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一.簡(jiǎn)介
??兆聲清洗是運(yùn)用在半導(dǎo)體清洗設(shè)備中的一種比較新穎清洗技術(shù),它不僅保存了超聲波清洗的優(yōu)點(diǎn),而且克服了它的不足,它是由高頻(900khz 可根據(jù)實(shí)際使用來(lái)定)振效應(yīng)并結(jié)合化學(xué)清洗劑的化學(xué)反應(yīng)對(duì)硅片進(jìn)行清洗的。在清洗時(shí),由換能器發(fā)出波長(zhǎng)為1μm頻率為0.8兆赫的高能聲波。溶液分子在這種聲波的推動(dòng)下作加速運(yùn)動(dòng),最大瞬時(shí)速度可達(dá)到30cm/s。因此,形成不了超聲波清洗那樣的氣泡,而只能以高速的流體波連續(xù)沖擊晶片表面,使硅片表面附著的污染物的細(xì)小微粒被強(qiáng)制除去并進(jìn)入到清洗液中。
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二.作用
兆聲波清洗可去掉硅片表面上小于0.2μm的粒子,起到超聲波起不到的作用。這種方法能同時(shí)起到機(jī)械擦片和化學(xué)清洗兩種方法的作用。目前兆聲波清洗方法已成為拋光片清洗的一種有效方法。
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三.結(jié)構(gòu)
兆聲波清洗的結(jié)構(gòu)主要可以分為放著清洗晶片的石英槽體、保證在清洗過(guò)程溫度穩(wěn)定的溢流外槽、產(chǎn)生兆聲波的兆聲振盒及其發(fā)生器、保證清洗槽體內(nèi)溫度的在線加熱和根據(jù)設(shè)備使用中是否需要的自動(dòng)供酸系統(tǒng),是否有其他結(jié)構(gòu)可根據(jù)實(shí)際使用來(lái)進(jìn)行添加。
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四.使用原理
??兆聲波清洗機(jī)是用在硅片清洗中的一種清洗技術(shù),使用時(shí)首先要把清洗槽體和在線加熱內(nèi)注入適當(dāng)?shù)那逑吹囊后w,注入的的方法可根據(jù)廠方的注液方式分為手動(dòng)上液和自動(dòng)上液,上液完成之后打開(kāi)在線加熱,使溫度達(dá)到使用溫度,溫度達(dá)到時(shí)要打開(kāi)下部溢流槽的溢流閥門(mén),溢流閥門(mén)的流量可使用溢流上水管路上面的手閥來(lái)調(diào)節(jié)流量的大小,在溢流槽達(dá)到使用的液位要求時(shí),就可以打開(kāi)兆聲開(kāi)關(guān),然后把要清洗的硅片放入石英槽體內(nèi),清洗的時(shí)間根據(jù)不同的硅片和不同的工藝來(lái)決定,以上的預(yù)清洗過(guò)程正常都可以使用自動(dòng)程序?qū)崿F(xiàn)完成。
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本文關(guān)鍵詞:兆聲清洗機(jī); 兆聲清洗; 半導(dǎo)體清洗設(shè)備; 溢流槽 石英槽?
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