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發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
在LED外延及芯片制造領(lǐng)域,濕法設(shè)備占據(jù)約40%以上的工藝,隨著工藝技術(shù)的不斷發(fā)展,濕法設(shè)備已經(jīng)成為LED外延及芯片制造領(lǐng)域的關(guān)鍵設(shè)備,如SPM酸清洗、有機(jī)清洗、顯影、去膠、ITO蝕刻、BOE蝕刻、PSS高溫側(cè)腐、下蠟、勻膠、甩干、掩膜版清洗等。華林科納(江蘇)CSE深入研究LED生產(chǎn)工藝,現(xiàn)已形成可滿足LED產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目需求的全自動濕法工藝標(biāo)準(zhǔn)成套設(shè)備。 LED 芯片的制造工藝流程為:外延片→清洗→鍍透明電極層→透明電極圖形光刻→腐蝕→去膠→平臺圖形光刻→干法刻蝕→去膠→退火→SiO2 沉積→窗口圖形光刻→SiO2腐蝕→去膠→N極圖形光刻→預(yù)清洗→鍍膜→剝離→退火→P 極圖形光刻→鍍膜→剝離→研磨→切割→芯片→成品測試。 CSE-外延片清洗機(jī)設(shè)備 設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-外延片清洗機(jī)設(shè)備可處理晶圓尺寸2”-12”可處理晶圓材料硅、砷化鎵、磷化銦、氮化鎵、碳化硅、鈮酸鋰、鉭酸鋰等應(yīng)用領(lǐng)域集成電路、聲表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先進(jìn)封裝等專有技術(shù)系統(tǒng)潔凈性技術(shù)均勻性技術(shù)晶圓片N2干燥技術(shù)模塊化系統(tǒng)集成技術(shù)自動傳輸及精確控制技術(shù)溶液溫度、流量和壓力的精確控制技術(shù)主要技術(shù)特點(diǎn)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)緊湊、安全腔體獨(dú)立密封,具有多種功能可實(shí)現(xiàn)晶圓干進(jìn)干出采用工控機(jī)控制,功能強(qiáng)大,操作簡便可根據(jù)用戶要求提供個性化解決方案設(shè)備制造商華林科納(江蘇)半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 regal-bio.cn 400-8768-096 ;18915583058更多的外延片清洗設(shè)備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(regal-bio.cn),現(xiàn)在熱線咨詢400-8798-096可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體行業(yè)相關(guān)清洗設(shè)備解決方案。
發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
旋轉(zhuǎn)式噴鍍臺結(jié)合微組裝工藝對鍍制工藝的小批量、多規(guī)格和特殊應(yīng)用要求等特點(diǎn),在6" (150mm)晶圓電鍍系統(tǒng)中采用了傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍單元分由兩個部分組成,一為陰極夾具、旋轉(zhuǎn)單元、導(dǎo)線電刷、N2 保護(hù)單元組成的陰極回轉(zhuǎn)體,二為三角形槽體、陽極和電力線擋板組成的陽極腔。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍結(jié)構(gòu)示意圖如下:從鍍制結(jié)構(gòu)方式、鍍制工藝應(yīng)用分析可以看出,采用傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍有以下幾種優(yōu)勢。一是這種結(jié)構(gòu)方式易實(shí)現(xiàn)槽體密封和附加N2 保護(hù)功能。二是在這種鍍制工藝中,陰極的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動使槽內(nèi)電場不均問題得以解決,從而提高了鍍制的均勻性。三是呈45°傾斜加陰極旋轉(zhuǎn)的方式,可以較容易的祛除晶圓表面的氣泡附著及“產(chǎn)生”氣泡的消除。四是采用了多微孔進(jìn)行鍍液噴射,實(shí)現(xiàn)攪拌功能,消除局部PH值、溫度、離子濃度等不均勻帶來的影響。五是采用三角形鍍槽設(shè)計(jì)最大限度的減少了鍍液的消耗。六是該鍍制結(jié)構(gòu)方式可以滿足多品種、小批量、低成本的生產(chǎn)需求。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)、工藝優(yōu)勢斜式三角鍍槽結(jié)構(gòu)本系統(tǒng)采用傾斜式三角形鍍槽結(jié)構(gòu),鍍槽入口溢流口均與三角形斜邊平行,可得到穩(wěn)定且不易積累氣泡的流場環(huán)境。通過進(jìn)行相關(guān)模擬、仿真和驗(yàn)證,鍍液入口采用扇形噴咀式結(jié)構(gòu),可保證鍍液在平行于陰極表面方向上形成均勻而穩(wěn)定的流場。從而通過改變流場的方法改善了鍍層的均勻性。該結(jié)構(gòu)的另一優(yōu)點(diǎn)可使電鍍液的用量減至最少程度。 華林科納(江蘇)CSE采用傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍方法進(jìn)行晶圓電鍍工藝處理,由于結(jié)構(gòu)上的特點(diǎn),該方法經(jīng)實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證具有:①結(jié)構(gòu)簡單;②工藝參數(shù)控制容易;③有利氣泡的消除;④鍍制均勻性得到提高;⑤鍍制溶液用量少。該方法尤其適應(yīng)于小批量、多規(guī)格的電鍍工藝,同時可以取得較好的鍍制均勻性。圖6為我們所研制的150mm晶圓傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍系統(tǒng),目前已批量生產(chǎn)并在工藝線上得到較好的應(yīng)用,產(chǎn)品已通過技術(shù)定型鑒定和用戶驗(yàn)收。實(shí)現(xiàn)的主要工藝指標(biāo):最...
發(fā)布時間: 2016 - 06 - 22
雙腔甩干機(jī)1. 應(yīng)用范圍:l 本機(jī)臺適用於半導(dǎo)體2”4”6”8”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 設(shè)備為垂直式雙槽體機(jī)臺,可同Run 50片.l 可對旋乾步驟進(jìn)行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設(shè)備已超過20年以上的應(yīng)用馬達(dá)控制系統(tǒng)設(shè)計(jì), 高穩(wěn)定度Rotor 設(shè)計(jì), 震動值均控制於300 um 以下.l 高潔淨(jìng)設(shè)計(jì),微塵控制於每次運(yùn)轉(zhuǎn)增加量, 0.3um , 30顆以下.   2. 操作流程3. 圖示 4. 規(guī)格l 機(jī)臺內(nèi)皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達(dá): DC無刷馬達(dá)750Wl 真空負(fù)壓軸封設(shè)計(jì),隔離槽外污染l 不銹鋼N2過濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測保護(hù)(加熱器空燒保護(hù))l 槽外貼Silicon材質(zhì)加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開關(guān)90°C OFF 70°C ON)l  Viton材質(zhì)充氣式氣囊及槽後密封環(huán),保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經(jīng)拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉(zhuǎn)子,並按客戶需求指定使用訂做l 轉(zhuǎn)子經(jīng)拋光及電解研磨,並做動態(tài)平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂故障碼功能: 門鎖警告,氣體不足,傳動異常警告 5. 電控系統(tǒng)l  控制器操作介面: 7”記憶人機(jī)+ PLC可程式自動化控制器(人機(jī) Touch Screen,整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/,皆可從操作螢?zāi)簧闲薷摹?#216; 儲存能力記憶模組...
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 07
枚葉式清洗機(jī)-華林科納CSE華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-單片枚葉式洗凈裝置的特長:單片式清洗裝置的優(yōu)點(diǎn)(與浸漬.槽式比較)1.晶片表面的微粒數(shù)非常少(到25nm可對應(yīng))例:附著粒子數(shù)…10個/W以下(0.08UM以上粒子)(參考)槽式200個/W2.藥液純水的消費(fèi)量少藥液…(例)1%DHF的情況  20L/日純水...每處理一枚晶片0.5-1L/分3.小裝置size(根據(jù)每個客戶可以定制) 液體濺射(塵埃強(qiáng)制除去)  (推薦)清洗方法單片式裝置的Particle再附著問題   更多的半導(dǎo)體單片枚葉式濕法腐蝕清洗設(shè)備相關(guān)信息可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(www.hlkncas.com),現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096;18913575037可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體清洗解決方案。
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 07
自動供酸系統(tǒng)(CDS)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-CDS自動供酸系統(tǒng) 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進(jìn)行配送,經(jīng)管道至設(shè)備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點(diǎn);具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩涌刂颇J?、自動控制模式設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-CDS自動供酸系統(tǒng)設(shè)備型號CSE-CDS-N1507設(shè)計(jì)基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房內(nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房;3. 設(shè)備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運(yùn)送到制程使用點(diǎn);5. 過濾器:配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學(xué)液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質(zhì)的進(jìn)口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān);8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報(bào)功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能:每種化學(xué)液體配兩個桶(自動切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動化與親和力。在...
發(fā)布時間: 2018 - 01 - 23
單片清洗機(jī)-華林科納CSESingle wafer cleaner system華林科納(江蘇)CSE-自動單片式腐蝕清洗機(jī)應(yīng)用于清洗(包括光刻板清洗)刻蝕 去膠 金屬剝離等;可處理晶圓尺寸2'-12';可處理晶圓材料:硅 砷化鎵 磷化銦 氮化鎵 碳化硅 鈮酸鋰 鉭酸鋰等;主要應(yīng)用領(lǐng)域:集成電路   聲表面波器件  微波毫米波器件  MEMS  先進(jìn)封裝等  設(shè) 備 名 稱CSE-單片清洗機(jī)類  型單片式適 用 領(lǐng) 域半導(dǎo)體、太陽能、液晶、MEMS等清 洗 方 式2英寸——12英寸設(shè)備穩(wěn)定性1、≥0.2um顆粒少于10顆2、金屬附著量:3E10 atoms/ cm²3、純水消耗量:1L/min/片4、蝕刻均一性良好(SiO?氧化膜被稀釋HF處理):≤2%5、干燥時間:≤20S6、藥液回收率:>95%單片式優(yōu)點(diǎn)1、單片處理時間短(相較于槽式清洗機(jī))2、節(jié)約成本(藥液循環(huán)利用,消耗量遠(yuǎn)低于槽式)3、良品率高4、有效避免邊緣再附著5、立體層疊式結(jié)構(gòu),占地面積小 更多的單片(枚葉)式清洗相關(guān)設(shè)備可以關(guān)注華林科納(江蘇)半導(dǎo)體官網(wǎng),關(guān)注http://regal-bio.cn ,400-8768-096,18913575037
發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
氫氟酸HF自動供液系統(tǒng)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-氫氟酸供液系統(tǒng) 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進(jìn)行配送,經(jīng)管道至設(shè)備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點(diǎn);具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩涌刂颇J?、自動控制模式 設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-氫氟酸(HF)供液系統(tǒng)設(shè)備型號CSE-CDS-N2601設(shè)計(jì)基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房內(nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房;3. 設(shè)備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運(yùn)送到制程使用點(diǎn);5. 過濾器:配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學(xué)液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質(zhì)的進(jìn)口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān);8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報(bào)功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能:每種化學(xué)液體配兩個桶(自動切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動化...
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玻璃的超聲波精密清洗及其評價(jià)方法

時間: 2021-11-19
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玻璃的超聲波精密清洗及其評價(jià)方法

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引言

? ? ? 近年來,應(yīng)用超聲波的精密清洗法被用于光學(xué)透鏡、液晶用玻璃板、半導(dǎo)體晶圓等的清洗。 本文概述了超聲波精密清洗法和玻璃表面的清洗度評價(jià)方法。

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超聲波的發(fā)生法

? ? ? 超聲波也可以通過流體空洞內(nèi)的共振和機(jī)械快門引起的流體斷續(xù)(警報(bào)器)得到,現(xiàn)在主要使用的產(chǎn)生方法是,如圖1所示,首先通過振蕩器產(chǎn)生電振動能,將其加入到被稱為振動子的電聲轉(zhuǎn)換器中,轉(zhuǎn)換成機(jī)械振動能,向與該振動子接觸的音響傳遞介質(zhì)中輻射超聲波的方法。

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超音波精密洗浄方法

? ? ? 作為光學(xué)透鏡、玻璃板、液晶用玻璃板等的清洗,以及半導(dǎo)體晶圓、玻璃掩膜等的清洗,近年來在精密清洗領(lǐng)域使用了應(yīng)用超聲波的多槽式清洗系統(tǒng)。作為編入清洗系統(tǒng)的裝置,有手動進(jìn)給式和自動進(jìn)給方式。清洗裝置的系統(tǒng)因其被清洗物的清洗目的不同而不同,作為光學(xué)透鏡、玻璃板等多槽式清洗工序,表2~4工序使用最多。 另外,外觀如照片1所示。

?玻璃的超聲波精密清洗及其評價(jià)方法

2 多槽式洗浄工程

玻璃的超聲波精密清洗及其評價(jià)方法?

4 多槽式洗浄工程

? ? ? 清洗工序的主要液體組成和液體管理如下所示:

? ? ? 有機(jī)溶劑。作為溶解力優(yōu)異的有機(jī)溶劑,一般使用三氯乙烯、全氯乙烯、1.1.1-三氯乙烷、二氯甲烷、氟利昂等。雖然根據(jù)污染的種類多少有些不同,但是有機(jī)溶劑的化學(xué)穩(wěn)定性好,溶解力高是很重要的,因此三氯乙烯被使用最多。 作為有機(jī)溶劑的液體管理,比重管理是有效的。 另外,根據(jù)有機(jī)溶劑的種類不同,由于添加了穩(wěn)定劑,一旦混入水分,就會慢慢發(fā)生水解,生成酸,因此需要通過pH值管理,定期更換液體。

水溶性洗滌劑。作為水溶性洗滌劑,使用合成洗滌劑。 該裝置由陰離子或非離子表面活性劑和助劑組成,助劑具有增加表面活性劑的活性力的輔助作用,并且對于去除無機(jī)物質(zhì)是有效的。 另外,根據(jù)目的,還使用了有機(jī)溶劑+表面活性劑的方法。 水溶性洗滌劑由于油脂類的混入,去污力會降低,所以一般需要混入2~5%左右進(jìn)行更換。

? ? ? 干燥。在用水溶性洗滌劑洗滌后,用市水、純水等進(jìn)行充分的漂洗過程,以獲得異氟丙醇。在利用I.P.A等進(jìn)行水置換后,作為干燥工序,多采用利用氟利昂蒸汽的干燥方式(表2的方式)。在這種情況下,異丙醇的含水量增加,會降低水-醇的置換效率,導(dǎo)致洗滌后出現(xiàn)色斑,因此有必要通過比重管理進(jìn)行監(jiān)測。另外,由于將I.P.A帶入氟利昂蒸汽槽,因此在氟利昂液的再循環(huán)中安裝水洗式水分離器。 另外,作為蒸汽清洗方式,利用I.P.A蒸汽,取得與前槽的溫度差,提高蒸汽清洗效果(表3的方式)。 像這樣,作為水置換―干燥,有I.P.A、氟利昂的方式,但考慮到I.P.A有引燃的危險(xiǎn)性,因此必須對裝置使用的電裝品實(shí)施防爆對策,最近,氟利昂脫水方式、熱風(fēng)干燥方式(表4)也被廣泛使用。

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玻璃板表面清潔度的評價(jià)方法

? ? ? 為了判定玻璃板表面清洗后的清潔度,有很多的評價(jià)方法,有必要根據(jù)作為目的的清潔度、作為問題的污染物的種類、評價(jià)的時機(jī)(時期、氣氛條件)等,選擇最合適的方法。 本文記述了作為評價(jià)方法最普遍的方法的目測評價(jià)方法和接觸角評價(jià)方法。

? ? ? 目視評估方法:這是用肉眼直接觀察污染狀態(tài)的方法,放大顯微鏡也可作為輔助使用。 在判定時,需要若干經(jīng)驗(yàn),但一般來說,缺乏定量化,根據(jù)污染的種類和表面狀態(tài),很難進(jìn)行正確的判定。也有使用光學(xué)顯微鏡對光學(xué)研磨過的玻璃等洗凈前后的粒子數(shù)進(jìn)行計(jì)數(shù),比較清潔度的方法。還有用布、濾紙比較判斷污染表面、洗滌前后的方法,以及粘貼透明膠等比較判斷洗滌前后污染的附著狀態(tài)的方法。通過在玻璃板的表面上吹氣并從粘附到表面的微小水滴的圖案確定清潔度的方法,可以通過視覺觀察容易且快速地確定清潔度。浸泡在純凈的水中,瀝干水分,觀察表面水的附著狀態(tài)。 在清潔的表面上,水膜均勻,如果有污垢附著,就不會形成水膜,因?yàn)橛信懦馑牟糠郑院苋菀着袛?。用染料染色,吸附碘,使其著色,通過目視觀察著色變化進(jìn)行判斷。 特別是對于油性污垢等是有用的。

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接觸角法:

? ? ? 目視評價(jià)方法是用肉眼觀察玻璃表面的潤濕性來評價(jià)清潔度,但由于缺乏定量性,作為用數(shù)值表現(xiàn)潤濕性的方法,使用接觸角測量法。據(jù)說接觸角越小,潤濕張力越大,潤濕性越好。 根據(jù)潤濕性進(jìn)行評價(jià)時,一般使用純水作為液體,固體表面上的水滴接觸角較大時,其表面被疏水性物質(zhì)污染,其較小時,則判定為被凈化。利用低倍率顯微鏡,制作小液滴的放大像,在液滴的接點(diǎn)處,旋轉(zhuǎn)視野中的直線,讀出此時的角度。通過顯微鏡物鏡投影液滴,通過攝影進(jìn)行放大,與放大影像法相同,通過求出h、r來求出接觸角θ。玻璃表面的清洗條件與潤濕性的關(guān)系如圖2所示。當(dāng)疏水性有機(jī)物質(zhì)作為污垢附著在固體表面時,水的接觸角很好地反映了其附著狀況,因此作為清潔度的判定方法是非常有用的,被廣泛使用。將液滴(水、酒精等)放置在試料上,通過潤濕測量液滴的擴(kuò)散方式(是否均勻擴(kuò)散,同時保持圓形的清潔邊緣)和液滴直徑大小的方法。作為聚乙烯和聚丙烯薄膜的潤濕量表的JIS試驗(yàn)法中規(guī)定的潤濕指數(shù)測定方法。

? ? ? 表5顯示的是標(biāo)準(zhǔn)液的組成和表面張力的值。 通過該潤濕指數(shù)標(biāo)準(zhǔn)液,可以判斷玻璃表面的清潔度。 也就是說,將表2的任意標(biāo)準(zhǔn)液充分浸泡在拭子中后,將其以線狀向一定方向快速移動涂抹在固體表面。 如果液膜沒有破裂,保持2秒以上的涂敷狀態(tài),則判斷該表面被該標(biāo)準(zhǔn)液浸濕。 在這種情況下,進(jìn)一步進(jìn)入下面的表面張力高的混合液。相反,當(dāng)液膜在2秒以內(nèi)破裂或整體發(fā)生收縮時,則進(jìn)入下一個表面張力較低的混合液。以這種方式,從能夠潤濕固體表面的混合液中獲得具有最高表面張力的混合液。潤濕指數(shù)越大,表明其表面越清潔。另外,該方法需要根據(jù)測量時的溫濕度進(jìn)行修正。另外,為了不讓標(biāo)準(zhǔn)液被污染,還需要注意每次更換棉簽等。

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其他評估方法

? ? ?(1)根據(jù)摩擦系數(shù)的評價(jià)。(2)根據(jù)粘著性的評價(jià)膠帶的剝離試驗(yàn);粘著試驗(yàn)。(3)污漬的提取,根據(jù)濃縮測量法的評價(jià):殘留離子濃度測量;離子色譜(4)放射性分析評價(jià):放射性分析:無線電示蹤法(5)通過光學(xué)方法的評價(jià):紅外吸收譜;可見·紫外線吸收光譜;測音吸收光譜;偏振分析法(橢偏法);激光傳感。(6)通過電的方法的評價(jià);(7)通過分子分光學(xué)的方法的評價(jià);X射線光電子譜、熒光X射線分析法、俄歇電子譜、電子激發(fā)X射線微分析法、二次離子質(zhì)譜、離子散射譜和等離子體色譜


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3

SKYPE 設(shè)置

4

阿里旺旺設(shè)置

2

MSN設(shè)置

5

電話號碼管理

  • 400-8798-096
6

二維碼管理

8

郵箱管理

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