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引言

? ? ? 單晶片兆頻超聲波清洗機(jī)的聲音分布通過(guò)晶片清洗測(cè)試、視覺(jué)觀察、聲音測(cè)量和建模結(jié)果來(lái)表征。該清潔器由一個(gè)水平晶圓旋轉(zhuǎn)器和一個(gè)兆頻超聲波換能器/發(fā)射器組件組成。聲音通過(guò)液體彎月面從換能器組件傳輸?shù)剿绞舻骄?。聲音可以從石英棒沿徑向和軸向傳播。通過(guò)改變換能器和傳輸部件的參數(shù)，可以控制來(lái)自石英棒的徑向和軸向聲音傳輸?shù)某潭取?/span>

? ? ? 雖然兆頻超聲波清洗在半導(dǎo)體工業(yè)中被廣泛使用，但是基本的物理過(guò)程還沒(méi)有被完全理解。除了了解顆粒去除的機(jī)理，還通過(guò)實(shí)驗(yàn)和建模研究了清潔室內(nèi)的聲音分布。

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實(shí)驗(yàn)

? ? ? 清洗實(shí)驗(yàn)是在VERTEQ金手指，一個(gè)單一的晶片，兆頻超聲波清洗機(jī)(圖1和2)中完成的。

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圖2 巨氣子能量傳播和液體分布示意圖

? ? ? 該模塊包括:(1)晶片卡盤(pán)和旋轉(zhuǎn)器，(2)兆頻超聲波換能器組件和(3)化學(xué)輸送系統(tǒng)。兆頻超聲波組件由壓電換能器組件組成，該組件連接到石英棒上。

? ? ? 晶圓制備：漿料污染的氧化物晶片通過(guò)以下方法制備:(1)在水中預(yù)濕晶片，(2)在Cabot SS-25漿料浴中浸漬10秒，(3)去除并置于稀釋的表面活性劑溶液(Wako)中10秒，和(4)使用前在旋轉(zhuǎn)干燥器中干燥。

? ? ? 聲音測(cè)量：用兆頻超聲波空化儀測(cè)量液體中空化的能量密度。該儀器由一個(gè)連接到電子外殼的傳感探頭組成。該儀表測(cè)量?jī)?nèi)爆溶液氣泡的氣穴現(xiàn)象以及壓力傳感器產(chǎn)生的聲波。電表每秒測(cè)量?jī)纱文芰俊?/span>

? ? ? 建模：使用有限差分法計(jì)算二維聲波方程的近似解。用戶定義的參數(shù)包括幾何形狀（聲源、發(fā)射器和接收器）、材料的物理特性、邊界條件、聲源條件、接收器條件和控制模擬的參數(shù)。

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結(jié)果和討論

? ? ? 在正常處理過(guò)程中，晶片在施加兆頻超聲波能量的同時(shí)旋轉(zhuǎn)。為了更好地理解聲音分布，進(jìn)行了“靜態(tài)”晶片清潔測(cè)試，在此期間晶片沒(méi)有旋轉(zhuǎn)。圖3所示為在這種條件下處理受漿料污染的晶片后的缺陷圖。缺陷圖是三種不同傳感器設(shè)置條件下處理的代表性示例。圖3還顯示了石英棒和液體分配器的方向。不同的傳感器條件產(chǎn)生不同的聲音模式。徑向分量與軸向分量的比率可以有很大的改變?。

? ? ? 使用實(shí)驗(yàn)部分描述的探針進(jìn)行聲音測(cè)量。圖4顯示了圖3中傳感器條件A和B的歸一化強(qiáng)度值.晶片上的清潔區(qū)域和聲音探頭的高信號(hào)區(qū)域之間有很強(qiáng)的相關(guān)性。與晶圓清洗測(cè)試一樣，傳感器條件A的軸向分量明顯高于條件B。

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圖4 兆頻超聲波探頭強(qiáng)度測(cè)量-標(biāo)準(zhǔn)化

? ? ? 聲音通過(guò)石英棒的透射率也用商業(yè)軟件模擬(2D)。網(wǎng)格示意圖如圖5所示，輸入換能器、石英棒、晶片、水層和接收器的幾何和物理參數(shù)。石英棒形狀近似為矩形，沒(méi)有考慮連接到換能器組件的彎曲部分。換能器形狀也是近似的。石英棒的長(zhǎng)度和寬度、水層和晶片的厚度與實(shí)驗(yàn)值一致。接收器放置在棒下的水層中，靠近石英棒的末端。這樣做是為了幫助理解前面實(shí)驗(yàn)中看到的不同軸向和徑向分量。歸一化為聲源幅度1，換能器條件A在接收器1處產(chǎn)生0.2的信號(hào).由于這個(gè)接收器正好放在桿的內(nèi)部，低幅度信號(hào)表明很少聲音反射回桿中。換句話說(shuō)，聲音在軸向上被有效地傳輸。這與晶圓清洗測(cè)試一致。另一方面，傳感器條件B產(chǎn)生了接收器1的歸一化信號(hào)為1.1，表明徑向傳輸效率低。這也與晶圓清洗數(shù)據(jù)一致。

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圖5 用于二維模擬的示意圖

? ? ? 還評(píng)估了沒(méi)有石英棒的換能器組件的聲音分布。圓柱形傳感器底座的平面水平放置，并覆蓋有水。打開(kāi)傳感器電源后，觀察水流模式。

? ? ? 圖6顯示了傳感器狀態(tài)A、B和c的照片。水的振動(dòng)模式與清洗試驗(yàn)有明顯的相關(guān)性。條件A顯示軸向振動(dòng)；“靜態(tài)”晶圓清洗測(cè)試也顯示了同樣的情況。條件B主要顯示徑向振動(dòng)。條件C顯示軸向和徑向分布。

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總結(jié)

? ? ? 已經(jīng)證明了對(duì)單晶片兆頻超聲波清洗機(jī)的聲音分布控制。這是通過(guò)改變傳感器組件的工作條件來(lái)實(shí)現(xiàn)的。晶片清洗測(cè)試、聲音探針測(cè)量、視覺(jué)觀察和建模顯示了徑向:軸向聲強(qiáng)的定性相關(guān)性。單晶片清潔器可以與前端和后端應(yīng)用中的互補(bǔ)處理工具集成。對(duì)于特定應(yīng)用的清潔挑戰(zhàn)，可能需要不同的操作條件。