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濕法制程整體解決方案提供商

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發(fā)布時(shí)間: 2017 - 12 - 06
在LED外延及芯片制造領(lǐng)域,濕法設(shè)備占據(jù)約40%以上的工藝,隨著工藝技術(shù)的不斷發(fā)展,濕法設(shè)備已經(jīng)成為L(zhǎng)ED外延及芯片制造領(lǐng)域的關(guān)鍵設(shè)備,如SPM酸清洗、有機(jī)清洗、顯影、去膠、ITO蝕刻、BOE蝕刻、PSS高溫側(cè)腐、下蠟、勻膠、甩干、掩膜版清洗等。華林科納(江蘇)CSE深入研究LED生產(chǎn)工藝,現(xiàn)已形成可滿足LED產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目需求的全自動(dòng)濕法工藝標(biāo)準(zhǔn)成套設(shè)備。 LED 芯片的制造工藝流程為:外延片→清洗→鍍透明電極層→透明電極圖形光刻→腐蝕→去膠→平臺(tái)圖形光刻→干法刻蝕→去膠→退火→SiO2 沉積→窗口圖形光刻→SiO2腐蝕→去膠→N極圖形光刻→預(yù)清洗→鍍膜→剝離→退火→P 極圖形光刻→鍍膜→剝離→研磨→切割→芯片→成品測(cè)試。 CSE-外延片清洗機(jī)設(shè)備 設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-外延片清洗機(jī)設(shè)備可處理晶圓尺寸2”-12”可處理晶圓材料硅、砷化鎵、磷化銦、氮化鎵、碳化硅、鈮酸鋰、鉭酸鋰等應(yīng)用領(lǐng)域集成電路、聲表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先進(jìn)封裝等專有技術(shù)系統(tǒng)潔凈性技術(shù)均勻性技術(shù)晶圓片N2干燥技術(shù)模塊化系統(tǒng)集成技術(shù)自動(dòng)傳輸及精確控制技術(shù)溶液溫度、流量和壓力的精確控制技術(shù)主要技術(shù)特點(diǎn)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)緊湊、安全腔體獨(dú)立密封,具有多種功能可實(shí)現(xiàn)晶圓干進(jìn)干出采用工控機(jī)控制,功能強(qiáng)大,操作簡(jiǎn)便可根據(jù)用戶要求提供個(gè)性化解決方案設(shè)備制造商華林科納(江蘇)半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 regal-bio.cn 400-8768-096 ;18915583058更多的外延片清洗設(shè)備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(regal-bio.cn),現(xiàn)在熱線咨詢400-8798-096可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體行業(yè)相關(guān)清洗設(shè)備解決方案。
發(fā)布時(shí)間: 2017 - 12 - 06
旋轉(zhuǎn)式噴鍍臺(tái)結(jié)合微組裝工藝對(duì)鍍制工藝的小批量、多規(guī)格和特殊應(yīng)用要求等特點(diǎn),在6" (150mm)晶圓電鍍系統(tǒng)中采用了傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍單元分由兩個(gè)部分組成,一為陰極夾具、旋轉(zhuǎn)單元、導(dǎo)線電刷、N2 保護(hù)單元組成的陰極回轉(zhuǎn)體,二為三角形槽體、陽(yáng)極和電力線擋板組成的陽(yáng)極腔。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍結(jié)構(gòu)示意圖如下:從鍍制結(jié)構(gòu)方式、鍍制工藝應(yīng)用分析可以看出,采用傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍有以下幾種優(yōu)勢(shì)。一是這種結(jié)構(gòu)方式易實(shí)現(xiàn)槽體密封和附加N2 保護(hù)功能。二是在這種鍍制工藝中,陰極的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)使槽內(nèi)電場(chǎng)不均問題得以解決,從而提高了鍍制的均勻性。三是呈45°傾斜加陰極旋轉(zhuǎn)的方式,可以較容易的祛除晶圓表面的氣泡附著及“產(chǎn)生”氣泡的消除。四是采用了多微孔進(jìn)行鍍液噴射,實(shí)現(xiàn)攪拌功能,消除局部PH值、溫度、離子濃度等不均勻帶來的影響。五是采用三角形鍍槽設(shè)計(jì)最大限度的減少了鍍液的消耗。六是該鍍制結(jié)構(gòu)方式可以滿足多品種、小批量、低成本的生產(chǎn)需求。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)、工藝優(yōu)勢(shì)斜式三角鍍槽結(jié)構(gòu)本系統(tǒng)采用傾斜式三角形鍍槽結(jié)構(gòu),鍍槽入口溢流口均與三角形斜邊平行,可得到穩(wěn)定且不易積累氣泡的流場(chǎng)環(huán)境。通過進(jìn)行相關(guān)模擬、仿真和驗(yàn)證,鍍液入口采用扇形噴咀式結(jié)構(gòu),可保證鍍液在平行于陰極表面方向上形成均勻而穩(wěn)定的流場(chǎng)。從而通過改變流場(chǎng)的方法改善了鍍層的均勻性。該結(jié)構(gòu)的另一優(yōu)點(diǎn)可使電鍍液的用量減至最少程度。 華林科納(江蘇)CSE采用傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍方法進(jìn)行晶圓電鍍工藝處理,由于結(jié)構(gòu)上的特點(diǎn),該方法經(jīng)實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證具有:①結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單;②工藝參數(shù)控制容易;③有利氣泡的消除;④鍍制均勻性得到提高;⑤鍍制溶液用量少。該方法尤其適應(yīng)于小批量、多規(guī)格的電鍍工藝,同時(shí)可以取得較好的鍍制均勻性。圖6為我們所研制的150mm晶圓傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍系統(tǒng),目前已批量生產(chǎn)并在工藝線上得到較好的應(yīng)用,產(chǎn)品已通過技術(shù)定型鑒定和用戶驗(yàn)收。實(shí)現(xiàn)的主要工藝指標(biāo):最...
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 06 - 22
雙腔甩干機(jī)1. 應(yīng)用范圍:l 本機(jī)臺(tái)適用於半導(dǎo)體2”4”6”8”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 設(shè)備為垂直式雙槽體機(jī)臺(tái),可同Run 50片.l 可對(duì)旋乾步驟進(jìn)行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設(shè)備已超過20年以上的應(yīng)用馬達(dá)控制系統(tǒng)設(shè)計(jì), 高穩(wěn)定度Rotor 設(shè)計(jì), 震動(dòng)值均控制於300 um 以下.l 高潔淨(jìng)設(shè)計(jì),微塵控制於每次運(yùn)轉(zhuǎn)增加量, 0.3um , 30顆以下.   2. 操作流程3. 圖示 4. 規(guī)格l 機(jī)臺(tái)內(nèi)皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達(dá): DC無刷馬達(dá)750Wl 真空負(fù)壓軸封設(shè)計(jì),隔離槽外污染l 不銹鋼N2過濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測(cè)保護(hù)(加熱器空燒保護(hù))l 槽外貼Silicon材質(zhì)加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開關(guān)90°C OFF 70°C ON)l  Viton材質(zhì)充氣式氣囊及槽後密封環(huán),保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經(jīng)拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉(zhuǎn)子,並按客戶需求指定使用訂做l 轉(zhuǎn)子經(jīng)拋光及電解研磨,並做動(dòng)態(tài)平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂故障碼功能: 門鎖警告,氣體不足,傳動(dòng)異常警告 5. 電控系統(tǒng)l  控制器操作介面: 7”記憶人機(jī)+ PLC可程式自動(dòng)化控制器(人機(jī) Touch Screen,整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲(chǔ)存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/,皆可從操作螢?zāi)簧闲薷摹?#216; 儲(chǔ)存能力記憶模組...
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 03 - 07
枚葉式清洗機(jī)-華林科納CSE華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-單片枚葉式洗凈裝置的特長(zhǎng):?jiǎn)纹角逑囱b置的優(yōu)點(diǎn)(與浸漬.槽式比較)1.晶片表面的微粒數(shù)非常少(到25nm可對(duì)應(yīng))例:附著粒子數(shù)…10個(gè)/W以下(0.08UM以上粒子)(參考)槽式200個(gè)/W2.藥液純水的消費(fèi)量少藥液…(例)1%DHF的情況  20L/日純水...每處理一枚晶片0.5-1L/分3.小裝置size(根據(jù)每個(gè)客戶可以定制) 液體濺射(塵埃強(qiáng)制除去)  (推薦)清洗方法單片式裝置的Particle再附著問題   更多的半導(dǎo)體單片枚葉式濕法腐蝕清洗設(shè)備相關(guān)信息可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(www.hlkncas.com),現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096;18913575037可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體清洗解決方案。
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 03 - 07
自動(dòng)供酸系統(tǒng)(CDS)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-CDS自動(dòng)供酸系統(tǒng) 適用對(duì)象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進(jìn)行配送,經(jīng)管道至設(shè)備;具有自動(dòng)化程度高,配比精確,操作簡(jiǎn)便等特點(diǎn);具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩?dòng)控制模式、自動(dòng)控制模式設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-CDS自動(dòng)供酸系統(tǒng)設(shè)備型號(hào)CSE-CDS-N1507設(shè)計(jì)基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡(jiǎn)稱:CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房?jī)?nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房;3. 設(shè)備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運(yùn)送到制程使用點(diǎn);5. 過濾器:配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學(xué)液體配有兩臺(tái)或者一臺(tái) PTFE材質(zhì)的進(jìn)口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān);8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測(cè)器與警報(bào)功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能:每種化學(xué)液體配兩個(gè)桶(自動(dòng)切換)、配兩臺(tái)泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動(dòng)化與親和力。在...
發(fā)布時(shí)間: 2018 - 01 - 23
單片清洗機(jī)-華林科納CSESingle wafer cleaner system華林科納(江蘇)CSE-自動(dòng)單片式腐蝕清洗機(jī)應(yīng)用于清洗(包括光刻板清洗)刻蝕 去膠 金屬剝離等;可處理晶圓尺寸2'-12';可處理晶圓材料:硅 砷化鎵 磷化銦 氮化鎵 碳化硅 鈮酸鋰 鉭酸鋰等;主要應(yīng)用領(lǐng)域:集成電路   聲表面波器件  微波毫米波器件  MEMS  先進(jìn)封裝等  設(shè) 備 名 稱CSE-單片清洗機(jī)類  型單片式適 用 領(lǐng) 域半導(dǎo)體、太陽(yáng)能、液晶、MEMS等清 洗 方 式2英寸——12英寸設(shè)備穩(wěn)定性1、≥0.2um顆粒少于10顆2、金屬附著量:3E10 atoms/ cm²3、純水消耗量:1L/min/片4、蝕刻均一性良好(SiO?氧化膜被稀釋HF處理):≤2%5、干燥時(shí)間:≤20S6、藥液回收率:>95%單片式優(yōu)點(diǎn)1、單片處理時(shí)間短(相較于槽式清洗機(jī))2、節(jié)約成本(藥液循環(huán)利用,消耗量遠(yuǎn)低于槽式)3、良品率高4、有效避免邊緣再附著5、立體層疊式結(jié)構(gòu),占地面積小 更多的單片(枚葉)式清洗相關(guān)設(shè)備可以關(guān)注華林科納(江蘇)半導(dǎo)體官網(wǎng),關(guān)注http://regal-bio.cn ,400-8768-096,18913575037
發(fā)布時(shí)間: 2017 - 12 - 06
氫氟酸HF自動(dòng)供液系統(tǒng)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-氫氟酸供液系統(tǒng) 適用對(duì)象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進(jìn)行配送,經(jīng)管道至設(shè)備;具有自動(dòng)化程度高,配比精確,操作簡(jiǎn)便等特點(diǎn);具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩?dòng)控制模式、自動(dòng)控制模式 設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-氫氟酸(HF)供液系統(tǒng)設(shè)備型號(hào)CSE-CDS-N2601設(shè)計(jì)基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡(jiǎn)稱:CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房?jī)?nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房;3. 設(shè)備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運(yùn)送到制程使用點(diǎn);5. 過濾器:配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學(xué)液體配有兩臺(tái)或者一臺(tái) PTFE材質(zhì)的進(jìn)口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān);8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測(cè)器與警報(bào)功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能:每種化學(xué)液體配兩個(gè)桶(自動(dòng)切換)、配兩臺(tái)泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動(dòng)化...
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砷化鎵材料國(guó)內(nèi)市場(chǎng)供應(yīng)現(xiàn)狀及主要需求

時(shí)間: 2021-08-06
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1.國(guó)內(nèi)砷化鎵材料發(fā)展現(xiàn)狀

目前中國(guó)的砷化鎵材料生產(chǎn)企業(yè)主要以LED用低阻砷化鎵晶片為代表的低端市場(chǎng)為主,利潤(rùn)率較高的微電子用4-6英寸半絕緣晶片還沒有形成產(chǎn)業(yè)規(guī)模。中國(guó)大陸從事砷化鎵材料研發(fā)與生產(chǎn)的公司主要有:北京通美晶體技術(shù)有限公司(AXT)、中科晶電信息材料(北京)有限公司、天津晶明電子材料有限責(zé)任公司(中電46所)、北京中科鎵英半導(dǎo)體有限公司、北京國(guó)瑞電子材料有限責(zé)任公司、揚(yáng)州中顯機(jī)械有限公司、山東遠(yuǎn)東高科技材料有限公司、大慶佳昌科技有限公司、新鄉(xiāng)神舟晶體科技發(fā)展有限公司(原國(guó)營(yíng)542廠)等九家。

北京通美是美國(guó)AXT獨(dú)資子公司,其資金、管理和技術(shù)實(shí)力在國(guó)內(nèi)砷化鎵材料行業(yè)首屈一指,產(chǎn)品主要以VGF法4、6英寸半絕緣砷化鎵材料為主。其在高純鎵、高純砷、高純鍺以及氮化硼坩堝等方面均有投資,有效地控制了公司成本,2009年銷售收入8?000萬(wàn)美元,短期內(nèi)國(guó)內(nèi)其它各公司還難以和北京通美形成真正的競(jìng)爭(zhēng)。

中科晶電成立于2006年,主要從事VGF砷化鎵單晶生長(zhǎng)和拋光片生產(chǎn),該公司為民營(yíng)企業(yè),總投資為2 500萬(wàn)美元,在高純砷和高純鎵方面也已投資建廠。2009年月產(chǎn)2英寸砷化鎵晶片10萬(wàn)片,2010年月產(chǎn)達(dá)到15萬(wàn)片。該公司是目前國(guó)內(nèi)發(fā)展速度最快的砷化鎵企業(yè)。 ?天津晶明公司成立于2007年,由中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第四十六研究所投資,注冊(cè)資本1400萬(wàn)元,總投入約5 000萬(wàn)元。主要產(chǎn)品為2英寸LED用VB法低阻砷化鎵晶體及拋光片,兼顧少量3~4英寸半絕緣砷化鎵單晶材料。目前擁用LEC單晶爐4臺(tái),VB單晶爐60臺(tái),已建成一條完整的單晶生長(zhǎng)及拋光片加工生產(chǎn)線,目前月產(chǎn)約為3萬(wàn)片。 ?中科鎵英公司成立于2001年,晶體生長(zhǎng)只有兩臺(tái)LEC單晶爐,目前主要在國(guó)內(nèi)購(gòu)買HB或VGF砷化鎵單晶進(jìn)行拋光片加工,銷售對(duì)象主要是國(guó)內(nèi)的LED外延企業(yè),月產(chǎn)約2~3萬(wàn)片。 ?北京國(guó)瑞公司和揚(yáng)州中顯公司主要生產(chǎn)2~2.5英寸HB砷化鎵單晶,山東遠(yuǎn)東公司主要生產(chǎn)2英寸LEC(或稱LEVB)砷化鎵單晶,這三家公司的產(chǎn)品主要針對(duì)LED市場(chǎng),其單晶質(zhì)量、成品率以及整體經(jīng)營(yíng)狀況都很穩(wěn)定。這三家公司目前都沒有晶片加工工序,只能將單晶賣給其它公司進(jìn)行加工。 ?大慶佳昌原主要從事LEC砷化鎵單晶生長(zhǎng),曾生長(zhǎng)出8英寸LEC砷化鎵單晶樣品。2009年?duì)幦〉秸㈨?xiàng)投資1.3億元,轉(zhuǎn)向以VGF工藝生產(chǎn)LED用低阻砷化鎵材料,目前已完成廠房建設(shè)和小試生產(chǎn),其產(chǎn)品定位主要在4英寸市場(chǎng)。

新鄉(xiāng)神舟公司主要從事LEC和HB砷化鎵單晶生長(zhǎng),近期開始進(jìn)行VGF法砷化鎵工藝研究,目前的市場(chǎng)定位還不是很明確,主要以承擔(dān)軍工科研任務(wù)為主。

砷化鎵材料國(guó)內(nèi)市場(chǎng)供應(yīng)現(xiàn)狀及主要需求

2.砷化鎵應(yīng)用領(lǐng)域及市場(chǎng)需求?

2.1砷化鎵應(yīng)用領(lǐng)域概述?

砷化鎵半導(dǎo)體材料與傳統(tǒng)的硅材料相比,它的電子移動(dòng)率約為硅材料的5?.?7?倍,。它具有很高的電子遷移率、寬禁帶、直接帶隙,消耗功率低的特性。因此,廣泛運(yùn)用於高頻及無線通訊(主要為超過1?G?H?z?以上的頻率).適于制做IC?器件。所制出的這種高頻、高速、防輻射的高溫器件,通常應(yīng)用于激光器、無線通信、光纖通信、移動(dòng)通信、GPS?全球?qū)Ш降阮I(lǐng)域。砷化鎵除在I?C?產(chǎn)品應(yīng)用以外,也可加入其它元素改變能帶隙及其產(chǎn)生光電反應(yīng),達(dá)到所對(duì)應(yīng)的光波波長(zhǎng),制作成光電元件。

由此可以看出,砷化鎵材料的應(yīng)用領(lǐng)域主要分為微電子領(lǐng)域和光電子領(lǐng)域。在微電子領(lǐng)域中,使用的化合物半導(dǎo)體材料屬于高端產(chǎn)品,主要用于制作無線通訊(衛(wèi)星通訊、移動(dòng)通訊)、光纖通訊、汽車電子等用的微波器件。在光電子領(lǐng)域中,使用的化合物半導(dǎo)體材料屬于低端產(chǎn)品,主要用于制作發(fā)光二極管、激光器及其它光電子器件。無線通訊、光纖通訊、汽車電子等領(lǐng)域的高速發(fā)展,使得對(duì)砷化鎵器件和電路的需求量急劇增加,進(jìn)而極大地增加了對(duì)半絕緣砷化鎵材料的需求量。作為半絕緣砷化鎵下游產(chǎn)業(yè)的砷化鎵集成電路業(yè)市場(chǎng)平均增長(zhǎng)近年都在40%?以上,盡管砷化鎵分立器件的市場(chǎng)份額在逐步減少,砷化鎵射頻器件市場(chǎng)仍有30%?的年增長(zhǎng),加之衛(wèi)星通訊系統(tǒng)和車載雷達(dá)用砷化鎵單晶的潛在市場(chǎng),半絕緣砷化鎵的需求前景非常看好。

2.2?光通訊市場(chǎng)需求?

光纖通信具有高速、大容量、傳輸業(yè)務(wù)信息多的特點(diǎn),是構(gòu)筑“信息高速公?路”的主干,成為現(xiàn)代信息社會(huì)的支柱產(chǎn)業(yè)。而移動(dòng)通信包括陸基、衛(wèi)星移動(dòng)通信及全球定位系統(tǒng),最終實(shí)現(xiàn)在任意時(shí)間、任意地點(diǎn)與任何通信對(duì)象進(jìn)行通信理想境界,其市場(chǎng)容量十分巨大。光纖通信中,大于2.5G?比特/秒的光通信傳輸系統(tǒng),其光通信收發(fā)系統(tǒng)均需采用?GaAs?超高速專用電路。光通信發(fā)展極為迅速,據(jù)國(guó)外報(bào)道,光纖通信模擬GaAs市場(chǎng)近幾年以年均34%的速度增長(zhǎng),到2004?年增長(zhǎng)到約16.2?億美元的市場(chǎng)規(guī)模,10?Gb/s?設(shè)備已成為最大的市場(chǎng)。在10?Gb/s、40?Gb/s?系統(tǒng)中所用的器件和集成電路,包括激光驅(qū)動(dòng)電路、MUX、DEMUX、跨阻放大器、限譜放大器等,GaAs?材料將占據(jù)重要位置。

2.3無線局域網(wǎng)(WLAN)市場(chǎng)需求?

WLAN?的概念雖提出較早,但由于技術(shù)的障礙一直未得到發(fā)展,直到90?年代初?方獲得較多的關(guān)切,并產(chǎn)生了IEEE802.11?標(biāo)準(zhǔn),頻段為902~928?MHZ,但由于速度僅達(dá)到2Mbps,仍未能受到市場(chǎng)過多賞識(shí),1999?年底,IEEE802.11b?標(biāo)準(zhǔn)提出,頻率提高到2.4~2.48GHZ,速率達(dá)到11Mbps,市場(chǎng)接受程度大大提高。據(jù)ForwordConcepts?報(bào)告,WLAN芯片市場(chǎng)2002年達(dá)3.64億美元。在2.4?GHZ?以下頻率時(shí),使用SiGe?乃至SiBiCMOS?即可,而5GHZ?以上的芯片,則以GaAs?IC?為佳,如:Ratheon、Envara?等公司開發(fā)的芯片均采用GaAs?材料。為盡快滿足WLAN?市場(chǎng)需求,Anadigics?收購(gòu)了RF?Solutions?的GaAs?功放生產(chǎn)線。可見,無線局域網(wǎng)的高端傳輸必然對(duì)CaAs有很大需求。根據(jù)Strategy?Analytics?預(yù)測(cè),在可預(yù)見的將來,數(shù)字有線電視(CATV)服務(wù)將需要基于砷化鎵(GaAs)的高端基礎(chǔ)設(shè)施元器件。到2009?年,以GaAs?為基礎(chǔ)的MMIC?和混合器件將在CATV?基礎(chǔ)設(shè)施市場(chǎng)占據(jù)75%的份額,每年的需求增長(zhǎng)為18%。相比之下,到2009年用于CATV?的半導(dǎo)體市場(chǎng)增長(zhǎng)率僅有3%。北美和亞太地區(qū)將推動(dòng)CATV?基礎(chǔ)設(shè)施增長(zhǎng),占2009?年新數(shù)字有線電視用戶的?89%。這將推動(dòng)CATV?網(wǎng)絡(luò)中system?amplifier?和line?extender?的需求,它們使用混合硅和砷化鎵的部件。據(jù)市場(chǎng)研究公司Strategy?Analytics?發(fā)表的報(bào)告稱,無線局域網(wǎng)GaAs集成電路市場(chǎng)2003年預(yù)計(jì)將增長(zhǎng)139%,到2008?年的混合年平均增長(zhǎng)率將達(dá)到21%。交換機(jī)和電源放大器是GaAs集成電路增長(zhǎng)的主要機(jī)會(huì)。到2008?年,GaAs電源放大器將占1.77億件GaAs集成電路出貨量的67%。因此,Strategy?Analytics預(yù)測(cè),全部無線局域網(wǎng)交換機(jī)集成電路都將使用砷化鎵技術(shù),覆蓋5GHz和2.4Ghz頻率的雙頻段系統(tǒng)每個(gè)系統(tǒng)最多可采用2?個(gè)交換機(jī)。全球5GHz無線局域網(wǎng)運(yùn)營(yíng)的統(tǒng)一以及迅速向采用802.11a/g?組合設(shè)備的雙頻段系統(tǒng)過渡,將促進(jìn)GaAs集成電路市場(chǎng)的增長(zhǎng)。Strategy?Analytics?的高級(jí)分析師Asif?Anwar?在聲明中稱,電源放大器將是這個(gè)市場(chǎng)的亮點(diǎn)。整個(gè)射頻(RF)和與802.11相關(guān)的芯片,包括電源放大器和交換機(jī),在2003年的銷售收入將從2002年的4.87億美元增長(zhǎng)到6.37億美元。到2008年,802.11a/g?雙頻段組合設(shè)備將占整個(gè)出貨量的75%。

2.4汽車電子產(chǎn)品市場(chǎng)需求?

據(jù)統(tǒng)計(jì),我國(guó)每年因交通事故死亡人數(shù)達(dá)九萬(wàn)人,損失愈百億元,已成為工傷?事故的第一殺手。為避免交通事故的發(fā)生,在汽車中安裝防撞雷達(dá)已成必然趨勢(shì)。?汽車防撞雷達(dá)一般采用毫米波段,在這些波段范圍內(nèi),最適合的器件是GaAs?IC。?可以看出,隨著技術(shù)的成熟、成本的降低,汽車防撞雷達(dá)由豪華轎車向大量生產(chǎn)的中、低檔轎車發(fā)展,乃是必然趨勢(shì)。一旦GaAs?器件進(jìn)入量產(chǎn)的汽車領(lǐng)域,市場(chǎng)前景不可限量。鑒于此,GaAs?業(yè)界和汽車業(yè)界的大批廠家已涉足于此。法國(guó)汽車零件制造商Valeo?就曾同GaAs?IC生產(chǎn)廠商Raytheon?表示將合作生產(chǎn)雷達(dá)設(shè)備。?

2.5軍事電子產(chǎn)品市場(chǎng)需求?

軍事應(yīng)用是GaAs?材料的傳統(tǒng)領(lǐng)域。GaAs?工業(yè)能發(fā)展到今天的程度,首先應(yīng)歸?功于早期軍事應(yīng)用的需求牽引。近年來,隨著移動(dòng)通訊的迅速發(fā)展,民用占整個(gè)?GaAs?市場(chǎng)的份額已遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過軍用,但軍用市場(chǎng)仍然是一個(gè)重要領(lǐng)域。第一次海灣戰(zhàn)爭(zhēng)中,伊拉克的蘇制雷達(dá)完全被美軍雷達(dá)所屏蔽,在信息戰(zhàn)中處于絕對(duì)被動(dòng)位置,戰(zhàn)斗力大打折扣,曾被稱為“一場(chǎng)GaAs戰(zhàn)勝Si”的戰(zhàn)爭(zhēng)。自MIMIC?計(jì)劃開始,美軍在多種戰(zhàn)術(shù)武器中開始裝備采用GaAs?IC?的設(shè)備,如主力戰(zhàn)機(jī)中裝載GaAs?MMIC?相控陣?yán)走_(dá),電子戰(zhàn)設(shè)備采用GaAs?器件,多種導(dǎo)彈中裝載GaAs?引信等。在最近的伊拉克戰(zhàn)爭(zhēng)中,美軍數(shù)字化部隊(duì)的出現(xiàn),表明其GaAs?設(shè)備(如:GPS)裝備部隊(duì)的進(jìn)程加快。隨著這種樣板部隊(duì)的普及,對(duì)GaAs?IC?的需求必將大增。而且,相對(duì)于民用來說,軍用市場(chǎng)相對(duì)可以承受較高的價(jià)格,這也是?2001?年整個(gè)GaAs?市場(chǎng)不景氣時(shí),主要占據(jù)軍用市場(chǎng)的幾家美國(guó)GaAs?IC?公司效益仍然較好的原因。?

2.6砷化鎵在LED方面的需求市場(chǎng)?

發(fā)光二極管(Light?Emitting?Diode;?LED)是半導(dǎo)體材料制成的組件,也是一種微細(xì)的固態(tài)光源,可將電能轉(zhuǎn)換為光,不但體積小,且壽命長(zhǎng)、驅(qū)動(dòng)電壓低、反應(yīng)速率快、耐震性特佳,能夠配合各種應(yīng)用設(shè)備的輕、薄及小型化之需求,早已成為日常生活中十分普及的產(chǎn)品。LED?的種類繁多,依發(fā)光波長(zhǎng)大致分為可見光與不可見光兩類??梢姽釲ED?主要以顯示用途為主,又以?亮度1?燭光(cd)作為一般LED?和高亮度LED?之分界點(diǎn),前者廣泛應(yīng)用于各種室內(nèi)顯示用途,后者則適合于戶外顯示,如汽車煞車燈、戶外信息廣告牌和交通標(biāo)志等;不可見光如紅外線LED?則應(yīng)用在影印紙張尺寸檢知、家電用品遙控器、工廠自動(dòng)檢測(cè)、自動(dòng)門、自動(dòng)沖水裝置控制等等。LED?組件在量產(chǎn)過程中,通常依上、中、下游分工。上游主要產(chǎn)品為單芯片及磊芯片,單芯片是原材料的基板,大多為二元的III-V?族化合物半導(dǎo)體材料,如砷化鎵(GaAs)或磷化鎵(GaP)等;磊芯片則已在單晶基板上成長(zhǎng)多層不同厚度之多元材料的單晶薄膜,如AlxGa1-xAs/GaAsAlxGayIn1-x-yP/GaAs、InxGa1-xN/GaN?等結(jié)構(gòu),常用的技術(shù)有液相外延生成長(zhǎng)法(Liquid?Phase?Epitaxy,LPE)及有機(jī)金屬氣相外延生成長(zhǎng)法(Metal?Organic?Vapor?Phase?Epitaxy,MOVPE)等。中游業(yè)者依組件結(jié)構(gòu)之需求,先在磊芯片上蝕刻及制作電極,再切割為微細(xì)的LED?晶粒,其中使用的制程技術(shù)有:光罩、干或濕式蝕刻、真空蒸鍍及晶粒切割等;下游則屬封裝業(yè),將晶粒黏著在導(dǎo)線架,再封裝成燈泡型(Lamp)、數(shù)字顯示型(digit?display)、點(diǎn)矩陣型(dot?matrix)或表面黏著型(surface?mount)等成品。發(fā)光二極管系利用各種化合物半導(dǎo)體材料及組件結(jié)構(gòu)的變化,設(shè)計(jì)出紅、橙、黃、綠、藍(lán)、紫等各顏色,以及紅外、紫外等不可見光LED。

3?.我國(guó)砷化鎵材料發(fā)展趨勢(shì)?

我國(guó)的砷化鎵材料行業(yè),雖然受到國(guó)家的高度重視,但由于投資強(qiáng)度不足且分散,研究基礎(chǔ)一直比較薄弱,發(fā)展速度緩慢。只是近幾年由于半導(dǎo)體照明產(chǎn)業(yè)的拉動(dòng)作用,部分民營(yíng)企業(yè)開始涉足這個(gè)行業(yè),發(fā)展速度有所加快,但也僅限于LED用的低端砷化鎵材料,集成電路和功率器件用的大直徑半絕緣砷化鎵材料還是掌握在少數(shù)國(guó)際大公司手中,國(guó)內(nèi)所用的4-6英寸半絕緣砷化鎵晶片仍然基本全部依賴進(jìn)口。

目前,國(guó)內(nèi)的半絕緣砷化鎵材料,在常規(guī)電學(xué)指標(biāo)上與國(guó)外水平大體相當(dāng),但是材料的微區(qū)特性、晶片精密加工和超凈清洗封裝方面與國(guó)外差距很大。由于現(xiàn)在國(guó)內(nèi)正處在從多研少產(chǎn)向批量生產(chǎn)過渡的階段,正在逐步解決材料的電學(xué)性能均勻性差、批次間重復(fù)性差等問題,缺乏材料和典型器件關(guān)系驗(yàn)證。另外關(guān)鍵設(shè)備落后也是造成上述局面的原因之一。?

我國(guó)砷化鎵材料發(fā)展趨勢(shì)將主要體現(xiàn)在以下幾個(gè)方面:?

①?增大晶體直徑,目前發(fā)達(dá)國(guó)家6英寸的半絕緣砷化鎵產(chǎn)品已經(jīng)商用化,國(guó)內(nèi)4英寸產(chǎn)品還沒有實(shí)現(xiàn)商用,這方面差距還比較大;?

②?降低單晶的缺陷密度,特別是位錯(cuò),提高材料的電學(xué)和光學(xué)微區(qū)均勻性;?

③?提高拋光片的表面質(zhì)量,針對(duì)MOCVD和MBE外延需求,提供“開盒即用”(Epi-ready)產(chǎn)品;?

④?研發(fā)具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的新工藝,近年國(guó)內(nèi)外VGF砷化鎵生長(zhǎng)技術(shù)發(fā)展很快,已經(jīng)成為砷化鎵材料主流技術(shù),但核心技術(shù)仍掌握在少數(shù)國(guó)際大公司手中,應(yīng)在VGF設(shè)備和工藝方面加大投入力度。

注意:此處包含的信息、建議和意見僅供參考,僅供您考慮、查詢和驗(yàn)證。不以任何方式保證任何材料在特定應(yīng)用條件下的適用性。華林科納CSE對(duì)以任何形式、任何情況、任何應(yīng)用、測(cè)試或交流使用此處提供的數(shù)據(jù)不承擔(dān)任何法律責(zé)任。此處包含的任何內(nèi)容均不得解釋為在任何專利下運(yùn)營(yíng)或侵犯任何專利的許可或授權(quán)。

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