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濕法制程整體解決方案提供商

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發(fā)布時(shí)間: 2017 - 12 - 06
在LED外延及芯片制造領(lǐng)域,濕法設(shè)備占據(jù)約40%以上的工藝,隨著工藝技術(shù)的不斷發(fā)展,濕法設(shè)備已經(jīng)成為LED外延及芯片制造領(lǐng)域的關(guān)鍵設(shè)備,如SPM酸清洗、有機(jī)清洗、顯影、去膠、ITO蝕刻、BOE蝕刻、PSS高溫側(cè)腐、下蠟、勻膠、甩干、掩膜版清洗等。華林科納(江蘇)CSE深入研究LED生產(chǎn)工藝,現(xiàn)已形成可滿足LED產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目需求的全自動(dòng)濕法工藝標(biāo)準(zhǔn)成套設(shè)備。 LED 芯片的制造工藝流程為:外延片→清洗→鍍透明電極層→透明電極圖形光刻→腐蝕→去膠→平臺(tái)圖形光刻→干法刻蝕→去膠→退火→SiO2 沉積→窗口圖形光刻→SiO2腐蝕→去膠→N極圖形光刻→預(yù)清洗→鍍膜→剝離→退火→P 極圖形光刻→鍍膜→剝離→研磨→切割→芯片→成品測試。 CSE-外延片清洗機(jī)設(shè)備 設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-外延片清洗機(jī)設(shè)備可處理晶圓尺寸2”-12”可處理晶圓材料硅、砷化鎵、磷化銦、氮化鎵、碳化硅、鈮酸鋰、鉭酸鋰等應(yīng)用領(lǐng)域集成電路、聲表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先進(jìn)封裝等專有技術(shù)系統(tǒng)潔凈性技術(shù)均勻性技術(shù)晶圓片N2干燥技術(shù)模塊化系統(tǒng)集成技術(shù)自動(dòng)傳輸及精確控制技術(shù)溶液溫度、流量和壓力的精確控制技術(shù)主要技術(shù)特點(diǎn)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)緊湊、安全腔體獨(dú)立密封,具有多種功能可實(shí)現(xiàn)晶圓干進(jìn)干出采用工控機(jī)控制,功能強(qiáng)大,操作簡便可根據(jù)用戶要求提供個(gè)性化解決方案設(shè)備制造商華林科納(江蘇)半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 regal-bio.cn 400-8768-096 ;18915583058更多的外延片清洗設(shè)備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(regal-bio.cn),現(xiàn)在熱線咨詢400-8798-096可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體行業(yè)相關(guān)清洗設(shè)備解決方案。
發(fā)布時(shí)間: 2017 - 12 - 06
旋轉(zhuǎn)式噴鍍臺(tái)結(jié)合微組裝工藝對(duì)鍍制工藝的小批量、多規(guī)格和特殊應(yīng)用要求等特點(diǎn),在6" (150mm)晶圓電鍍系統(tǒng)中采用了傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍單元分由兩個(gè)部分組成,一為陰極夾具、旋轉(zhuǎn)單元、導(dǎo)線電刷、N2 保護(hù)單元組成的陰極回轉(zhuǎn)體,二為三角形槽體、陽極和電力線擋板組成的陽極腔。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍結(jié)構(gòu)示意圖如下:從鍍制結(jié)構(gòu)方式、鍍制工藝應(yīng)用分析可以看出,采用傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍有以下幾種優(yōu)勢。一是這種結(jié)構(gòu)方式易實(shí)現(xiàn)槽體密封和附加N2 保護(hù)功能。二是在這種鍍制工藝中,陰極的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)使槽內(nèi)電場不均問題得以解決,從而提高了鍍制的均勻性。三是呈45°傾斜加陰極旋轉(zhuǎn)的方式,可以較容易的祛除晶圓表面的氣泡附著及“產(chǎn)生”氣泡的消除。四是采用了多微孔進(jìn)行鍍液噴射,實(shí)現(xiàn)攪拌功能,消除局部PH值、溫度、離子濃度等不均勻帶來的影響。五是采用三角形鍍槽設(shè)計(jì)最大限度的減少了鍍液的消耗。六是該鍍制結(jié)構(gòu)方式可以滿足多品種、小批量、低成本的生產(chǎn)需求。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)、工藝優(yōu)勢斜式三角鍍槽結(jié)構(gòu)本系統(tǒng)采用傾斜式三角形鍍槽結(jié)構(gòu),鍍槽入口溢流口均與三角形斜邊平行,可得到穩(wěn)定且不易積累氣泡的流場環(huán)境。通過進(jìn)行相關(guān)模擬、仿真和驗(yàn)證,鍍液入口采用扇形噴咀式結(jié)構(gòu),可保證鍍液在平行于陰極表面方向上形成均勻而穩(wěn)定的流場。從而通過改變流場的方法改善了鍍層的均勻性。該結(jié)構(gòu)的另一優(yōu)點(diǎn)可使電鍍液的用量減至最少程度。 華林科納(江蘇)CSE采用傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍方法進(jìn)行晶圓電鍍工藝處理,由于結(jié)構(gòu)上的特點(diǎn),該方法經(jīng)實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證具有:①結(jié)構(gòu)簡單;②工藝參數(shù)控制容易;③有利氣泡的消除;④鍍制均勻性得到提高;⑤鍍制溶液用量少。該方法尤其適應(yīng)于小批量、多規(guī)格的電鍍工藝,同時(shí)可以取得較好的鍍制均勻性。圖6為我們所研制的150mm晶圓傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍系統(tǒng),目前已批量生產(chǎn)并在工藝線上得到較好的應(yīng)用,產(chǎn)品已通過技術(shù)定型鑒定和用戶驗(yàn)收。實(shí)現(xiàn)的主要工藝指標(biāo):最...
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 06 - 22
雙腔甩干機(jī)1. 應(yīng)用范圍:l 本機(jī)臺(tái)適用於半導(dǎo)體2”4”6”8”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 設(shè)備為垂直式雙槽體機(jī)臺(tái),可同Run 50片.l 可對(duì)旋乾步驟進(jìn)行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設(shè)備已超過20年以上的應(yīng)用馬達(dá)控制系統(tǒng)設(shè)計(jì), 高穩(wěn)定度Rotor 設(shè)計(jì), 震動(dòng)值均控制於300 um 以下.l 高潔淨(jìng)設(shè)計(jì),微塵控制於每次運(yùn)轉(zhuǎn)增加量, 0.3um , 30顆以下.   2. 操作流程3. 圖示 4. 規(guī)格l 機(jī)臺(tái)內(nèi)皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達(dá): DC無刷馬達(dá)750Wl 真空負(fù)壓軸封設(shè)計(jì),隔離槽外污染l 不銹鋼N2過濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測保護(hù)(加熱器空燒保護(hù))l 槽外貼Silicon材質(zhì)加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開關(guān)90°C OFF 70°C ON)l  Viton材質(zhì)充氣式氣囊及槽後密封環(huán),保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經(jīng)拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉(zhuǎn)子,並按客戶需求指定使用訂做l 轉(zhuǎn)子經(jīng)拋光及電解研磨,並做動(dòng)態(tài)平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂故障碼功能: 門鎖警告,氣體不足,傳動(dòng)異常警告 5. 電控系統(tǒng)l  控制器操作介面: 7”記憶人機(jī)+ PLC可程式自動(dòng)化控制器(人機(jī) Touch Screen,整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲(chǔ)存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/,皆可從操作螢?zāi)簧闲薷摹?#216; 儲(chǔ)存能力記憶模組...
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 03 - 07
枚葉式清洗機(jī)-華林科納CSE華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-單片枚葉式洗凈裝置的特長:單片式清洗裝置的優(yōu)點(diǎn)(與浸漬.槽式比較)1.晶片表面的微粒數(shù)非常少(到25nm可對(duì)應(yīng))例:附著粒子數(shù)…10個(gè)/W以下(0.08UM以上粒子)(參考)槽式200個(gè)/W2.藥液純水的消費(fèi)量少藥液…(例)1%DHF的情況  20L/日純水...每處理一枚晶片0.5-1L/分3.小裝置size(根據(jù)每個(gè)客戶可以定制) 液體濺射(塵埃強(qiáng)制除去)  (推薦)清洗方法單片式裝置的Particle再附著問題   更多的半導(dǎo)體單片枚葉式濕法腐蝕清洗設(shè)備相關(guān)信息可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(www.hlkncas.com),現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096;18913575037可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體清洗解決方案。
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 03 - 07
自動(dòng)供酸系統(tǒng)(CDS)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-CDS自動(dòng)供酸系統(tǒng) 適用對(duì)象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進(jìn)行配送,經(jīng)管道至設(shè)備;具有自動(dòng)化程度高,配比精確,操作簡便等特點(diǎn);具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩?dòng)控制模式、自動(dòng)控制模式設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-CDS自動(dòng)供酸系統(tǒng)設(shè)備型號(hào)CSE-CDS-N1507設(shè)計(jì)基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房內(nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房;3. 設(shè)備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運(yùn)送到制程使用點(diǎn);5. 過濾器:配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學(xué)液體配有兩臺(tái)或者一臺(tái) PTFE材質(zhì)的進(jìn)口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān);8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報(bào)功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能:每種化學(xué)液體配兩個(gè)桶(自動(dòng)切換)、配兩臺(tái)泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動(dòng)化與親和力。在...
發(fā)布時(shí)間: 2018 - 01 - 23
單片清洗機(jī)-華林科納CSESingle wafer cleaner system華林科納(江蘇)CSE-自動(dòng)單片式腐蝕清洗機(jī)應(yīng)用于清洗(包括光刻板清洗)刻蝕 去膠 金屬剝離等;可處理晶圓尺寸2'-12';可處理晶圓材料:硅 砷化鎵 磷化銦 氮化鎵 碳化硅 鈮酸鋰 鉭酸鋰等;主要應(yīng)用領(lǐng)域:集成電路   聲表面波器件  微波毫米波器件  MEMS  先進(jìn)封裝等  設(shè) 備 名 稱CSE-單片清洗機(jī)類  型單片式適 用 領(lǐng) 域半導(dǎo)體、太陽能、液晶、MEMS等清 洗 方 式2英寸——12英寸設(shè)備穩(wěn)定性1、≥0.2um顆粒少于10顆2、金屬附著量:3E10 atoms/ cm²3、純水消耗量:1L/min/片4、蝕刻均一性良好(SiO?氧化膜被稀釋HF處理):≤2%5、干燥時(shí)間:≤20S6、藥液回收率:>95%單片式優(yōu)點(diǎn)1、單片處理時(shí)間短(相較于槽式清洗機(jī))2、節(jié)約成本(藥液循環(huán)利用,消耗量遠(yuǎn)低于槽式)3、良品率高4、有效避免邊緣再附著5、立體層疊式結(jié)構(gòu),占地面積小 更多的單片(枚葉)式清洗相關(guān)設(shè)備可以關(guān)注華林科納(江蘇)半導(dǎo)體官網(wǎng),關(guān)注http://regal-bio.cn ,400-8768-096,18913575037
發(fā)布時(shí)間: 2017 - 12 - 06
氫氟酸HF自動(dòng)供液系統(tǒng)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-氫氟酸供液系統(tǒng) 適用對(duì)象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進(jìn)行配送,經(jīng)管道至設(shè)備;具有自動(dòng)化程度高,配比精確,操作簡便等特點(diǎn);具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩?dòng)控制模式、自動(dòng)控制模式 設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-氫氟酸(HF)供液系統(tǒng)設(shè)備型號(hào)CSE-CDS-N2601設(shè)計(jì)基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房內(nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房;3. 設(shè)備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運(yùn)送到制程使用點(diǎn);5. 過濾器:配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學(xué)液體配有兩臺(tái)或者一臺(tái) PTFE材質(zhì)的進(jìn)口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān);8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報(bào)功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能:每種化學(xué)液體配兩個(gè)桶(自動(dòng)切換)、配兩臺(tái)泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動(dòng)化...
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CSE-IPA清洗工藝原理

時(shí)間: 2020-05-08
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超聲波清洗技術(shù)的基本原理,大致可以認(rèn)為是利用超聲場產(chǎn)生的巨大作用力,在洗滌介質(zhì)的配合下,促使物質(zhì)發(fā)生一系列物理、化學(xué)變化以達(dá)到清洗目的的方法。當(dāng)高于音波28~ 40KHz)的高頻振動(dòng)傳給清洗介質(zhì)后,液體介質(zhì)在高頻振動(dòng)下產(chǎn)生近乎真空的空腔泡,空腔泡在相互間的碰撞、合并、消亡的過程中,可使液體局部瞬間產(chǎn)生幾千大氣壓的壓強(qiáng),如此大的壓強(qiáng)使得周圍的物質(zhì)發(fā)生一系列物理、化學(xué)變化。這種作用稱為“空化作用”:

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1.?空化作用可使物質(zhì)分子的化池鍵斷裂,引起各種物理變化溶解、吸附、乳化、分散化學(xué)變化(氧化、還原、分解、化合)等;

2.?當(dāng)空腔泡的固有頻率和超聲頻率相等時(shí),可產(chǎn)生共振,共振的空腔泡內(nèi)聚集了大量的熱能, 這種熱能足以使周圍物質(zhì)化學(xué)鍵斷裂而引起物理、化學(xué)變化。

3.?當(dāng)空腔泡形成時(shí),兩泡壁間因產(chǎn)生極大的電位差而引起放電,致使腔內(nèi)氣泡活化進(jìn)而引起周圍物質(zhì)的活化,從而使物質(zhì)發(fā)生物理、化學(xué)變化。

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超聲場為清洗提供了巨大的能量,但還需化學(xué)洗劑作為介質(zhì)。一般將化學(xué)洗劑分為兩類,一類是有機(jī)溶劑,主要是根據(jù)相似相溶的化學(xué)原理,對(duì)有機(jī)物如:黏結(jié)劑(瀝青、松香等)、保護(hù)性材料瀝青、樹脂等、磨邊潤滑油進(jìn)行溶解。在光學(xué)洗凈中,最初用三氯乙烯、芳香烴、氟里昂等作為清洗劑,這類物質(zhì)雖然溶解性強(qiáng),但有的易揮發(fā),毒性大,有的對(duì)大氣臭氧層有破壞作用,被逐步禁用?,F(xiàn)國內(nèi)多采用一些上述物質(zhì)的改進(jìn)產(chǎn)品或某些碳?xì)浠衔?/span>做溶劑。目前使用較多的另一類清洗劑是以表面活性劑為主要成分的水基清洗劑,其清洗原理簡單地說是由于表面活性劑的分子結(jié)構(gòu)中同時(shí)含有親油基的親水基,具有極性和結(jié)構(gòu)不對(duì)稱的特點(diǎn)。正是這種特點(diǎn)使得它能極大降低水溶液的表面張力,使物體表面易于潤濕,表面污物易于被溶解,分散在清洗液中而達(dá)到洗滌的目的。

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超聲波清洗就是在液體清洗介質(zhì)中,利用超聲場產(chǎn)生的巨大能量,通過物理、化學(xué)的綜合作用而達(dá)到洗凈目的的一種洗凈手段。

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那么,在光學(xué)冷加工中,超聲波清洗是如何實(shí)現(xiàn)洗凈目的的呢?一般來說,清洗工藝主要以干燥的方式命名,如 IPA?工藝,是指利用 IPA(異丙醇蒸汽進(jìn)行脫水干燥的清洗工藝, 純水工藝是指利用熱純水慢提拉或冷純水甩干的方式進(jìn)行干燥的清洗工藝。當(dāng)然,還有其他的命名方式。經(jīng)過不斷的變化、發(fā)展,光學(xué)冷加工中的清洗工藝主要以 IPA?工藝和純水工藝為主。

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IPA 工藝包括四個(gè)流程:洗滌、漂洗、脫水、干燥。

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因?yàn)橄礈爝^程分溶劑清洗和水基清洗,所以有不同的工藝:有先進(jìn)行溶劑清洗、溶劑蒸汽干燥再進(jìn)行水基清洗;也有先進(jìn)行溶劑清洗,再用乳化劑溶解溶劑,再進(jìn)行水基清洗的。顯然, 后者在流程上更流暢、緊湊,對(duì)設(shè)備要求也簡單。經(jīng)過洗滌后的鏡片表面不會(huì)有結(jié)合牢固的污垢,僅可能有一些清洗劑和松散污垢的混合物。


我們知道,無機(jī)光學(xué)玻璃是一種過冷的熔融態(tài)物質(zhì),沒有固定的分子結(jié)構(gòu),它的結(jié)構(gòu)式可描述為二氧化硅和某些金屬氧化物形成的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)。其骨架結(jié)構(gòu)為鍵能很大的硅氧共價(jià)鍵,外圍是鍵能小、易斷裂的氧與金屬離子形成的離子鍵。在洗滌時(shí),由于超聲場和化學(xué)洗劑的共同作用,某些硅氧鍵含量少或者外圍鍵能特別小的的材料易于在清洗過程中發(fā)生變化而導(dǎo)致洗滌效果不良。所以,選擇性能溫和的洗劑、合適的洗劑濃度、溫度、超聲功率、洗滌時(shí)間對(duì)保證鏡片的清洗質(zhì)量十分重要。

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利用流水將洗滌后鏡片表面的洗劑和污物溶解、排除的過程稱為漂洗。影響漂洗效果的因素有以下幾個(gè):洗劑的漂清性能,漂洗水的純度、溫度以及流動(dòng)性、超聲波頻率等。一般在 40KHz?時(shí),在常溫下,電導(dǎo)率為 0.1μs/m?的純水可以保證漂洗的要求。

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經(jīng)過漂洗后的鏡片表面的潔凈度應(yīng)和漂洗水潔凈度一致。當(dāng)它進(jìn)入 IPA?后,雖然 IPA 能和純水進(jìn)行無限度的相混溶,但在超聲波的作用下,這種混溶能進(jìn)行得更快速、徹底,從而使得鏡片表面的狀態(tài)和混溶后 IPA?相同。這一過程稱為脫水。所以影響脫水的主要因素是IPA?的純度、超聲波頻率、脫水時(shí)間。一般 IPA?的最低濃度要高于 97%。

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脫水后的鏡片進(jìn)入 IPA?蒸汽槽干燥。蒸汽槽的結(jié)構(gòu)大體如下:槽體下部為 IPA?液體, 四周是高沸點(diǎn)油加熱腔,上部是由若干圈冷凝管圍繞成的冷凝區(qū),冷凝管內(nèi)是由冷水機(jī)提供的循環(huán)冷水,鏡片由鏈條驅(qū)動(dòng)的托架帶動(dòng)在干燥槽內(nèi)運(yùn)行。干燥的原理及過程如下:蒸汽槽IPA?在高溫油的加熱下沸騰,蒸汽向上進(jìn)入冷凝區(qū),在冷凝區(qū)形成濃度、溫度相對(duì)穩(wěn)定的蒸汽區(qū),脫水后表面附有液體 IPA?的鏡片進(jìn)入蒸汽區(qū)時(shí),蒸汽區(qū)的蒸汽在低溫的鏡片表面冷凝液化,沖刷鏡片表面,如同“淋浴“,當(dāng)鏡片表面溫度和蒸汽溫度相同時(shí),已不再附有液態(tài)IPA,而全轉(zhuǎn)化為 IPA。此時(shí),鏡片在托架的帶動(dòng)下上升回到冷凝區(qū),在這一過程中,由于溫度的漸低,鏡片表面 IPA?蒸汽冷凝液化,液化的 IPA?一部分在表面張力和重力的作用下離開鏡片,一部分在夾具散熱時(shí)揮發(fā)離開鏡片表面,經(jīng)以上過程后,鏡片表面得到干燥。由此可見,影響干燥的因素很多:IPA?的純度、干燥位置、鏈條的提升速度、冷水機(jī)的水溫、冷凝行程的長短、干燥時(shí)間、夾具材料、形狀的選用等等。

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以上是 IPA?工藝的四個(gè)流程簡介,純水工藝由三個(gè)流程組成:洗滌、漂洗、干燥。洗滌和漂洗與 IPA?工藝相同,不再重復(fù)。區(qū)別在于干燥。干燥分兩種情況,熱純水慢提拉和冷純水甩干。

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電阻率大于 15MΩ·M?純水在某一高溫下,表面張力能達(dá)到最大,漂洗后的鏡片浸入其中,表面不被潤濕,在傾斜慢提拉離開時(shí),由于極大的表面張力。純水迅速在表面收縮成球形離開鏡片,脫水后的鏡片在過濾的熱風(fēng)下而達(dá)到干燥。所以,水的純度、溫度、慢提拉速度、工件的傾斜度、熱風(fēng)的潔凈度對(duì)干燥的影響非常大。冷純水甩干的工藝很簡單:經(jīng)過純水漂洗后的鏡片放入離心甩干機(jī)中,在工件取得平衡時(shí),啟動(dòng)甩干機(jī),利用離心分離的原理將鏡片表面的純水分離達(dá)到干燥,對(duì)要求不高的鏡片能取得滿意效果,且能節(jié)省 IPA?和場地。但對(duì)甩干機(jī)的平衡性能要求很高。

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以上是華林科納(江蘇)對(duì)光學(xué)冷加工中超聲波清洗工藝的一些簡介,實(shí)現(xiàn)工藝的載體是設(shè)備,一臺(tái)設(shè)計(jì)合理、性能穩(wěn)定的超聲波清洗機(jī)能充分發(fā)揮超聲波清洗工藝的特長。


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