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濕法制程整體解決方案提供商

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發(fā)布時(shí)間: 2017 - 12 - 06
在LED外延及芯片制造領(lǐng)域,濕法設(shè)備占據(jù)約40%以上的工藝,隨著工藝技術(shù)的不斷發(fā)展,濕法設(shè)備已經(jīng)成為L(zhǎng)ED外延及芯片制造領(lǐng)域的關(guān)鍵設(shè)備,如SPM酸清洗、有機(jī)清洗、顯影、去膠、ITO蝕刻、BOE蝕刻、PSS高溫側(cè)腐、下蠟、勻膠、甩干、掩膜版清洗等。華林科納(江蘇)CSE深入研究LED生產(chǎn)工藝,現(xiàn)已形成可滿(mǎn)足LED產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目需求的全自動(dòng)濕法工藝標(biāo)準(zhǔn)成套設(shè)備。 LED 芯片的制造工藝流程為:外延片→清洗→鍍透明電極層→透明電極圖形光刻→腐蝕→去膠→平臺(tái)圖形光刻→干法刻蝕→去膠→退火→SiO2 沉積→窗口圖形光刻→SiO2腐蝕→去膠→N極圖形光刻→預(yù)清洗→鍍膜→剝離→退火→P 極圖形光刻→鍍膜→剝離→研磨→切割→芯片→成品測(cè)試。 CSE-外延片清洗機(jī)設(shè)備 設(shè)備名稱(chēng)華林科納(江蘇)CSE-外延片清洗機(jī)設(shè)備可處理晶圓尺寸2”-12”可處理晶圓材料硅、砷化鎵、磷化銦、氮化鎵、碳化硅、鈮酸鋰、鉭酸鋰等應(yīng)用領(lǐng)域集成電路、聲表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先進(jìn)封裝等專(zhuān)有技術(shù)系統(tǒng)潔凈性技術(shù)均勻性技術(shù)晶圓片N2干燥技術(shù)模塊化系統(tǒng)集成技術(shù)自動(dòng)傳輸及精確控制技術(shù)溶液溫度、流量和壓力的精確控制技術(shù)主要技術(shù)特點(diǎn)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)緊湊、安全腔體獨(dú)立密封,具有多種功能可實(shí)現(xiàn)晶圓干進(jìn)干出采用工控機(jī)控制,功能強(qiáng)大,操作簡(jiǎn)便可根據(jù)用戶(hù)要求提供個(gè)性化解決方案設(shè)備制造商華林科納(江蘇)半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 regal-bio.cn 400-8768-096 ;18915583058更多的外延片清洗設(shè)備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(regal-bio.cn),現(xiàn)在熱線咨詢(xún)400-8798-096可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體行業(yè)相關(guān)清洗設(shè)備解決方案。
發(fā)布時(shí)間: 2017 - 12 - 06
旋轉(zhuǎn)式噴鍍臺(tái)結(jié)合微組裝工藝對(duì)鍍制工藝的小批量、多規(guī)格和特殊應(yīng)用要求等特點(diǎn),在6" (150mm)晶圓電鍍系統(tǒng)中采用了傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍單元分由兩個(gè)部分組成,一為陰極夾具、旋轉(zhuǎn)單元、導(dǎo)線電刷、N2 保護(hù)單元組成的陰極回轉(zhuǎn)體,二為三角形槽體、陽(yáng)極和電力線擋板組成的陽(yáng)極腔。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍結(jié)構(gòu)示意圖如下:從鍍制結(jié)構(gòu)方式、鍍制工藝應(yīng)用分析可以看出,采用傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍有以下幾種優(yōu)勢(shì)。一是這種結(jié)構(gòu)方式易實(shí)現(xiàn)槽體密封和附加N2 保護(hù)功能。二是在這種鍍制工藝中,陰極的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)使槽內(nèi)電場(chǎng)不均問(wèn)題得以解決,從而提高了鍍制的均勻性。三是呈45°傾斜加陰極旋轉(zhuǎn)的方式,可以較容易的祛除晶圓表面的氣泡附著及“產(chǎn)生”氣泡的消除。四是采用了多微孔進(jìn)行鍍液噴射,實(shí)現(xiàn)攪拌功能,消除局部PH值、溫度、離子濃度等不均勻帶來(lái)的影響。五是采用三角形鍍槽設(shè)計(jì)最大限度的減少了鍍液的消耗。六是該鍍制結(jié)構(gòu)方式可以滿(mǎn)足多品種、小批量、低成本的生產(chǎn)需求。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)、工藝優(yōu)勢(shì)斜式三角鍍槽結(jié)構(gòu)本系統(tǒng)采用傾斜式三角形鍍槽結(jié)構(gòu),鍍槽入口溢流口均與三角形斜邊平行,可得到穩(wěn)定且不易積累氣泡的流場(chǎng)環(huán)境。通過(guò)進(jìn)行相關(guān)模擬、仿真和驗(yàn)證,鍍液入口采用扇形噴咀式結(jié)構(gòu),可保證鍍液在平行于陰極表面方向上形成均勻而穩(wěn)定的流場(chǎng)。從而通過(guò)改變流場(chǎng)的方法改善了鍍層的均勻性。該結(jié)構(gòu)的另一優(yōu)點(diǎn)可使電鍍液的用量減至最少程度。 華林科納(江蘇)CSE采用傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍方法進(jìn)行晶圓電鍍工藝處理,由于結(jié)構(gòu)上的特點(diǎn),該方法經(jīng)實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證具有:①結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單;②工藝參數(shù)控制容易;③有利氣泡的消除;④鍍制均勻性得到提高;⑤鍍制溶液用量少。該方法尤其適應(yīng)于小批量、多規(guī)格的電鍍工藝,同時(shí)可以取得較好的鍍制均勻性。圖6為我們所研制的150mm晶圓傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍系統(tǒng),目前已批量生產(chǎn)并在工藝線上得到較好的應(yīng)用,產(chǎn)品已通過(guò)技術(shù)定型鑒定和用戶(hù)驗(yàn)收。實(shí)現(xiàn)的主要工藝指標(biāo):最...
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 06 - 22
雙腔甩干機(jī)1. 應(yīng)用范圍:l 本機(jī)臺(tái)適用於半導(dǎo)體2”4”6”8”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 設(shè)備為垂直式雙槽體機(jī)臺(tái),可同Run 50片.l 可對(duì)旋乾步驟進(jìn)行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設(shè)備已超過(guò)20年以上的應(yīng)用馬達(dá)控制系統(tǒng)設(shè)計(jì), 高穩(wěn)定度Rotor 設(shè)計(jì), 震動(dòng)值均控制於300 um 以下.l 高潔淨(jìng)設(shè)計(jì),微塵控制於每次運(yùn)轉(zhuǎn)增加量, 0.3um , 30顆以下.   2. 操作流程3. 圖示 4. 規(guī)格l 機(jī)臺(tái)內(nèi)皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達(dá): DC無(wú)刷馬達(dá)750Wl 真空負(fù)壓軸封設(shè)計(jì),隔離槽外污染l 不銹鋼N2過(guò)濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測(cè)保護(hù)(加熱器空燒保護(hù))l 槽外貼Silicon材質(zhì)加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開(kāi)關(guān)90°C OFF 70°C ON)l  Viton材質(zhì)充氣式氣囊及槽後密封環(huán),保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經(jīng)拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉(zhuǎn)子,並按客戶(hù)需求指定使用訂做l 轉(zhuǎn)子經(jīng)拋光及電解研磨,並做動(dòng)態(tài)平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂(lè)故障碼功能: 門(mén)鎖警告,氣體不足,傳動(dòng)異常警告 5. 電控系統(tǒng)l  控制器操作介面: 7”記憶人機(jī)+ PLC可程式自動(dòng)化控制器(人機(jī) Touch Screen,整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲(chǔ)存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/,皆可從操作螢?zāi)簧闲薷摹?#216; 儲(chǔ)存能力記憶模組...
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 03 - 07
枚葉式清洗機(jī)-華林科納CSE華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-單片枚葉式洗凈裝置的特長(zhǎng):?jiǎn)纹角逑囱b置的優(yōu)點(diǎn)(與浸漬.槽式比較)1.晶片表面的微粒數(shù)非常少(到25nm可對(duì)應(yīng))例:附著粒子數(shù)…10個(gè)/W以下(0.08UM以上粒子)(參考)槽式200個(gè)/W2.藥液純水的消費(fèi)量少藥液…(例)1%DHF的情況  20L/日純水...每處理一枚晶片0.5-1L/分3.小裝置size(根據(jù)每個(gè)客戶(hù)可以定制) 液體濺射(塵埃強(qiáng)制除去)  (推薦)清洗方法單片式裝置的Particle再附著問(wèn)題   更多的半導(dǎo)體單片枚葉式濕法腐蝕清洗設(shè)備相關(guān)信息可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(www.hlkncas.com),現(xiàn)在熱線咨詢(xún)400-8768-096;18913575037可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體清洗解決方案。
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 03 - 07
自動(dòng)供酸系統(tǒng)(CDS)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-CDS自動(dòng)供酸系統(tǒng) 適用對(duì)象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進(jìn)行配送,經(jīng)管道至設(shè)備;具有自動(dòng)化程度高,配比精確,操作簡(jiǎn)便等特點(diǎn);具有良好的耐腐蝕性能。控制模式:手動(dòng)控制模式、自動(dòng)控制模式設(shè)備名稱(chēng)華林科納(江蘇)CSE-CDS自動(dòng)供酸系統(tǒng)設(shè)備型號(hào)CSE-CDS-N1507設(shè)計(jì)基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡(jiǎn)稱(chēng):CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房?jī)?nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房;3. 設(shè)備材質(zhì)說(shuō)明(酸堿類(lèi)):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運(yùn)送到制程使用點(diǎn);5. 過(guò)濾器:配有10” PFA材質(zhì)過(guò)濾器外殼;6. 供液泵:每種化學(xué)液體配有兩臺(tái)或者一臺(tái) PTFE材質(zhì)的進(jìn)口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類(lèi)采用一般型靜電容近接開(kāi)關(guān);8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測(cè)器與警報(bào)功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能:每種化學(xué)液體配兩個(gè)桶(自動(dòng)切換)、配兩臺(tái)泵(一用一備)、帶過(guò)濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動(dòng)化與親和力。在...
發(fā)布時(shí)間: 2018 - 01 - 23
單片清洗機(jī)-華林科納CSESingle wafer cleaner system華林科納(江蘇)CSE-自動(dòng)單片式腐蝕清洗機(jī)應(yīng)用于清洗(包括光刻板清洗)刻蝕 去膠 金屬剝離等;可處理晶圓尺寸2'-12';可處理晶圓材料:硅 砷化鎵 磷化銦 氮化鎵 碳化硅 鈮酸鋰 鉭酸鋰等;主要應(yīng)用領(lǐng)域:集成電路   聲表面波器件  微波毫米波器件  MEMS  先進(jìn)封裝等  設(shè) 備 名 稱(chēng)CSE-單片清洗機(jī)類(lèi)  型單片式適 用 領(lǐng) 域半導(dǎo)體、太陽(yáng)能、液晶、MEMS等清 洗 方 式2英寸——12英寸設(shè)備穩(wěn)定性1、≥0.2um顆粒少于10顆2、金屬附著量:3E10 atoms/ cm²3、純水消耗量:1L/min/片4、蝕刻均一性良好(SiO?氧化膜被稀釋HF處理):≤2%5、干燥時(shí)間:≤20S6、藥液回收率:>95%單片式優(yōu)點(diǎn)1、單片處理時(shí)間短(相較于槽式清洗機(jī))2、節(jié)約成本(藥液循環(huán)利用,消耗量遠(yuǎn)低于槽式)3、良品率高4、有效避免邊緣再附著5、立體層疊式結(jié)構(gòu),占地面積小 更多的單片(枚葉)式清洗相關(guān)設(shè)備可以關(guān)注華林科納(江蘇)半導(dǎo)體官網(wǎng),關(guān)注http://regal-bio.cn ,400-8768-096,18913575037
發(fā)布時(shí)間: 2017 - 12 - 06
氫氟酸HF自動(dòng)供液系統(tǒng)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-氫氟酸供液系統(tǒng) 適用對(duì)象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進(jìn)行配送,經(jīng)管道至設(shè)備;具有自動(dòng)化程度高,配比精確,操作簡(jiǎn)便等特點(diǎn);具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩?dòng)控制模式、自動(dòng)控制模式 設(shè)備名稱(chēng)華林科納(江蘇)CSE-氫氟酸(HF)供液系統(tǒng)設(shè)備型號(hào)CSE-CDS-N2601設(shè)計(jì)基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡(jiǎn)稱(chēng):CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房?jī)?nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房;3. 設(shè)備材質(zhì)說(shuō)明(酸堿類(lèi)):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運(yùn)送到制程使用點(diǎn);5. 過(guò)濾器:配有10” PFA材質(zhì)過(guò)濾器外殼;6. 供液泵:每種化學(xué)液體配有兩臺(tái)或者一臺(tái) PTFE材質(zhì)的進(jìn)口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類(lèi)采用一般型靜電容近接開(kāi)關(guān);8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測(cè)器與警報(bào)功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能:每種化學(xué)液體配兩個(gè)桶(自動(dòng)切換)、配兩臺(tái)泵(一用一備)、帶過(guò)濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動(dòng)化...
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運(yùn)用魚(yú)刺圖(因果圖)解析注塑制品質(zhì)量的影響因素

時(shí)間: 2024-04-15
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注塑制品質(zhì)量是產(chǎn)品性能和市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力的關(guān)鍵指標(biāo)。為了深入解析其影響因素,我們采用魚(yú)刺圖(因果圖)進(jìn)行分析。


運(yùn)用魚(yú)刺圖(因果圖)解析注塑制品質(zhì)量的影響因素

圖1 魚(yú)刺圖(因果圖)

將原料、注塑機(jī)、模具和成型條件作為四大主干因素,并進(jìn)一步細(xì)化分析各因素下的子因素。

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01原料

原料是影響注塑制品質(zhì)量的基礎(chǔ)因素。

原料種類(lèi):

  • 不同種類(lèi)的注塑原料具有不同的化學(xué)性質(zhì)和物理特性,這影響到注塑制品的力學(xué)性能、耐熱性、耐腐蝕性等。

  • 根據(jù)制品的使用環(huán)境和功能需求進(jìn)行原料種類(lèi)的選擇。

純度與雜質(zhì):

  • 雜質(zhì)可能導(dǎo)致注塑制品出現(xiàn)氣泡、裂紋、變形等缺陷,影響制品的外觀和性能。

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運(yùn)用魚(yú)刺圖(因果圖)解析注塑制品質(zhì)量的影響因素

圖2 PFA原料

含濕性:

  • 原料中的水分含量過(guò)高會(huì)導(dǎo)致注塑過(guò)程中產(chǎn)生氣泡、縮孔等缺陷。

  • 注塑前應(yīng)對(duì)原料進(jìn)行干燥處理,確保水分含量在可接受范圍內(nèi)。

顆粒特性:

  • 顆粒過(guò)大可能導(dǎo)致填充不均,顆粒過(guò)小則可能增加注塑機(jī)的能耗。

物理性質(zhì):

  • 原料的熔點(diǎn)、粘度、流動(dòng)性等物理性質(zhì)會(huì)影響注塑過(guò)程的穩(wěn)定性。

  • 物理性質(zhì)不合適的原料可能導(dǎo)致注塑過(guò)程中出現(xiàn)堵塞、溢料等問(wèn)題。

運(yùn)用魚(yú)刺圖(因果圖)解析注塑制品質(zhì)量的影響因素?

圖3? DAIKIN 211原料物理性質(zhì)

批次一致性:

  • 不同批次的原料可能存在差異,如成分、純度、物理性質(zhì)等,這可能導(dǎo)致注塑制品的質(zhì)量不穩(wěn)定。


02注塑機(jī)

  • 注塑機(jī)作為注塑生產(chǎn)的核心設(shè)備,其性能穩(wěn)定與否直接關(guān)系到制品質(zhì)量。

注射精度:

  • 注射精度的準(zhǔn)確性影響注塑制品的尺寸和形狀。

  • 注射精度受到注塑機(jī)本身的精度和穩(wěn)定性、模具的精度和耐磨性、原料的性質(zhì)和工藝參數(shù)等多種因素的影響。

穩(wěn)定性:

  • 注塑機(jī)的穩(wěn)定性包括機(jī)械穩(wěn)定性和電氣穩(wěn)定性。

  • 提高穩(wěn)定性的方法包括采用優(yōu)質(zhì)的設(shè)計(jì)和材料、定期進(jìn)行維護(hù)和保養(yǎng)、以及確保機(jī)器在穩(wěn)定的環(huán)境中運(yùn)行。

運(yùn)用魚(yú)刺圖(因果圖)解析注塑制品質(zhì)量的影響因素

圖4 注塑機(jī)示意圖

鎖模力:

  • 選擇設(shè)備時(shí)必須核算設(shè)備鎖模力是否足夠。

  • 鎖模力的選取相當(dāng)重要,鎖模力不夠會(huì)使塑件產(chǎn)生飛邊,不能成型薄壁塑件;鎖模力過(guò)大,又易損壞模具。

溫控精度:

  • 決定塑料在注塑過(guò)程中的溫度穩(wěn)定性,影響熔融狀態(tài)和物理性能。

螺桿剪切力:

  • 優(yōu)化螺桿剪切力需要合理調(diào)整螺桿轉(zhuǎn)速和直徑,選擇適合的料管直徑,并考慮原料的熔融特性。

塑化能力:

  • 塑化能力決定螺桿轉(zhuǎn)速、驅(qū)動(dòng)功率螺桿結(jié)構(gòu)、物料性能等。

  • 一般注射機(jī)的理論塑化能力大于實(shí)際所需量的20%左右


?03模具

模具作為注塑制品成型的載體,其設(shè)計(jì)和制造質(zhì)量對(duì)制品質(zhì)量具有決定性作用。

模具結(jié)構(gòu):

  • 合理的模具結(jié)構(gòu)有助于塑料在模具內(nèi)均勻流動(dòng),減少內(nèi)部應(yīng)力和缺陷的產(chǎn)生。

  • 不合理的模具結(jié)構(gòu)可能導(dǎo)致制品變形、縮孔、開(kāi)裂等質(zhì)量問(wèn)題。

流道與澆口設(shè)計(jì):

  • 澆口類(lèi)型和位置的選擇決定了塑料進(jìn)入模具的方式和速度,直接影響制品的充模情況和表面質(zhì)量。

  • 澆口尺寸的大小決定了塑料的流動(dòng)阻力和填充速度。

  • 流道的設(shè)計(jì)則需要確保塑料流動(dòng)的順暢,減少阻力,提高填充效率。

運(yùn)用魚(yú)刺圖(因果圖)解析注塑制品質(zhì)量的影響因素

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圖5? 注塑模具澆筑系統(tǒng)

排氣效果:

  • 合理的排氣槽設(shè)計(jì)和排氣通道布局可以有效排除模具內(nèi)的氣體,避免氣泡和熔接痕的產(chǎn)生。

冷卻系統(tǒng):

  • 冷卻時(shí)間的長(zhǎng)短是基于保證塑件定型能開(kāi)模取出而設(shè)定的。一般冷卻時(shí)間占周期時(shí)間的70%~80%

運(yùn)用魚(yú)刺圖(因果圖)解析注塑制品質(zhì)量的影響因素

圖6 注塑機(jī)冷卻過(guò)程

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型腔精度:

  • 模具的制造精度越高,制品的尺寸穩(wěn)定性越好。模具在使用過(guò)程中會(huì)逐漸磨損,需要及時(shí)修正和維護(hù),以確保型腔精度的穩(wěn)定。

保養(yǎng)與維護(hù):

  • 定期的保養(yǎng)可以延長(zhǎng)模具的使用壽命,減少故障和維修次數(shù)。

運(yùn)用魚(yú)刺圖(因果圖)解析注塑制品質(zhì)量的影響因素

圖7 螺桿磨損圖

04成型工藝

  • 成型工藝是注塑制品質(zhì)量的關(guān)鍵因素之一。

料筒溫度:

  • 注塑機(jī)料筒一般有5-6個(gè)加熱段,每種原料都有其合適的成型溫度。

運(yùn)用魚(yú)刺圖(因果圖)解析注塑制品質(zhì)量的影響因素

圖8 注塑機(jī)料筒

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模具溫度:

  • 在設(shè)計(jì)模具冷卻系統(tǒng)時(shí),要盡量保證模具的前模與后模的溫度差異小(不超過(guò)20℃),溫度差異小有利于提高產(chǎn)品的成型質(zhì)量和降低成本。

工藝參數(shù):

  • 工藝參數(shù)包括控制塑料熔體狀態(tài)的參數(shù)、控制注射過(guò)程的參數(shù)以及控制成型件質(zhì)量的參數(shù)。

  • 注塑工藝參數(shù)與熔融狀態(tài)下的熔體流動(dòng)密切相關(guān),能夠控制材料的均勻分布,防止因注射速度不當(dāng)導(dǎo)致的氣泡、裂紋或焦化等缺陷,確保產(chǎn)品的機(jī)械性能。

注射壓力:

  • 注射壓力的作用是克服注射過(guò)程中熔體流經(jīng)噴嘴、流道和模腔的阻力,同時(shí)對(duì)注入模腔的熔體產(chǎn)生一定的壓力,以完成物料補(bǔ)充,使塑件密實(shí)。

注射速度:

  • 過(guò)快的注射速度可能導(dǎo)致制品產(chǎn)生短射、毛刺、氣泡等缺陷;過(guò)慢的注射速度則可能導(dǎo)致制品產(chǎn)生流痕、熔接線等缺陷。

背壓:

  • 背壓推薦值為5-10MPa,背壓過(guò)低容易導(dǎo)致制品不穩(wěn)定,增加背壓會(huì)提高摩擦力對(duì)于塑化的影響,減少塑化時(shí)間。

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