備陸續(xù)實現(xiàn)商用化,14納米工藝設(shè)備開發(fā)也取得了突破性進展。本次推出的Booster A630 plus 單片退火系統(tǒng),在28納米技術(shù)基礎(chǔ)上,通過設(shè)計優(yōu)化,大幅提高了系統(tǒng)潔凈度,提升了機臺的可靠性。Booster A630 plus 單片退火系統(tǒng)具備雙模加熱、升溫速率高、溫度均勻性好及產(chǎn)能大等特點,工藝指標達到國際先進水平。

七星電子方面認為,公司作為中國集成電路高端裝備的先行者,將深耕發(fā)展,開拓創(chuàng)新,加快先進工藝設(shè)備的開發(fā)速度,為我國集成電路產(chǎn)業(yè)健康發(fā)展作好裝備配套支撐。出自:證券時報

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海力士72 層3D NAND 內(nèi)存,傳2017年領(lǐng)先全球量產(chǎn)

SK 海力士最先進72 層3D NAND 內(nèi)存?zhèn)髅髂觊_始量產(chǎn),韓聯(lián)社26 日引述知情人事消息報導(dǎo)指出,海力士計劃于2017 上半年完成芯片設(shè)計,位在利川(Icheon)的M14 廠將可在下半年開始生產(chǎn)。

若按計劃進行,海力士將成為全球第一個量產(chǎn)72 層3D NAND 的內(nèi)存廠。為順應(yīng)市場需求增溫,海力士上周已宣布將在韓國與中國兩地,投資3.15 兆韓圜來增加DRAM 與NAND 內(nèi)存產(chǎn)能。

隨著微縮制程遭遇瓶頸,業(yè)者紛紛改以3D 垂直方式堆疊內(nèi)存做突破,但制程技術(shù)各不相同。目前技術(shù)領(lǐng)先的三星已于2013 年量產(chǎn)48 層3D NAND 內(nèi)存,至于64 層3D NAND 芯片也將在今年底開始投產(chǎn)。

據(jù)市調(diào)機構(gòu) DRAMeXchange 統(tǒng)計,三星第三季 NAND 內(nèi)存營收來到 37.44 億美元,市占率較前季進步 0.3 個百分點至 36.6%。東芝以 19.6% 位居第二,Western Digital、海力士與美光分居三、四、五名,市占率依序為17.1%、10.4% 與9.8%。出自:MoneyDJ新聞

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