高純多晶硅是電子工業(yè)和太陽能光伏產業(yè)的基礎原料，在未來的50年里，還不可能有其他材料能夠替代硅材料而成為電子和光伏產業(yè)主要原材料。近年來，全球太陽能電池產量快速增加，直接拉動了多晶硅需求的迅猛增長。

多晶硅市場需求經歷了由“半導體產業(yè)主導”向“光伏產業(yè)主導”的轉變。光伏行業(yè)很快出現(xiàn)高速發(fā)展的局面，硅材料生產過程中必需的清洗設備的市場需求仍然非常大。這些設備分別用于半導體材料行業(yè)中多晶硅塊料、棒料和硅芯的清洗。我公司結合多年電子行業(yè)清洗機制造經驗，針對該工藝的生產特點，開發(fā)出針對以上產品的專用全自動清洗設備，并已在多家硅材料生產廠家得以成功應用。

1、工藝研究

在多晶硅生產過程中，清洗的作用是在盡量減小材料損失的前提下，有效去除晶片表面的有機物、顆粒、金屬雜質、自然氧化層及石英器Ⅲ的污染物。采用酸液剝離表面沾污層，再通過純水進行沖洗的方法達到洗凈效果。

在規(guī)模生產中，一般采用HF+HNO3,作為腐蝕液與硅材料發(fā)生化學反應。為了降低剝離層厚度，對于反應溫度、時間的控制非常關鍵。對于塊狀料，由于其形狀不規(guī)則且處理過程互相堆疊，增加了清洗及干燥的難度，我們在經過多次試驗后發(fā)現(xiàn)：對腐蝕槽溶液降溫能有效控制反應速度、降低材料損失并可以獲得更好的表面質量。通過QDR、階梯溢流、加熱超聲的依次水洗，可以將殘留酸液去除。熱氮吹掃去除水滴，真空加熱干燥對于堆疊工件（塊狀料）的干燥效果良好。

2、結構設計

基于上述結果，結合考慮塊狀料和棒狀料的結構特點，我們進行了專門的結構設計及工位排布。硅塊清洗設備工位排布：酸腐蝕→QDR水洗→2階梯溢流水洗→加熱超聲水洗→熱氮吹掃→真空加熱干燥（3工位并行）；

硅棒/硅芯清洗設備工位排布：酸腐蝕→QDR/溢流水洗→超聲水洗→熱氮吹掃。

2.1腐蝕槽

HF+HNO3與硅材料反應劇烈，產生大量的熱量及煙霧。在不加制冷的情況下，溶液溫度可達100℃以上。這樣，在工件由腐蝕槽取出后，熱的工件表面接觸空氣后迅速氧化，造成清洗效果差。有效的解決辦法是降低溶液溫度和減少傳送時間。我們在槽內四周布置波紋盤管。管內通冷水用于溶液的降溫。底部設置氮氣鼓泡機構有利于溶液的攪動并防止二次氧化。試驗證明：增加冷盤管可使溶液溫度降至40℃左右。在傳送方面，采取合理有效的移動控制措施，使工件在空氣中的暴露時間減少至4s以內。通過以上2項措施，有效避免了工件表面的二次氧化 。

2.2 真空加熱干燥

專為硅塊干燥而設計。其工作原理：通過對密閉容器抽真空，降低水的沸點。加熱器用于保證容器內溫度氛圍，使得殘留水分汽化，并由真空泵抽出，達到干燥目的。此工位完全按照真空腔室設計，配備自動開啟關閉蓋，真空壓力檢測開關，真空截止閥等。方形腔室的設計大大減小了體積、質量，結構緊湊美觀 。而且在多次的試驗后，我們總結出了一套提高干燥效率的有效控制工藝，并在實際使用中得以成功應用。

華林科納作為國內最具競爭力的硅材料清洗設備制造商，通過與硅材料生產企業(yè)的緊密合作，幫助我公司不斷完善和改良設備，為今后的設計研發(fā)工作奠定了堅實的基礎 。

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