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始于90年代末

濕法制程整體解決方案提供商

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發(fā)布時(shí)間: 2017 - 12 - 06
在LED外延及芯片制造領(lǐng)域,濕法設(shè)備占據(jù)約40%以上的工藝,隨著工藝技術(shù)的不斷發(fā)展,濕法設(shè)備已經(jīng)成為L(zhǎng)ED外延及芯片制造領(lǐng)域的關(guān)鍵設(shè)備,如SPM酸清洗、有機(jī)清洗、顯影、去膠、ITO蝕刻、BOE蝕刻、PSS高溫側(cè)腐、下蠟、勻膠、甩干、掩膜版清洗等。華林科納(江蘇)CSE深入研究LED生產(chǎn)工藝,現(xiàn)已形成可滿足LED產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目需求的全自動(dòng)濕法工藝標(biāo)準(zhǔn)成套設(shè)備。 LED 芯片的制造工藝流程為:外延片→清洗→鍍透明電極層→透明電極圖形光刻→腐蝕→去膠→平臺(tái)圖形光刻→干法刻蝕→去膠→退火→SiO2 沉積→窗口圖形光刻→SiO2腐蝕→去膠→N極圖形光刻→預(yù)清洗→鍍膜→剝離→退火→P 極圖形光刻→鍍膜→剝離→研磨→切割→芯片→成品測(cè)試。 CSE-外延片清洗機(jī)設(shè)備 設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-外延片清洗機(jī)設(shè)備可處理晶圓尺寸2”-12”可處理晶圓材料硅、砷化鎵、磷化銦、氮化鎵、碳化硅、鈮酸鋰、鉭酸鋰等應(yīng)用領(lǐng)域集成電路、聲表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先進(jìn)封裝等專有技術(shù)系統(tǒng)潔凈性技術(shù)均勻性技術(shù)晶圓片N2干燥技術(shù)模塊化系統(tǒng)集成技術(shù)自動(dòng)傳輸及精確控制技術(shù)溶液溫度、流量和壓力的精確控制技術(shù)主要技術(shù)特點(diǎn)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)緊湊、安全腔體獨(dú)立密封,具有多種功能可實(shí)現(xiàn)晶圓干進(jìn)干出采用工控機(jī)控制,功能強(qiáng)大,操作簡(jiǎn)便可根據(jù)用戶要求提供個(gè)性化解決方案設(shè)備制造商華林科納(江蘇)半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 regal-bio.cn 400-8768-096 ;18915583058更多的外延片清洗設(shè)備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(regal-bio.cn),現(xiàn)在熱線咨詢400-8798-096可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體行業(yè)相關(guān)清洗設(shè)備解決方案。
發(fā)布時(shí)間: 2017 - 12 - 06
旋轉(zhuǎn)式噴鍍臺(tái)結(jié)合微組裝工藝對(duì)鍍制工藝的小批量、多規(guī)格和特殊應(yīng)用要求等特點(diǎn),在6" (150mm)晶圓電鍍系統(tǒng)中采用了傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍單元分由兩個(gè)部分組成,一為陰極夾具、旋轉(zhuǎn)單元、導(dǎo)線電刷、N2 保護(hù)單元組成的陰極回轉(zhuǎn)體,二為三角形槽體、陽(yáng)極和電力線擋板組成的陽(yáng)極腔。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍結(jié)構(gòu)示意圖如下:從鍍制結(jié)構(gòu)方式、鍍制工藝應(yīng)用分析可以看出,采用傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍有以下幾種優(yōu)勢(shì)。一是這種結(jié)構(gòu)方式易實(shí)現(xiàn)槽體密封和附加N2 保護(hù)功能。二是在這種鍍制工藝中,陰極的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)使槽內(nèi)電場(chǎng)不均問(wèn)題得以解決,從而提高了鍍制的均勻性。三是呈45°傾斜加陰極旋轉(zhuǎn)的方式,可以較容易的祛除晶圓表面的氣泡附著及“產(chǎn)生”氣泡的消除。四是采用了多微孔進(jìn)行鍍液噴射,實(shí)現(xiàn)攪拌功能,消除局部PH值、溫度、離子濃度等不均勻帶來(lái)的影響。五是采用三角形鍍槽設(shè)計(jì)最大限度的減少了鍍液的消耗。六是該鍍制結(jié)構(gòu)方式可以滿足多品種、小批量、低成本的生產(chǎn)需求。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)、工藝優(yōu)勢(shì)斜式三角鍍槽結(jié)構(gòu)本系統(tǒng)采用傾斜式三角形鍍槽結(jié)構(gòu),鍍槽入口溢流口均與三角形斜邊平行,可得到穩(wěn)定且不易積累氣泡的流場(chǎng)環(huán)境。通過(guò)進(jìn)行相關(guān)模擬、仿真和驗(yàn)證,鍍液入口采用扇形噴咀式結(jié)構(gòu),可保證鍍液在平行于陰極表面方向上形成均勻而穩(wěn)定的流場(chǎng)。從而通過(guò)改變流場(chǎng)的方法改善了鍍層的均勻性。該結(jié)構(gòu)的另一優(yōu)點(diǎn)可使電鍍液的用量減至最少程度。 華林科納(江蘇)CSE采用傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍方法進(jìn)行晶圓電鍍工藝處理,由于結(jié)構(gòu)上的特點(diǎn),該方法經(jīng)實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證具有:①結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單;②工藝參數(shù)控制容易;③有利氣泡的消除;④鍍制均勻性得到提高;⑤鍍制溶液用量少。該方法尤其適應(yīng)于小批量、多規(guī)格的電鍍工藝,同時(shí)可以取得較好的鍍制均勻性。圖6為我們所研制的150mm晶圓傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍系統(tǒng),目前已批量生產(chǎn)并在工藝線上得到較好的應(yīng)用,產(chǎn)品已通過(guò)技術(shù)定型鑒定和用戶驗(yàn)收。實(shí)現(xiàn)的主要工藝指標(biāo):最...
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 06 - 22
雙腔甩干機(jī)1. 應(yīng)用范圍:l 本機(jī)臺(tái)適用於半導(dǎo)體2”4”6”8”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 設(shè)備為垂直式雙槽體機(jī)臺(tái),可同Run 50片.l 可對(duì)旋乾步驟進(jìn)行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設(shè)備已超過(guò)20年以上的應(yīng)用馬達(dá)控制系統(tǒng)設(shè)計(jì), 高穩(wěn)定度Rotor 設(shè)計(jì), 震動(dòng)值均控制於300 um 以下.l 高潔淨(jìng)設(shè)計(jì),微塵控制於每次運(yùn)轉(zhuǎn)增加量, 0.3um , 30顆以下.   2. 操作流程3. 圖示 4. 規(guī)格l 機(jī)臺(tái)內(nèi)皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達(dá): DC無(wú)刷馬達(dá)750Wl 真空負(fù)壓軸封設(shè)計(jì),隔離槽外污染l 不銹鋼N2過(guò)濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測(cè)保護(hù)(加熱器空燒保護(hù))l 槽外貼Silicon材質(zhì)加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開(kāi)關(guān)90°C OFF 70°C ON)l  Viton材質(zhì)充氣式氣囊及槽後密封環(huán),保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經(jīng)拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉(zhuǎn)子,並按客戶需求指定使用訂做l 轉(zhuǎn)子經(jīng)拋光及電解研磨,並做動(dòng)態(tài)平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂(lè)故障碼功能: 門(mén)鎖警告,氣體不足,傳動(dòng)異常警告 5. 電控系統(tǒng)l  控制器操作介面: 7”記憶人機(jī)+ PLC可程式自動(dòng)化控制器(人機(jī) Touch Screen,整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲(chǔ)存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/,皆可從操作螢?zāi)簧闲薷摹?#216; 儲(chǔ)存能力記憶模組...
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 03 - 07
枚葉式清洗機(jī)-華林科納CSE華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-單片枚葉式洗凈裝置的特長(zhǎng):?jiǎn)纹角逑囱b置的優(yōu)點(diǎn)(與浸漬.槽式比較)1.晶片表面的微粒數(shù)非常少(到25nm可對(duì)應(yīng))例:附著粒子數(shù)…10個(gè)/W以下(0.08UM以上粒子)(參考)槽式200個(gè)/W2.藥液純水的消費(fèi)量少藥液…(例)1%DHF的情況  20L/日純水...每處理一枚晶片0.5-1L/分3.小裝置size(根據(jù)每個(gè)客戶可以定制) 液體濺射(塵埃強(qiáng)制除去)  (推薦)清洗方法單片式裝置的Particle再附著問(wèn)題   更多的半導(dǎo)體單片枚葉式濕法腐蝕清洗設(shè)備相關(guān)信息可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(www.hlkncas.com),現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096;18913575037可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體清洗解決方案。
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 03 - 07
自動(dòng)供酸系統(tǒng)(CDS)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-CDS自動(dòng)供酸系統(tǒng) 適用對(duì)象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進(jìn)行配送,經(jīng)管道至設(shè)備;具有自動(dòng)化程度高,配比精確,操作簡(jiǎn)便等特點(diǎn);具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩?dòng)控制模式、自動(dòng)控制模式設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-CDS自動(dòng)供酸系統(tǒng)設(shè)備型號(hào)CSE-CDS-N1507設(shè)計(jì)基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡(jiǎn)稱:CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房?jī)?nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房;3. 設(shè)備材質(zhì)說(shuō)明(酸堿類(lèi)):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運(yùn)送到制程使用點(diǎn);5. 過(guò)濾器:配有10” PFA材質(zhì)過(guò)濾器外殼;6. 供液泵:每種化學(xué)液體配有兩臺(tái)或者一臺(tái) PTFE材質(zhì)的進(jìn)口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類(lèi)采用一般型靜電容近接開(kāi)關(guān);8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測(cè)器與警報(bào)功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能:每種化學(xué)液體配兩個(gè)桶(自動(dòng)切換)、配兩臺(tái)泵(一用一備)、帶過(guò)濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動(dòng)化與親和力。在...
發(fā)布時(shí)間: 2018 - 01 - 23
單片清洗機(jī)-華林科納CSESingle wafer cleaner system華林科納(江蘇)CSE-自動(dòng)單片式腐蝕清洗機(jī)應(yīng)用于清洗(包括光刻板清洗)刻蝕 去膠 金屬剝離等;可處理晶圓尺寸2'-12';可處理晶圓材料:硅 砷化鎵 磷化銦 氮化鎵 碳化硅 鈮酸鋰 鉭酸鋰等;主要應(yīng)用領(lǐng)域:集成電路   聲表面波器件  微波毫米波器件  MEMS  先進(jìn)封裝等  設(shè) 備 名 稱CSE-單片清洗機(jī)類(lèi)  型單片式適 用 領(lǐng) 域半導(dǎo)體、太陽(yáng)能、液晶、MEMS等清 洗 方 式2英寸——12英寸設(shè)備穩(wěn)定性1、≥0.2um顆粒少于10顆2、金屬附著量:3E10 atoms/ cm²3、純水消耗量:1L/min/片4、蝕刻均一性良好(SiO?氧化膜被稀釋HF處理):≤2%5、干燥時(shí)間:≤20S6、藥液回收率:>95%單片式優(yōu)點(diǎn)1、單片處理時(shí)間短(相較于槽式清洗機(jī))2、節(jié)約成本(藥液循環(huán)利用,消耗量遠(yuǎn)低于槽式)3、良品率高4、有效避免邊緣再附著5、立體層疊式結(jié)構(gòu),占地面積小 更多的單片(枚葉)式清洗相關(guān)設(shè)備可以關(guān)注華林科納(江蘇)半導(dǎo)體官網(wǎng),關(guān)注http://regal-bio.cn ,400-8768-096,18913575037
發(fā)布時(shí)間: 2017 - 12 - 06
氫氟酸HF自動(dòng)供液系統(tǒng)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-氫氟酸供液系統(tǒng) 適用對(duì)象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進(jìn)行配送,經(jīng)管道至設(shè)備;具有自動(dòng)化程度高,配比精確,操作簡(jiǎn)便等特點(diǎn);具有良好的耐腐蝕性能。控制模式:手動(dòng)控制模式、自動(dòng)控制模式 設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-氫氟酸(HF)供液系統(tǒng)設(shè)備型號(hào)CSE-CDS-N2601設(shè)計(jì)基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡(jiǎn)稱:CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房?jī)?nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房;3. 設(shè)備材質(zhì)說(shuō)明(酸堿類(lèi)):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運(yùn)送到制程使用點(diǎn);5. 過(guò)濾器:配有10” PFA材質(zhì)過(guò)濾器外殼;6. 供液泵:每種化學(xué)液體配有兩臺(tái)或者一臺(tái) PTFE材質(zhì)的進(jìn)口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類(lèi)采用一般型靜電容近接開(kāi)關(guān);8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測(cè)器與警報(bào)功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能:每種化學(xué)液體配兩個(gè)桶(自動(dòng)切換)、配兩臺(tái)泵(一用一備)、帶過(guò)濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動(dòng)化...
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半導(dǎo)體硅片市場(chǎng)

時(shí)間: 2022-10-11
點(diǎn)擊次數(shù): 114

2021年全球半導(dǎo)體硅片市場(chǎng)規(guī)模為113億美元。預(yù)計(jì)到2030 年將達(dá)到 150 億美元,復(fù)合年增長(zhǎng)率為 3.6%在預(yù)測(cè)期間(2022-2030 年)。半導(dǎo)體工業(yè)的一個(gè)重要組成部分是硅晶片。每個(gè)芯片制造商都必須以某種形狀或形式購(gòu)買(mǎi)它們。芯片制造商將硅晶圓生產(chǎn)商生產(chǎn)并出售給他們的原始硅晶圓轉(zhuǎn)換成芯片。預(yù)計(jì)云計(jì)算和高性能計(jì)算趨勢(shì)帶來(lái)的 SSD 使用量上升將增加內(nèi)存領(lǐng)域?qū)杈男枨???傮w而言,預(yù)計(jì)該行業(yè)將在預(yù)測(cè)期內(nèi)經(jīng)歷快速增長(zhǎng)。

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全球半導(dǎo)體硅片市場(chǎng)按直徑、產(chǎn)品、應(yīng)用和地區(qū)劃分。

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按直徑,全球半導(dǎo)體硅片市場(chǎng)分為小于 150 毫米、200 毫米和 300 毫米及以上。

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300 MM 及以上占最大市場(chǎng)份額,預(yù)計(jì)在預(yù)測(cè)期內(nèi)以 4.8% 的復(fù)合年增長(zhǎng)率增長(zhǎng)。由于硅片制造技術(shù)的進(jìn)步,主要受集成電路芯片制造商需求的推動(dòng),硅片的尺寸已從 25 MM 硅片逐漸增加到目前可用的最大直徑,即 450 MM 硅片. 從單個(gè)硅晶片生產(chǎn)的芯片的表面積和數(shù)量隨著晶片直徑的增加而增加。具有更多芯片的硅晶片將使芯片制造商的每個(gè)芯片成本更低。此外,市場(chǎng)正在見(jiàn)證產(chǎn)品創(chuàng)新,推動(dòng)市場(chǎng)增長(zhǎng)。

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由于 200 MM 晶圓在功率器件、IC、LED、MEMS 和許多其他半導(dǎo)體和電子設(shè)備中的使用越來(lái)越多,因此需求量將十分巨大。這些晶圓價(jià)格實(shí)惠,也很容易集成到各種設(shè)備中。因此,小型和大型電子制造商越來(lái)越多地采用這些晶圓。這些晶圓也越來(lái)越多地用于制造需要小芯片尺寸且全球出貨量為數(shù)千的設(shè)備。LED、RF 設(shè)備和功率晶體管制造商使用 200 MM 硅晶片。

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按產(chǎn)品劃分,全球半導(dǎo)體硅片市場(chǎng)分為邏輯、內(nèi)存、模擬和其他。

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存儲(chǔ)半導(dǎo)體占據(jù)最大的市場(chǎng)份額,預(yù)計(jì)在預(yù)測(cè)期內(nèi)將以 3.7% 的復(fù)合年增長(zhǎng)率增長(zhǎng)。存儲(chǔ)設(shè)備越來(lái)越多地應(yīng)用于基于存儲(chǔ)的電子設(shè)備,例如移動(dòng)電話、計(jì)算機(jī)、平板電腦、醫(yī)療設(shè)備、數(shù)碼相機(jī)、智能卡、通信設(shè)備和其他數(shù)字電子設(shè)備。影響存儲(chǔ)設(shè)備市場(chǎng)增長(zhǎng)的主要驅(qū)動(dòng)因素包括智能手機(jī)、功能手機(jī)和平板電腦的使用增加;便攜式無(wú)線設(shè)備對(duì)低功耗存儲(chǔ)器的需求不斷增長(zhǎng);大數(shù)據(jù)存儲(chǔ)應(yīng)用對(duì)固態(tài)硬盤(pán) (SSD) 的需求不斷增長(zhǎng)。另一項(xiàng)顯著需要存儲(chǔ)項(xiàng)目的技術(shù)是平板電腦。在預(yù)計(jì)期間,由于平板電腦的日益普及,對(duì)存儲(chǔ)器 IC 的需求將會(huì)增加。

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邏輯半導(dǎo)體用于處理數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)以控制電子系統(tǒng)的操作。數(shù)字電路通常由邏輯門(mén)(小型微電子電路)構(gòu)成,可輕松用于創(chuàng)建組合邏輯。一個(gè)微不足道的微控制器可以通過(guò)編程使嵌入式系統(tǒng)中存在很多復(fù)雜的序列或算法。這些設(shè)備的增長(zhǎng)高度依賴于汽車(chē)和消費(fèi)電子行業(yè)的需求。消費(fèi)電子設(shè)備需求的持續(xù)增長(zhǎng)是邏輯半導(dǎo)體市場(chǎng)的重要增長(zhǎng)動(dòng)力。在這方面,更低的功耗和技術(shù)進(jìn)步推動(dòng)了邏輯半導(dǎo)體的更多采用。

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按應(yīng)用,全球半導(dǎo)體硅片市場(chǎng)細(xì)分為消費(fèi)電子、工業(yè)、電信、汽車(chē)等。

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消費(fèi)電子產(chǎn)品占據(jù)最大的市場(chǎng)份額,預(yù)計(jì)在預(yù)測(cè)期內(nèi)將以 3.6% 的復(fù)合年增長(zhǎng)率增長(zhǎng)。在當(dāng)前的市場(chǎng)環(huán)境下,由硅材料制成的 IC 和其他半導(dǎo)體器件仍用于相當(dāng)一部分電子產(chǎn)品中,例如筆記本電腦、智能手機(jī)、電腦等。此外,蘋(píng)果承諾在未來(lái)五年內(nèi)創(chuàng)造 240 萬(wàn)個(gè)就業(yè)崗位2019 年,并承諾到 2023 年為美國(guó)經(jīng)濟(jì)貢獻(xiàn) 3500 億美元。這一承諾包括與國(guó)內(nèi)公司在供應(yīng)和制造方面的新投資和支出??紤]到事態(tài)發(fā)展,預(yù)計(jì)在預(yù)測(cè)期內(nèi)對(duì)這些半導(dǎo)體硅片的需求將很大。

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半導(dǎo)體硅片的工業(yè)應(yīng)用包括制造、食品加工或儲(chǔ)存、化學(xué)、石化和發(fā)電廠。隨著機(jī)器變得更加智能和直觀,工業(yè) 4.0 革命正在推動(dòng)對(duì)工業(yè)傳感器應(yīng)用的需求增加。憑借自主監(jiān)控其使用、性能和故障的能力,新設(shè)備將被開(kāi)發(fā)得更加有效、安全和通用。因此,這些應(yīng)用刺激了對(duì)敏感傳感器的需求,擴(kuò)大了市場(chǎng)。

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半導(dǎo)體硅片產(chǎn)業(yè)的發(fā)展伴隨著整合收購(gòu),競(jìng)爭(zhēng)格局由分散走向集中。半導(dǎo)體硅片 產(chǎn)業(yè)發(fā)展早期由美國(guó) MEMC 主導(dǎo),之后眾多企業(yè)參與競(jìng)爭(zhēng),1998 年市場(chǎng)格局極度 分散,全球主要市場(chǎng)參與者超過(guò) 25 家。但隨著硅片尺寸越來(lái)越大,所需投資額大 幅提高,規(guī)模效應(yīng)是企業(yè)盈利的關(guān)鍵,在眾多硅片廠商出現(xiàn)連續(xù)虧損的情況下收 購(gòu)兼并不斷發(fā)生。通過(guò)不斷的整合收購(gòu),全球半導(dǎo)體硅片行業(yè)由分散走向集中, 2019 年全球前五大硅片廠商合計(jì)市占率超過(guò) 90%。

半導(dǎo)體硅片市場(chǎng)

1 全球半導(dǎo)體硅片行業(yè)由分散到集中

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在國(guó)際關(guān)系緊張的情況下, 半導(dǎo)體供應(yīng)鏈安全成為各國(guó)政府和企業(yè)的關(guān)注重點(diǎn),半導(dǎo)體硅片作為核心原材料, 本土供應(yīng)需求強(qiáng)烈,2022 年中國(guó)臺(tái)灣環(huán)球晶圓收購(gòu)德國(guó)世創(chuàng)電子因未獲德國(guó)審核 通過(guò)而宣告失敗。在以中國(guó)大陸半導(dǎo)體硅片廠商為代表的供給影響下,半導(dǎo)體硅 片行業(yè)的競(jìng)爭(zhēng)格局有望發(fā)生改變,全球市場(chǎng)集中度有望下降。根據(jù) SEMI 的數(shù)據(jù), 2020 年全球前三大半導(dǎo)體硅片廠商合計(jì)市占率由 2019 年的 68.2%下降至 63.8%; 前五大廠商合計(jì)市占率由 92.6%下降至 86.6%。


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