久久国产亚洲精品超热碰_日本福利在线观看_亚洲AV永久无码5G_女生私密在线一区二区_国产精品视频大全_三级国产亚洲_无码人妻中文二区_岳装睡到我房间和我做_影音先锋精品网址_黄色污污视频网站

歡迎訪問華林科納(江蘇)半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)有限公司官網(wǎng)
手機(jī)網(wǎng)站
始于90年代末

濕法制程整體解決方案提供商

--- 全國服務(wù)熱線 --- 0513-87733829
 
 
 
新聞資訊 新聞中心
400-8798-096
聯(lián)系電話
聯(lián)系我們
掃一掃
QQ客服
SKYPE客服
旺旺客服
新浪微博
分享到豆瓣
推薦產(chǎn)品 / 產(chǎn)品中心
發(fā)布時(shí)間: 2017 - 12 - 06
在LED外延及芯片制造領(lǐng)域,濕法設(shè)備占據(jù)約40%以上的工藝,隨著工藝技術(shù)的不斷發(fā)展,濕法設(shè)備已經(jīng)成為LED外延及芯片制造領(lǐng)域的關(guān)鍵設(shè)備,如SPM酸清洗、有機(jī)清洗、顯影、去膠、ITO蝕刻、BOE蝕刻、PSS高溫側(cè)腐、下蠟、勻膠、甩干、掩膜版清洗等。華林科納(江蘇)CSE深入研究LED生產(chǎn)工藝,現(xiàn)已形成可滿足LED產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目需求的全自動(dòng)濕法工藝標(biāo)準(zhǔn)成套設(shè)備。 LED 芯片的制造工藝流程為:外延片→清洗→鍍透明電極層→透明電極圖形光刻→腐蝕→去膠→平臺(tái)圖形光刻→干法刻蝕→去膠→退火→SiO2 沉積→窗口圖形光刻→SiO2腐蝕→去膠→N極圖形光刻→預(yù)清洗→鍍膜→剝離→退火→P 極圖形光刻→鍍膜→剝離→研磨→切割→芯片→成品測試。 CSE-外延片清洗機(jī)設(shè)備 設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-外延片清洗機(jī)設(shè)備可處理晶圓尺寸2”-12”可處理晶圓材料硅、砷化鎵、磷化銦、氮化鎵、碳化硅、鈮酸鋰、鉭酸鋰等應(yīng)用領(lǐng)域集成電路、聲表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先進(jìn)封裝等專有技術(shù)系統(tǒng)潔凈性技術(shù)均勻性技術(shù)晶圓片N2干燥技術(shù)模塊化系統(tǒng)集成技術(shù)自動(dòng)傳輸及精確控制技術(shù)溶液溫度、流量和壓力的精確控制技術(shù)主要技術(shù)特點(diǎn)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)緊湊、安全腔體獨(dú)立密封,具有多種功能可實(shí)現(xiàn)晶圓干進(jìn)干出采用工控機(jī)控制,功能強(qiáng)大,操作簡便可根據(jù)用戶要求提供個(gè)性化解決方案設(shè)備制造商華林科納(江蘇)半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 regal-bio.cn 400-8768-096 ;18915583058更多的外延片清洗設(shè)備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(regal-bio.cn),現(xiàn)在熱線咨詢400-8798-096可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體行業(yè)相關(guān)清洗設(shè)備解決方案。
發(fā)布時(shí)間: 2017 - 12 - 06
旋轉(zhuǎn)式噴鍍臺(tái)結(jié)合微組裝工藝對鍍制工藝的小批量、多規(guī)格和特殊應(yīng)用要求等特點(diǎn),在6" (150mm)晶圓電鍍系統(tǒng)中采用了傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍單元分由兩個(gè)部分組成,一為陰極夾具、旋轉(zhuǎn)單元、導(dǎo)線電刷、N2 保護(hù)單元組成的陰極回轉(zhuǎn)體,二為三角形槽體、陽極和電力線擋板組成的陽極腔。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍結(jié)構(gòu)示意圖如下:從鍍制結(jié)構(gòu)方式、鍍制工藝應(yīng)用分析可以看出,采用傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍有以下幾種優(yōu)勢。一是這種結(jié)構(gòu)方式易實(shí)現(xiàn)槽體密封和附加N2 保護(hù)功能。二是在這種鍍制工藝中,陰極的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)使槽內(nèi)電場不均問題得以解決,從而提高了鍍制的均勻性。三是呈45°傾斜加陰極旋轉(zhuǎn)的方式,可以較容易的祛除晶圓表面的氣泡附著及“產(chǎn)生”氣泡的消除。四是采用了多微孔進(jìn)行鍍液噴射,實(shí)現(xiàn)攪拌功能,消除局部PH值、溫度、離子濃度等不均勻帶來的影響。五是采用三角形鍍槽設(shè)計(jì)最大限度的減少了鍍液的消耗。六是該鍍制結(jié)構(gòu)方式可以滿足多品種、小批量、低成本的生產(chǎn)需求。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)、工藝優(yōu)勢斜式三角鍍槽結(jié)構(gòu)本系統(tǒng)采用傾斜式三角形鍍槽結(jié)構(gòu),鍍槽入口溢流口均與三角形斜邊平行,可得到穩(wěn)定且不易積累氣泡的流場環(huán)境。通過進(jìn)行相關(guān)模擬、仿真和驗(yàn)證,鍍液入口采用扇形噴咀式結(jié)構(gòu),可保證鍍液在平行于陰極表面方向上形成均勻而穩(wěn)定的流場。從而通過改變流場的方法改善了鍍層的均勻性。該結(jié)構(gòu)的另一優(yōu)點(diǎn)可使電鍍液的用量減至最少程度。 華林科納(江蘇)CSE采用傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍方法進(jìn)行晶圓電鍍工藝處理,由于結(jié)構(gòu)上的特點(diǎn),該方法經(jīng)實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證具有:①結(jié)構(gòu)簡單;②工藝參數(shù)控制容易;③有利氣泡的消除;④鍍制均勻性得到提高;⑤鍍制溶液用量少。該方法尤其適應(yīng)于小批量、多規(guī)格的電鍍工藝,同時(shí)可以取得較好的鍍制均勻性。圖6為我們所研制的150mm晶圓傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍系統(tǒng),目前已批量生產(chǎn)并在工藝線上得到較好的應(yīng)用,產(chǎn)品已通過技術(shù)定型鑒定和用戶驗(yàn)收。實(shí)現(xiàn)的主要工藝指標(biāo):最...
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 06 - 22
雙腔甩干機(jī)1. 應(yīng)用范圍:l 本機(jī)臺(tái)適用於半導(dǎo)體2”4”6”8”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 設(shè)備為垂直式雙槽體機(jī)臺(tái),可同Run 50片.l 可對旋乾步驟進(jìn)行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設(shè)備已超過20年以上的應(yīng)用馬達(dá)控制系統(tǒng)設(shè)計(jì), 高穩(wěn)定度Rotor 設(shè)計(jì), 震動(dòng)值均控制於300 um 以下.l 高潔淨(jìng)設(shè)計(jì),微塵控制於每次運(yùn)轉(zhuǎn)增加量, 0.3um , 30顆以下.   2. 操作流程3. 圖示 4. 規(guī)格l 機(jī)臺(tái)內(nèi)皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達(dá): DC無刷馬達(dá)750Wl 真空負(fù)壓軸封設(shè)計(jì),隔離槽外污染l 不銹鋼N2過濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測保護(hù)(加熱器空燒保護(hù))l 槽外貼Silicon材質(zhì)加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開關(guān)90°C OFF 70°C ON)l  Viton材質(zhì)充氣式氣囊及槽後密封環(huán),保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經(jīng)拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉(zhuǎn)子,並按客戶需求指定使用訂做l 轉(zhuǎn)子經(jīng)拋光及電解研磨,並做動(dòng)態(tài)平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂故障碼功能: 門鎖警告,氣體不足,傳動(dòng)異常警告 5. 電控系統(tǒng)l  控制器操作介面: 7”記憶人機(jī)+ PLC可程式自動(dòng)化控制器(人機(jī) Touch Screen,整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲(chǔ)存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/,皆可從操作螢?zāi)簧闲薷摹?#216; 儲(chǔ)存能力記憶模組...
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 03 - 07
枚葉式清洗機(jī)-華林科納CSE華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-單片枚葉式洗凈裝置的特長:單片式清洗裝置的優(yōu)點(diǎn)(與浸漬.槽式比較)1.晶片表面的微粒數(shù)非常少(到25nm可對應(yīng))例:附著粒子數(shù)…10個(gè)/W以下(0.08UM以上粒子)(參考)槽式200個(gè)/W2.藥液純水的消費(fèi)量少藥液…(例)1%DHF的情況  20L/日純水...每處理一枚晶片0.5-1L/分3.小裝置size(根據(jù)每個(gè)客戶可以定制) 液體濺射(塵埃強(qiáng)制除去)  (推薦)清洗方法單片式裝置的Particle再附著問題   更多的半導(dǎo)體單片枚葉式濕法腐蝕清洗設(shè)備相關(guān)信息可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(www.hlkncas.com),現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096;18913575037可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體清洗解決方案。
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 03 - 07
自動(dòng)供酸系統(tǒng)(CDS)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-CDS自動(dòng)供酸系統(tǒng) 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進(jìn)行配送,經(jīng)管道至設(shè)備;具有自動(dòng)化程度高,配比精確,操作簡便等特點(diǎn);具有良好的耐腐蝕性能。控制模式:手動(dòng)控制模式、自動(dòng)控制模式設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-CDS自動(dòng)供酸系統(tǒng)設(shè)備型號CSE-CDS-N1507設(shè)計(jì)基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房內(nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房;3. 設(shè)備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運(yùn)送到制程使用點(diǎn);5. 過濾器:配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學(xué)液體配有兩臺(tái)或者一臺(tái) PTFE材質(zhì)的進(jìn)口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān);8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報(bào)功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能:每種化學(xué)液體配兩個(gè)桶(自動(dòng)切換)、配兩臺(tái)泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動(dòng)化與親和力。在...
發(fā)布時(shí)間: 2018 - 01 - 23
單片清洗機(jī)-華林科納CSESingle wafer cleaner system華林科納(江蘇)CSE-自動(dòng)單片式腐蝕清洗機(jī)應(yīng)用于清洗(包括光刻板清洗)刻蝕 去膠 金屬剝離等;可處理晶圓尺寸2'-12';可處理晶圓材料:硅 砷化鎵 磷化銦 氮化鎵 碳化硅 鈮酸鋰 鉭酸鋰等;主要應(yīng)用領(lǐng)域:集成電路   聲表面波器件  微波毫米波器件  MEMS  先進(jìn)封裝等  設(shè) 備 名 稱CSE-單片清洗機(jī)類  型單片式適 用 領(lǐng) 域半導(dǎo)體、太陽能、液晶、MEMS等清 洗 方 式2英寸——12英寸設(shè)備穩(wěn)定性1、≥0.2um顆粒少于10顆2、金屬附著量:3E10 atoms/ cm²3、純水消耗量:1L/min/片4、蝕刻均一性良好(SiO?氧化膜被稀釋HF處理):≤2%5、干燥時(shí)間:≤20S6、藥液回收率:>95%單片式優(yōu)點(diǎn)1、單片處理時(shí)間短(相較于槽式清洗機(jī))2、節(jié)約成本(藥液循環(huán)利用,消耗量遠(yuǎn)低于槽式)3、良品率高4、有效避免邊緣再附著5、立體層疊式結(jié)構(gòu),占地面積小 更多的單片(枚葉)式清洗相關(guān)設(shè)備可以關(guān)注華林科納(江蘇)半導(dǎo)體官網(wǎng),關(guān)注http://regal-bio.cn ,400-8768-096,18913575037
發(fā)布時(shí)間: 2017 - 12 - 06
氫氟酸HF自動(dòng)供液系統(tǒng)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-氫氟酸供液系統(tǒng) 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進(jìn)行配送,經(jīng)管道至設(shè)備;具有自動(dòng)化程度高,配比精確,操作簡便等特點(diǎn);具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩?dòng)控制模式、自動(dòng)控制模式 設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-氫氟酸(HF)供液系統(tǒng)設(shè)備型號CSE-CDS-N2601設(shè)計(jì)基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房內(nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房;3. 設(shè)備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運(yùn)送到制程使用點(diǎn);5. 過濾器:配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學(xué)液體配有兩臺(tái)或者一臺(tái) PTFE材質(zhì)的進(jìn)口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān);8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報(bào)功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能:每種化學(xué)液體配兩個(gè)桶(自動(dòng)切換)、配兩臺(tái)泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動(dòng)化...
新聞中心 新聞資訊

用于光掩模清潔的兩種兆聲波裝置

時(shí)間: 2021-10-25
點(diǎn)擊次數(shù): 24

用于光掩模清潔的兩種兆聲波裝置

掃碼添加微信,獲取更多半導(dǎo)體相關(guān)資料

引言

? ? ? 濕式光掩模清洗依賴于兆頻超聲波攪拌來增強(qiáng)工藝,但要可靠地最大化粒子去除效率并最小化損壞,還有許多挑戰(zhàn)。隨著向無薄膜EUV掩模的轉(zhuǎn)變,光掩模工藝更容易受到污染,增加了改進(jìn)清潔工藝的緊迫性。這一困難主要是由于無法對聲場進(jìn)行適當(dāng)?shù)臏y量。典型地,關(guān)于聲輸出的所有已知信息是驅(qū)動(dòng)頻率和傳送到換能器的電功率,這兩個(gè)全局參數(shù)很少說明基底上的場分布、基底處聲音的實(shí)際振幅或基底處存在的空化水平(穩(wěn)定和瞬態(tài))。對于給定的超聲過程,空化的振幅在較高的頻率下較低。雖然有幾項(xiàng)關(guān)于1兆赫下粒子去除和模式損傷的研究,但對高于該值的頻率下的空化性能知之甚少。

?

實(shí)驗(yàn)

超聲波源

? ? ? 考慮了兩種不同的兆頻超聲波設(shè)備。一種是一種新穎的設(shè)計(jì),包括一個(gè)耦合到傾斜的截頂石英錐的換能器,該石英錐具有懸浮在襯底上的平坦表面,留下大約4cm×6cm[4]的橢圓形足跡。它通過注入在錐體任一側(cè)的清洗液與襯底耦合。二種設(shè)備是傳統(tǒng)的點(diǎn)簇射器,通過以1.5 L/min的速度流動(dòng)的直徑為4 mm的清潔流體的平滑噴射將噴嘴換能器耦合到基板上方。

聲學(xué)測量方法:

? ? ? 兩種換能器配置的聲學(xué)性能通過各種方法來表征,這些方法的應(yīng)用取決于設(shè)備的幾何形狀及其應(yīng)用模式。在所有情況下,試驗(yàn)均在室溫(22℃)下用去離子水進(jìn)行,過濾至5 m,脫氣至3.5毫克/升O2。校準(zhǔn)的針形水聽器用于測量聲直接場(從聲源傳播)和兩種形式的空化,穩(wěn)定和瞬態(tài),它們是由直接場的存在產(chǎn)生的。已經(jīng)表明,兩種形式的氣穴現(xiàn)象都與清洗效率和損壞密切相關(guān)。掃描水聽器可以繪制壓力分布圖,并且只有當(dāng)沒有明顯的駐波時(shí),才能確定換能器的電聲效率。只有在沒有駐波的情況下,聲強(qiáng)的定義才適用。由于高速噴射和氣泡破裂產(chǎn)生的沖擊波,瞬態(tài)氣穴現(xiàn)象會(huì)產(chǎn)生破壞性影響。為了模擬這種情況,在6 mm的光掩模石英板中嵌入了一個(gè)傳感器,一個(gè)機(jī)動(dòng)掃描系統(tǒng)被用來自動(dòng)繪制帶有針?biāo)犉骱兔嬲謧鞲衅鞯穆晥鰣D(如圖1)。

?

結(jié)果和討論

錐形換能器:

? ? ? 錐形換能器的評估是通過在距離平面1毫米處掃描水聽器,同時(shí)輻射到實(shí)際上的消聲罐中。圖2所示的3兆赫輻射圖呈現(xiàn)出一個(gè)漫射、不規(guī)則但相當(dāng)均勻的場。這是從擴(kuò)展源中預(yù)期的,在擴(kuò)展源中相干干涉將產(chǎn)生λ/2周期性的圖案,并且能量分布在大面積上。這類似于之前工作中發(fā)現(xiàn)的1兆赫錐形換能器的模式。

用于光掩模清潔的兩種兆聲波裝置?

2 ?(左)3兆赫錐形換能器的2D掃描和(右)1兆赫錐形換能器的2D掃描

? ? ? 一旦找到最大壓力的位置,水聽器就被放置在適當(dāng)?shù)奈恢?,?qū)動(dòng)功率從0.5瓦增加到5瓦。使用氣蝕儀進(jìn)行的信號分析顯示,穩(wěn)定氣蝕和瞬態(tài)氣蝕的數(shù)量可以忽略不計(jì)。

? ? ? 穴測量方法基于用壓電傳感器檢測聲發(fā)射以產(chǎn)生壓力譜。頻譜中的不同分量代表來自直接場、穩(wěn)定空化和瞬態(tài)空化的壓力。直接磁場、穩(wěn)定和瞬態(tài)氣穴現(xiàn)象的頻率和壓力以國際單位制記錄。最后,使用紋影成像來可視化換能器和掩模襯底之間的波傳播行為。紋影成像是一種光學(xué)方法,通過檢測折射率的微小變化引起的光衍射,將聲波引起的壓縮轉(zhuǎn)化為光。

?

噴嘴傳感器:

? ? ? 點(diǎn)狀噴頭/噴嘴裝置最初與消聲罐表面接觸,壓力分布在包含噴嘴區(qū)域的10×10毫米見方的區(qū)域。這很好地近似了包含在噴流中的聲輻射,盡管它并不完全相同,因?yàn)閲娏?空氣界面是完全反射的。不出所料,聲壓集中在小于射流的有限區(qū)域,均方根值為幾百千帕.在1瓦和2瓦的設(shè)置下,繪制了兩個(gè)輻射場圖,以確定模式如何隨功率變化。使用相同的兩個(gè)功率設(shè)置來使用傳感光掩模生成地圖,這導(dǎo)致圖案不太均勻。不幸的是,不可能將水聽器或光掩模傳感器放置在峰值壓力位置,因?yàn)槌^1兆帕的壓力可能會(huì)損壞水聽器。

? ? ? 隨后,水聽器被放置在峰值壓力位置,用于兩種功率設(shè)置(1瓦和2瓦),并連接到MCT-2000氣穴分析儀。盡管觀察到的壓力約為0.9兆帕和12兆帕,但僅觀察到少量穩(wěn)定的和可忽略不計(jì)的瞬時(shí)氣穴現(xiàn)象。噴嘴應(yīng)用促使通過將水聽器放置在與射流緊密接觸且靠近噴嘴出口的位置來監(jiān)控波束的可能性。噴嘴和裝有傳感器的光掩模之間的距離是變化的,水聽器和傳感器的值都記錄在每個(gè)位置。圖4顯示了P0隨距離變化的周期性波動(dòng),其中峰值相隔約500微米。

? ? ? 在整個(gè)研究過程中,人們注意到,當(dāng)射流作用于平坦表面時(shí),會(huì)產(chǎn)生高速、低厚度液體的圓形區(qū)域。以每分鐘1升的速度,這個(gè)區(qū)域延伸到距離射流中心約14毫米的地方。為了確定空化如何隨著距射流中心的距離而變化,水聽器被放置在射流的邊緣(距其中心3毫米),連接到空化分析儀,并沿著遠(yuǎn)離射流的直線線性掃描。

?

總結(jié)

? ? ? 雖然頻率和發(fā)電機(jī)功率設(shè)置是等效的,但噴嘴和錐形換能器的聲學(xué)性能有很大不同。顯然,頻率和電能并不是聲學(xué)性能和后續(xù)清潔活動(dòng)的唯一決定因素。

對于相同的輸入功率,來自噴嘴傳感器的直接場壓力輸出大約是來自錐形傳感器的10倍,當(dāng)然是因?yàn)樗恼嫉孛娣e更小。還觀察到,在兩種設(shè)計(jì)中,空化產(chǎn)生的壓力比直接壓力低兩個(gè)數(shù)量級(比在較低頻率清潔環(huán)境中觀察到的值低得多)。

? ? ? 盡管壓力很高,但氣蝕程度很低,這可能是由于使用了脫氣水,而對于錐形傳感器,則是由于壓力很低。根據(jù)射流直徑和水流,估計(jì)平均一個(gè)水分子從進(jìn)入腔室到接觸襯底需要16毫秒。這應(yīng)該是氣泡生長和空化的足夠時(shí)間,然而,由于缺乏駐波,輻射壓力可能是推動(dòng)氣泡穿過邊界層并到達(dá)大塊上的原因——直接場去除氣泡就像去除粒子一樣。與噴嘴相反,錐形裝置在大范圍內(nèi)提供相同的功率,這導(dǎo)致相對較低的氣穴壓力,低于2千帕。

? ? ? 作為一個(gè)實(shí)際的結(jié)果,似乎如果錐形換能器設(shè)計(jì)可以有效地清潔,這可能是一個(gè)解決方案,可以延長工藝窗口的上限,以最小化圖案損壞。


Copyright ©2005 - 2013 華林科納(江蘇)半導(dǎo)體設(shè)備有限公司
犀牛云提供企業(yè)云服務(wù)
華林科納(江蘇)半導(dǎo)體設(shè)備有限公司
地址:中國江蘇南通如皋高新區(qū)桃金東路90號
電話:0513-87733829
Email:xzl1019@aliyun.com
regal-bio.cn

傳真:0513-87733829
郵編:226500


X
1

QQ設(shè)置

3

SKYPE 設(shè)置

4

阿里旺旺設(shè)置

2

MSN設(shè)置

5

電話號碼管理

  • 400-8798-096
6

二維碼管理

8

郵箱管理

展開