久久国产亚洲精品超热碰_日本福利在线观看_亚洲AV永久无码5G_女生私密在线一区二区_国产精品视频大全_三级国产亚洲_无码人妻中文二区_岳装睡到我房间和我做_影音先锋精品网址_黄色污污视频网站

歡迎訪問華林科納(江蘇)半導體設(shè)備技術(shù)有限公司官網(wǎng)
手機網(wǎng)站
始于90年代末

濕法制程整體解決方案提供商

--- 全國服務熱線 --- 0513-87733829
 
 
 
新聞資訊 新聞中心
400-8798-096
聯(lián)系電話
聯(lián)系我們
掃一掃
QQ客服
SKYPE客服
旺旺客服
新浪微博
分享到豆瓣
推薦產(chǎn)品 / 產(chǎn)品中心
發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
在LED外延及芯片制造領(lǐng)域,濕法設(shè)備占據(jù)約40%以上的工藝,隨著工藝技術(shù)的不斷發(fā)展,濕法設(shè)備已經(jīng)成為LED外延及芯片制造領(lǐng)域的關(guān)鍵設(shè)備,如SPM酸清洗、有機清洗、顯影、去膠、ITO蝕刻、BOE蝕刻、PSS高溫側(cè)腐、下蠟、勻膠、甩干、掩膜版清洗等。華林科納(江蘇)CSE深入研究LED生產(chǎn)工藝,現(xiàn)已形成可滿足LED產(chǎn)業(yè)化項目需求的全自動濕法工藝標準成套設(shè)備。 LED 芯片的制造工藝流程為:外延片→清洗→鍍透明電極層→透明電極圖形光刻→腐蝕→去膠→平臺圖形光刻→干法刻蝕→去膠→退火→SiO2 沉積→窗口圖形光刻→SiO2腐蝕→去膠→N極圖形光刻→預清洗→鍍膜→剝離→退火→P 極圖形光刻→鍍膜→剝離→研磨→切割→芯片→成品測試。 CSE-外延片清洗機設(shè)備 設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-外延片清洗機設(shè)備可處理晶圓尺寸2”-12”可處理晶圓材料硅、砷化鎵、磷化銦、氮化鎵、碳化硅、鈮酸鋰、鉭酸鋰等應用領(lǐng)域集成電路、聲表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先進封裝等專有技術(shù)系統(tǒng)潔凈性技術(shù)均勻性技術(shù)晶圓片N2干燥技術(shù)模塊化系統(tǒng)集成技術(shù)自動傳輸及精確控制技術(shù)溶液溫度、流量和壓力的精確控制技術(shù)主要技術(shù)特點系統(tǒng)結(jié)構(gòu)緊湊、安全腔體獨立密封,具有多種功能可實現(xiàn)晶圓干進干出采用工控機控制,功能強大,操作簡便可根據(jù)用戶要求提供個性化解決方案設(shè)備制造商華林科納(江蘇)半導體設(shè)備有限公司 regal-bio.cn 400-8768-096 ;18915583058更多的外延片清洗設(shè)備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(regal-bio.cn),現(xiàn)在熱線咨詢400-8798-096可立即獲取免費的半導體行業(yè)相關(guān)清洗設(shè)備解決方案。
發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
旋轉(zhuǎn)式噴鍍臺結(jié)合微組裝工藝對鍍制工藝的小批量、多規(guī)格和特殊應用要求等特點,在6" (150mm)晶圓電鍍系統(tǒng)中采用了傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍單元分由兩個部分組成,一為陰極夾具、旋轉(zhuǎn)單元、導線電刷、N2 保護單元組成的陰極回轉(zhuǎn)體,二為三角形槽體、陽極和電力線擋板組成的陽極腔。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍結(jié)構(gòu)示意圖如下:從鍍制結(jié)構(gòu)方式、鍍制工藝應用分析可以看出,采用傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍有以下幾種優(yōu)勢。一是這種結(jié)構(gòu)方式易實現(xiàn)槽體密封和附加N2 保護功能。二是在這種鍍制工藝中,陰極的旋轉(zhuǎn)運動使槽內(nèi)電場不均問題得以解決,從而提高了鍍制的均勻性。三是呈45°傾斜加陰極旋轉(zhuǎn)的方式,可以較容易的祛除晶圓表面的氣泡附著及“產(chǎn)生”氣泡的消除。四是采用了多微孔進行鍍液噴射,實現(xiàn)攪拌功能,消除局部PH值、溫度、離子濃度等不均勻帶來的影響。五是采用三角形鍍槽設(shè)計最大限度的減少了鍍液的消耗。六是該鍍制結(jié)構(gòu)方式可以滿足多品種、小批量、低成本的生產(chǎn)需求。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)、工藝優(yōu)勢斜式三角鍍槽結(jié)構(gòu)本系統(tǒng)采用傾斜式三角形鍍槽結(jié)構(gòu),鍍槽入口溢流口均與三角形斜邊平行,可得到穩(wěn)定且不易積累氣泡的流場環(huán)境。通過進行相關(guān)模擬、仿真和驗證,鍍液入口采用扇形噴咀式結(jié)構(gòu),可保證鍍液在平行于陰極表面方向上形成均勻而穩(wěn)定的流場。從而通過改變流場的方法改善了鍍層的均勻性。該結(jié)構(gòu)的另一優(yōu)點可使電鍍液的用量減至最少程度。 華林科納(江蘇)CSE采用傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍方法進行晶圓電鍍工藝處理,由于結(jié)構(gòu)上的特點,該方法經(jīng)實驗驗證具有:①結(jié)構(gòu)簡單;②工藝參數(shù)控制容易;③有利氣泡的消除;④鍍制均勻性得到提高;⑤鍍制溶液用量少。該方法尤其適應于小批量、多規(guī)格的電鍍工藝,同時可以取得較好的鍍制均勻性。圖6為我們所研制的150mm晶圓傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍系統(tǒng),目前已批量生產(chǎn)并在工藝線上得到較好的應用,產(chǎn)品已通過技術(shù)定型鑒定和用戶驗收。實現(xiàn)的主要工藝指標:最...
發(fā)布時間: 2016 - 06 - 22
雙腔甩干機1. 應用范圍:l 本機臺適用於半導體2”4”6”8”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 設(shè)備為垂直式雙槽體機臺,可同Run 50片.l 可對旋乾步驟進行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設(shè)備已超過20年以上的應用馬達控制系統(tǒng)設(shè)計, 高穩(wěn)定度Rotor 設(shè)計, 震動值均控制於300 um 以下.l 高潔淨設(shè)計,微塵控制於每次運轉(zhuǎn)增加量, 0.3um , 30顆以下.   2. 操作流程3. 圖示 4. 規(guī)格l 機臺內(nèi)皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達: DC無刷馬達750Wl 真空負壓軸封設(shè)計,隔離槽外污染l 不銹鋼N2過濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測保護(加熱器空燒保護)l 槽外貼Silicon材質(zhì)加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開關(guān)90°C OFF 70°C ON)l  Viton材質(zhì)充氣式氣囊及槽後密封環(huán),保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經(jīng)拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉(zhuǎn)子,並按客戶需求指定使用訂做l 轉(zhuǎn)子經(jīng)拋光及電解研磨,並做動態(tài)平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂故障碼功能: 門鎖警告,氣體不足,傳動異常警告 5. 電控系統(tǒng)l  控制器操作介面: 7”記憶人機+ PLC可程式自動化控制器(人機 Touch Screen,整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/,皆可從操作螢幕上修改。Ø 儲存能力記憶模組...
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 07
枚葉式清洗機-華林科納CSE華林科納(江蘇)半導體CSE-單片枚葉式洗凈裝置的特長:單片式清洗裝置的優(yōu)點(與浸漬.槽式比較)1.晶片表面的微粒數(shù)非常少(到25nm可對應)例:附著粒子數(shù)…10個/W以下(0.08UM以上粒子)(參考)槽式200個/W2.藥液純水的消費量少藥液…(例)1%DHF的情況  20L/日純水...每處理一枚晶片0.5-1L/分3.小裝置size(根據(jù)每個客戶可以定制) 液體濺射(塵埃強制除去)  (推薦)清洗方法單片式裝置的Particle再附著問題   更多的半導體單片枚葉式濕法腐蝕清洗設(shè)備相關(guān)信息可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(www.hlkncas.com),現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096;18913575037可立即獲取免費的半導體清洗解決方案。
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 07
自動供酸系統(tǒng)(CDS)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導體CSE-CDS自動供酸系統(tǒng) 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送,經(jīng)管道至設(shè)備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點;具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩涌刂颇J?、自動控制模式設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-CDS自動供酸系統(tǒng)設(shè)備型號CSE-CDS-N1507設(shè)計基準1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設(shè)置于化學房內(nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學房;3. 設(shè)備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點;5. 過濾器:配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質(zhì)的進口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān);8. 所有化學品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能:每種化學液體配兩個桶(自動切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動化與親和力。在...
發(fā)布時間: 2018 - 01 - 23
單片清洗機-華林科納CSESingle wafer cleaner system華林科納(江蘇)CSE-自動單片式腐蝕清洗機應用于清洗(包括光刻板清洗)刻蝕 去膠 金屬剝離等;可處理晶圓尺寸2'-12';可處理晶圓材料:硅 砷化鎵 磷化銦 氮化鎵 碳化硅 鈮酸鋰 鉭酸鋰等;主要應用領(lǐng)域:集成電路   聲表面波器件  微波毫米波器件  MEMS  先進封裝等  設(shè) 備 名 稱CSE-單片清洗機類  型單片式適 用 領(lǐng) 域半導體、太陽能、液晶、MEMS等清 洗 方 式2英寸——12英寸設(shè)備穩(wěn)定性1、≥0.2um顆粒少于10顆2、金屬附著量:3E10 atoms/ cm²3、純水消耗量:1L/min/片4、蝕刻均一性良好(SiO?氧化膜被稀釋HF處理):≤2%5、干燥時間:≤20S6、藥液回收率:>95%單片式優(yōu)點1、單片處理時間短(相較于槽式清洗機)2、節(jié)約成本(藥液循環(huán)利用,消耗量遠低于槽式)3、良品率高4、有效避免邊緣再附著5、立體層疊式結(jié)構(gòu),占地面積小 更多的單片(枚葉)式清洗相關(guān)設(shè)備可以關(guān)注華林科納(江蘇)半導體官網(wǎng),關(guān)注http://regal-bio.cn ,400-8768-096,18913575037
發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
氫氟酸HF自動供液系統(tǒng)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導體CSE-氫氟酸供液系統(tǒng) 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送,經(jīng)管道至設(shè)備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點;具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩涌刂颇J健⒆詣涌刂颇J?#160;設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-氫氟酸(HF)供液系統(tǒng)設(shè)備型號CSE-CDS-N2601設(shè)計基準1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設(shè)置于化學房內(nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學房;3. 設(shè)備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點;5. 過濾器:配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質(zhì)的進口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān);8. 所有化學品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能:每種化學液體配兩個桶(自動切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動化...
新聞中心 新聞資訊

華林科納淺述電子工廠化學品供應與回收系統(tǒng)概述

時間: 2017-04-06
點擊次數(shù): 1358

?

電子工廠化學品供應與回收系統(tǒng)概述

由于電子產(chǎn)業(yè)的生產(chǎn)需要使用大量的化學品,而這些化學 品都具有一定危險性,稍有疏忽,就會造成重大的人員傷亡 和設(shè)備的損失,因此,如何將這些化學品在保證品質(zhì)的前提下安全輸送到使用點,如何將這些使用過的化學品合理地回 收處理,將是電子工廠生產(chǎn)安全的重要問題。由此看來,電 子工廠中化學品的供應與回收系統(tǒng)之改進、優(yōu)化仍是值得探 究的。 原來國內(nèi)大規(guī)模集成電路生 產(chǎn)線所需的化學品供給、回收系統(tǒng)管道完全由海外公司承攬施工,隨著國內(nèi) IC 制造業(yè)的發(fā)展,國內(nèi)一流的 IC 工廠建設(shè)公司已經(jīng)開始打破這一局面,涉足該系統(tǒng)的施工,為我國電 子行業(yè)的自主發(fā)展添加了助推劑。 本文就新型顯示器件廠(簡稱 LCD)和集成電路芯片廠 (簡稱芯片廠)的化學品供應和回收系統(tǒng)進行在系統(tǒng)類型、 基本構(gòu)成、主要安全技術(shù)措施等方面做了些總結(jié), 可供系統(tǒng)優(yōu)化時參考。

?

1 化學品供應系統(tǒng) 1.1 化學品供應系統(tǒng)的分類

化學品供應系統(tǒng)在國外一些企業(yè)稱為 CDS(Chemical Dispense System) BCD (Bulk chemical distribution),它是為生產(chǎn)線 24 小時不間斷供應化學品的 系統(tǒng)。

供應系統(tǒng)供應的化學品一般使用量較大或有多臺設(shè)備 使用,屬于遠距離輸送,不適用使用量少或是使用前存放時間有限制的化學品(通常需用特殊的包裝輸送到使用點)。

這些化學品一般輸送到黃光、濕法刻蝕、清洗等區(qū)域。 化學 品供應系統(tǒng)按照化學品的種類可以分成三類

1)無機酸堿化學品供應系統(tǒng):這是主要、化學品種 類多的系統(tǒng),負責供應蝕刻和清洗用的酸堿性溶液。無論 LCD 還是芯片廠,對于酸堿類的化學品需求量都比較大, 由于酸堿溶液大多具有較強的腐蝕性和毒性,在使用和輸送 過程中,除了要保證品質(zhì)外,還要確保存儲、輸送和使用安全。

2)有機溶劑供應系統(tǒng):主要供應易燃性液體,如異丙 醇(IPA)、PGMEA(或簡稱 PM Thinner,乙酸丙二醇甲醚)、 剝離液包括 N-甲基-吡咯烷酮(N-methyl-pyrrolidone 簡稱 NMP)、二甲基亞砜(Dimethyl sulfoxide 簡稱 DMSO)或是乙 醇胺、羥胺乙醇的化合物等,在 LCD 和芯片廠都是用于清洗、光阻的稀釋和剝離。

3)化學研磨液供應系統(tǒng):是供應將研磨液到 CMP(Chemical mechanical Planarization)設(shè)備。在芯片廠, 該化學研磨液供應系統(tǒng)是必不可少的,但由于研磨液的特殊 性,有些芯片廠未將此系統(tǒng)歸到廠務的化學品供應系統(tǒng)中, 而是直接在 CMP 設(shè)備群鄰近的廠房一層設(shè)立供應系統(tǒng)。

由于 LCD 廠與芯片廠的某些生產(chǎn)工序例如清洗、薄膜、光阻涂布、曝光、顯影、蝕刻等比較相似,它們所使用到化 學品種類有部分相同,在危險化學品的管理和人員防護上基 本一致,常用的化學品種類有硫酸、氫氟酸、雙氧水、氨水、 鹽酸、硝酸、磷酸、氫氟酸硝酸混合液、氫氟酸緩沖溶液、 研磨液(拋光液)、顯影液、醋酸、鉻刻蝕液、鋁刻蝕液、ITO( )、ACN、Thinner、OAPHMDS)、異丙醇、剝離液,其中除 雙氧水、Thinner、異丙醇外都有腐蝕性,與氫氟酸相關(guān)的化 學品、氨水、Thinner、剝離液具有毒害性,醋酸、Thinner OAPHMDS)、異丙醇、剝離液具有易燃性,雙氧水和硝酸具 有氧化性。

?

1.2 供應系統(tǒng)的基本構(gòu)成

LCD 廠與芯片廠的化學品供應系統(tǒng)基本相似,供應輸送 系統(tǒng)由化學品供應柜、化學品供應輸送模塊(計算機網(wǎng)絡(luò)化 實時控制,簡稱 PLC)和閥門管道系統(tǒng)組成[1](見圖 1)。供 應系統(tǒng)為了確保生產(chǎn)工藝設(shè)備所需求化學品的使用量和使用 點壓力,通常使用氮氣或泵作為輸送動力源,供應柜部分包 括了儲罐、閥門、過濾器等,而管道閥門部分則包括了閥門 分配箱等。

?圖1.png

1)小型供應系統(tǒng),根據(jù)化學品的使用量設(shè)計成 200L 桶槽供應的方式,供應柜通過泵將化學品輸送至日用罐。此 類系統(tǒng)的特點是初期投資小,占有空間?。辉谝恍┬酒瑥S, 小型系統(tǒng)的日用供給儲罐采用內(nèi)置于供應柜內(nèi)的 60L 桶罐, 可更有效地節(jié)省空間;萬一出現(xiàn)化學品原料的品質(zhì)問題,較 易對容器內(nèi)的污染源進行控制,降低運行的風險。

2)大型供應系統(tǒng),根據(jù)化學品的使用量設(shè)計成化學品 由槽罐車輸送到接收儲罐的方式,其特點是減少容器更換的 次數(shù),提高操作的安全性,降低污染的可能性;減少容器更 換操作的人力成本;降低因容器更換所產(chǎn)生的質(zhì)量變動的可 能性。

3)混合或稀釋系統(tǒng),其特點是降低原料的采購單位成 本;采用稱重或濃度測定等方式進行混合或稀釋化學品原料 的供給設(shè)備;但混合或稀釋等化學品精度不能保證。圖 4 該混合系統(tǒng)的示意圖。 化學品供應系統(tǒng)選用何種系統(tǒng)桶槽,是依據(jù)化學品使用 量、大型槽罐車、小型 200L 原料桶以及供應系統(tǒng)的成本、供 應室的空間占地等因素綜合考慮。若設(shè)置大型供應系統(tǒng)時應根據(jù)化學品供應商提供的槽罐車容積來確定接收儲罐的容 量。在芯片廠,由于現(xiàn)場化學品稀釋的濃度無法達到精確濃 度,除了氫氟酸緩沖溶液、顯影液等,混合或稀釋的供應系 統(tǒng)基本不使用;而 LCD 廠則使用了較多的金屬蝕刻液的混合 系統(tǒng),對于運行管理提出了較嚴格的要求。?

?

1.3 化學品品質(zhì)的控制

LCD 和芯片制造中使用的化學品在不同的生產(chǎn)工藝中 會被重復使用,這些化學品可能會殘留在玻璃基板或硅片表 面,導致污染。因此對使用的化學品純度要求極高,應嚴格 控制微粒、金屬離子和不想要的化學物質(zhì)對產(chǎn)品的玷污。減 少化學物質(zhì)玷污的好方法是徹底消除液態(tài)化學品的使用, 但在目前的制造過程中,還無法實現(xiàn),只能通過不斷地提高 這些化學品的純度來達到制造工藝的要求。因此在化學品供 應系統(tǒng)的運行管理中,品質(zhì)的要求是極其重要的。除混酸或 稀釋系統(tǒng)外,一般化學品供應系統(tǒng)并沒有在線的品質(zhì)監(jiān)控儀 器,應在日常運行中,根據(jù)化學品原料供應商提供的品質(zhì)保 證書等確保使用的化學品是符合要求的;也可以現(xiàn)場取樣, 在工廠的實驗室或委托專門的檢測機構(gòu)對輸送至使用點的化 學品進行檢測分析。當檢測出的數(shù)據(jù)超出控制指標時,就應 啟動專門的應急預案進行處理。

為了保證輸送到使用點的化學品品質(zhì)良好,化學品供應 系統(tǒng)在設(shè)計時應合理選擇管路和閥門及過濾器,除了流量, 壓損等因素,材質(zhì)必須正確選擇,一般輸送無機酸堿的化學 品選用PFA材質(zhì)的管路,泵、閥門主體及槽體內(nèi)部則采用PFA、 PVDF PTFE 等氟塑料材質(zhì)。輸送有機溶劑應采用 SUS316LEP 的管材和閥門。

?

1.4 安全技術(shù)措施

無論是 LCD 還是芯片廠使用的化學品種類繁多且具有腐 蝕性、毒性、氧化性、易燃易爆性,為此化學品供應系統(tǒng)除 本身安全措施外,還應充分考慮供應系統(tǒng)放置場所安全措施, 例如:酸堿和有機化學品供應系統(tǒng)的分隔、化學品的相容性、 防火防爆區(qū)域的劃分和泄漏檢測、各種防災儀器連動裝置、 排氣、逃生和防爆電器用品等的設(shè)置等。

(1)??設(shè)置場所的分隔和防護?

LCD 和芯片廠的化學品供應系統(tǒng)配送室一般分為無機 室、有機防爆室和電器室,根據(jù)實際情況,無機室還可以分 成堿房和酸房。易燃易爆的供應系統(tǒng)設(shè)置在有機防爆室,為 防止火災或爆炸所引起的危害,防爆室應設(shè)置瀉爆墻,在入 口處設(shè)置防火門,安裝緊急噴淋裝置、氣體泄漏檢測裝置、 溫度傳感裝置、緊急排放或圍堵裝置、緊急排風裝置等,在 供應柜內(nèi)安裝 CO2 滅火裝置。無機酸堿室需設(shè)置緊急排放和 圍堵裝置等,確保在非正常情況下,將危害控制在很小的范 圍內(nèi),使設(shè)備及人員的損傷降到低。

為了確?;瘜W品的穩(wěn)定性,供應系統(tǒng)配送室對溫度、濕 度也有較嚴格的控制,一般濕度控制在 60%以下,溫度控制 23 ±1℃,并配備了全新風和緊急排風。

2)供應系統(tǒng)的主要安全措施

①化學品供應系統(tǒng)的主要組成部分就是管路、閥門、泵、 過濾器。在材質(zhì)的選用應充分考慮化學品的性質(zhì),例如腐蝕 性、揮發(fā)性、氧化性、毒性等等,在第 1.3 品質(zhì)控制中已經(jīng) 提到無機化學品供應系統(tǒng)的管件使用氟塑料、有機化學品系 統(tǒng)使用不銹鋼管材。在長距離的無機化學品供應系統(tǒng)的配管 中宜采用雙層管形式,即內(nèi)層采用 PFA 材質(zhì)的管材、外層使 用透明的 PVC。在更長距離的配管中,需設(shè)置管路接頭箱 Union-Box 等,并安裝泄漏檢測裝置。對于無腐蝕性的 有機溶劑,一般可選用 SUS316L,而有腐蝕性的有機溶劑, 應選用內(nèi)層是 PFA,外層是 SUS304 不銹鋼的雙層管路。管路 閥門、過濾器也都需要考慮化學品的性質(zhì),選用相應的型號 材質(zhì)。

?②供應系統(tǒng)宜采用泵或氮氣作為輸送的動力源,為了保 證化學品的品質(zhì)和流量的穩(wěn)定,通常使用氮氣作為輸送到使 用點的動力源。化學品管路架設(shè)時,一般設(shè)置在其他管路的 下層,防止泄漏時影響其他系統(tǒng)。管路應有一定的坡度, 在接點處及閥箱中安裝檢漏裝置。

③在供應系統(tǒng)中,使用的槽罐,通常都用 N2 進行充填, 并應設(shè)有安全閥、防爆膜和防爆膜指示片,當槽罐內(nèi)壓力超 過設(shè)定工作壓力時,防爆膜會被頂破、防爆膜指示片連動發(fā) 出警報,系統(tǒng)停止并瀉壓,確保了槽罐和整體系統(tǒng)的安全。 此外為了方便計量槽罐內(nèi)液體液位,防止液體被排空或溢出, 槽罐上設(shè)計安裝兩種液位計,壓力式液位計、U 型液位計及 光電感應電子液位傳感器或磁感應式液位計等,除有“HH LL”,還設(shè)置了“HHH”“LLL”,雙重保護。有機系統(tǒng)的槽罐 必須進行接地,每年進行接地電阻的測試,防止因靜電火花 而引起的燃爆。

④條形碼確認、驗證,化學品系統(tǒng)日常維護及換桶、槽 罐填充的工作都是重復性的,而 200L 原料桶的顏色、大小都 十分相似,易在進行桶交換時,換錯桶。在化學品供應系統(tǒng) 中為了防范人為的換桶錯誤,機柜上都設(shè)置了條形碼掃描確 認步驟,而特定的化學品(有機系統(tǒng)和無機系統(tǒng)等)都有不 同的氣、液接頭,這樣在操作人員確認化學品名稱之后,由 供應系統(tǒng)再確認一遍。對于大型供應系統(tǒng)的化學品補充,槽 罐車在放料時也需要進行條形碼的驗證,通過之后,整個接 收過程才會開始進行。

?

2 化學品回收處理系統(tǒng)

2.1 化學品回收處理系統(tǒng)的定義和分類

24 小時不間斷收集和處理生產(chǎn)線上排下化學品的回收 處理系統(tǒng),可大致分為有機回收系統(tǒng)和排水處理系統(tǒng)。無論 是儲罐收集外運處理還是排入排水系統(tǒng)處理,都是為了使回 收的化學品能有效地處理,達到循環(huán)使用或排放標準,不污 染環(huán)境。

化學品回收處理系統(tǒng)按照化學品的種類可以分成以下四 類:

1)不含氟的有機廢液回收系統(tǒng):芯片制作生產(chǎn)線上使 用過的異丙醇、剝離液、光刻膠 24 小時不間斷地分別從連接 設(shè)備的廢液管路下排到有機廢液回收儲罐,達到一定回收量后通過泵輸送到外運的槽車中,委外處理;或在 LCD 廠,通 過設(shè)置蒸餾裝置對濃度較高的異丙醇和剝離液進行回收再利 用。國內(nèi)一些 LCD 廠的異丙醇和剝離液也是委托其他單位對 廢液進行蒸餾去雜質(zhì),達到要求后通過槽車加料方式進入到 供應系統(tǒng)中,通過比例調(diào)配達到原液要求后繼續(xù)使用[4]。

2)酸堿處理系統(tǒng):生產(chǎn)設(shè)備使用的鹽酸、化學品供應 室排放的低濃度硫酸廢液、氨水廢液等排放到酸堿排水中繼 槽,通過 PH 調(diào)整等中和處理,達到標準后排放。

3)含氟廢水處理系統(tǒng):含氟廢水是芯片廠產(chǎn)生的主要 廢水,直接排放會污染水源,危害人體。芯片制造過程中, 濕法設(shè)備在清洗和刻蝕硅片時,常使用到的氫氟酸、氫氟酸 緩沖溶液、硝酸、磷酸、硫酸等廢液必須輸送至 F 系排水槽, 然后經(jīng)過后續(xù)處理達到國家排放標準(<10ppm)后再進行排 放。

4)含重金屬的廢水處理系統(tǒng):LCD 廠在生產(chǎn)液晶面板 時,使用到刻蝕鋁(Al)和鉻(Cr)的混酸溶液,其處理方 式不同于芯片廠,屬于重金屬的廢液處理系統(tǒng),由于鋁刻蝕 廢液的排放量大,一些 LCD 廠也會收集之后委托處理。而相 對于鉻酸混合液系強酸性物質(zhì),故要把它稀釋到約 1%的濃 度之后進行還原,并且要待全部溶液被還原變成綠色時,分 析檢測廢液不含六價鉻后,再經(jīng)過后續(xù)處理達到排放標準后 排放。

?

2.2 回收處理系統(tǒng)的基本構(gòu)成

LCD 廠與芯片廠的化學品回收處理系統(tǒng)存在一定差異, 按照處理方式可分為收集委托處理、回收利用、回收處理排 放三類,它們基本構(gòu)成如下:

1)收集委托處理——芯片廠的有機回收系統(tǒng)一般都設(shè) 有回收儲罐、化學品回收處理模塊和閥門管道系統(tǒng)組成,有 機廢液回收系統(tǒng)原理見圖 2。從設(shè)備側(cè)排放的異丙醇、剝離 液和光刻膠通過重力流收集到相應的儲罐,然后通過泵輸送 到外運的槽車中,委托有資質(zhì)的廠家進行處理。由于芯片廠 排下的剝離液、光刻膠成分復雜,異丙醇濃度不高,回收再 利用的經(jīng)濟效益不高,委外處理比較合理

?圖2.png

2)回收處理排放——設(shè)備側(cè)排放的無機廢液一般都需 要特別處理,回收系統(tǒng)包括排水中繼槽,反應槽、PH 調(diào)整槽 等儲罐、藥劑添加系統(tǒng)、閥門管道系統(tǒng)、和排水處理模塊。

3)回收再利用——LCD 廠的無機廢液處理系統(tǒng)的構(gòu)成 與芯片廠類似,而有機回收系統(tǒng)增加了異丙醇和剝離液的回 收再利用裝置,從設(shè)備側(cè)收集的異丙醇或剝離液至中繼儲罐。

回收的異丙醇中,除去大量的水,主要成分仍然是異丙醇, 過回收系統(tǒng)的過濾及蒸餾雙重處理,回收的異丙醇濃度將提 高至 99.9%以上;同樣回收的剝離廢液中除剝離液(主要成 份是乙醇胺、DMSO、NMP 等)、水、光阻,可能還含有其他高 溫加熱產(chǎn)生的化合物,通過回收系統(tǒng)蒸餾剝離廢液去除其他 雜質(zhì),然后加入到比例調(diào)配系統(tǒng)中,使其達到剝離液原液的 濃度,剝離液蒸餾回收系統(tǒng)流程見圖 3[4]。

?圖3.png

2.3 回收處理系統(tǒng)的排放控制

LCD 和芯片廠排放的廢液,由于所含的化學品成分和 比例不同,需要進行針對性的回收和處理。有機廢液回收系 統(tǒng)回收的廢液如果是委外處理,則不要對其成分和濃度進行 監(jiān)測,如果需要回收利用,通過回收系統(tǒng)的過濾及蒸餾雙重 處理,達到需要循環(huán)使用的標準,其濃度和成分需要在線或 現(xiàn)場取樣分析。無機廢液包括無機酸堿處理、重金屬廢液處 理、含氟廢液的排水處理,通過添加氫氧化鈣(Ca(OH)2)、 三氯化鐵(FeCl3)或其他氫氧化物、絮凝劑,調(diào)節(jié) PH 值, 攪拌沉淀形成污泥,達到去除氟離子或重金屬離子的目的; 在處理系統(tǒng)的每一個關(guān)鍵步驟處,都有 PH、氟離子或重金屬 離子的監(jiān)控。每日還應提取水樣,對沉淀后的上清液進行含 氟或含金屬離子的檢測,確認廢水監(jiān)測設(shè)備是否正常工作, 廢水處理是否有效;而排水處理系統(tǒng)的終排放口,應對 終排放的水樣進行監(jiān)測,例如氟化物、BOD5CODCr、PH 值、 懸浮物、TOC 等,均應嚴格控制在國家污水綜合排放標準之 內(nèi)。

?

2.4 安全技術(shù)措施

無論是 LCD 還是芯片廠,都使用了大量種類繁多的化學 品,這也就決定了回收處理系統(tǒng)的多樣性。這些需要回收處 理的廢液具有腐蝕性大、毒性強,有機廢液還具有燃爆等性 質(zhì),所以化學品回收處理系統(tǒng)即要考慮其系統(tǒng)本身的安全, 也應考慮回收處理系統(tǒng)放置場所的安全。

1)放置場所得分隔及防護?易燃易爆的有機廢液儲罐應設(shè)置在有機防爆室內(nèi),其儲 存和環(huán)境及應急設(shè)備的設(shè)置與有機化學品供應系統(tǒng)相同。無 機廢液回收處理系統(tǒng)占地面積較大,一般單獨設(shè)置處理場所 放置儲罐、泵、反應槽、沉淀槽等,儲罐和泵的周圍都有地

漏、潛水泵和圍堰堤,將不同屬性的廢液隔離,防止有大量 液體泄漏時發(fā)生二次事故,并能及時處置。其他排氣、消防 設(shè)施都必須安裝到位,確保非正常情況下,將危害控制在很 小的范圍內(nèi)。

2)回收處理系統(tǒng)相關(guān)主要安全措施

①回收系統(tǒng)的儲罐——有機廢液的儲罐通常選用不銹鋼 304 材質(zhì),無機廢液的儲罐大多選用玻璃鋼、水泥加防腐層 或不銹鋼 304 內(nèi)襯防腐涂層。儲罐的液位計設(shè)置兩種:壓力 式液位計和 U 型液位計。U 型液位計便于日常觀察和點檢, 壓力式液位計通過 PLC 控制,設(shè)定低液位、近空液位、預定 外運液位、高液位等,通過雙重的液位計設(shè)置,確?;厥障?/span> 統(tǒng)的運轉(zhuǎn)安全。此外有機回收系統(tǒng)的儲罐應裝設(shè)接地裝置, 并充填一定的氮氣,防止有機廢液揮發(fā)。

②有機廢液回收系統(tǒng)處于防爆區(qū)域,為確保安全應選用 防爆型泵以保持工作環(huán)境安全,屏蔽泵是比較合適的選擇, 具有無軸伸出密封、耐真空、耐高壓、使用期長無須保養(yǎng)等 優(yōu)點,并具有主次兩層防泄漏套和軸承監(jiān)測裝置,便于管理。 而無機廢液排放和處理量大,儲罐和反應槽存在高落差等, 通常選用揚程大,輸送量大的離心泵,藥劑添加宜選用量程 較小的計量泵。由于離心泵耐腐蝕性較差、所處工作環(huán)境不 佳,需要對離心泵進行定期的維護保養(yǎng),確保它的正常工作。 有機廢液回收系統(tǒng)的管道閥門通常選用不銹鋼 304 材質(zhì),無 機廢液處理系統(tǒng)的管路閥門則多采用 PVC 塑料材質(zhì)。

③在日常維護中,有機廢液的回收系統(tǒng)如沒有蒸餾系統(tǒng), 則單純委外處理,除了根據(jù)預定液位來進行有機廢液的外運 處理,泵和儲罐不需要較為復雜的日常維護;無機廢液回收 處理系統(tǒng)需要進行較為繁雜的日常維護,例如離心泵的壓力、 軸承油位的確認和維護、處理水質(zhì)的取樣分析、化學藥劑的 預定和添加、設(shè)備異常的處理等等,無論是有機回收系統(tǒng)還 是無機廢液回收處理系統(tǒng)都設(shè)有 PLC 監(jiān)控,監(jiān)視畫面上能顯 示儲罐的液位值、泵的運轉(zhuǎn)、其他相關(guān)設(shè)備的運轉(zhuǎn)、在線儀 器的讀數(shù)等等,對于異常情況應及時警報、及時有效處理, 確保系統(tǒng)的安全穩(wěn)定運行。


更多CDS供液系統(tǒng)等相關(guān)設(shè)備,可以關(guān)注華林科納CSE網(wǎng)站;http://regal-bio.cn/

?

Copyright ©2005 - 2013 華林科納(江蘇)半導體設(shè)備有限公司
犀牛云提供企業(yè)云服務
華林科納(江蘇)半導體設(shè)備有限公司
地址:中國江蘇南通如皋高新區(qū)桃金東路90號
電話:0513-87733829
Email:xzl1019@aliyun.com
regal-bio.cn

傳真:0513-87733829
郵編:226500


X
1

QQ設(shè)置

3

SKYPE 設(shè)置

4

阿里旺旺設(shè)置

2

MSN設(shè)置

5

電話號碼管理

  • 400-8798-096
6

二維碼管理

8

郵箱管理

展開