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始于90年代末

濕法制程整體解決方案提供商

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發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
在LED外延及芯片制造領域,濕法設備占據(jù)約40%以上的工藝,隨著工藝技術的不斷發(fā)展,濕法設備已經(jīng)成為LED外延及芯片制造領域的關鍵設備,如SPM酸清洗、有機清洗、顯影、去膠、ITO蝕刻、BOE蝕刻、PSS高溫側腐、下蠟、勻膠、甩干、掩膜版清洗等。華林科納(江蘇)CSE深入研究LED生產(chǎn)工藝,現(xiàn)已形成可滿足LED產(chǎn)業(yè)化項目需求的全自動濕法工藝標準成套設備。 LED 芯片的制造工藝流程為:外延片→清洗→鍍透明電極層→透明電極圖形光刻→腐蝕→去膠→平臺圖形光刻→干法刻蝕→去膠→退火→SiO2 沉積→窗口圖形光刻→SiO2腐蝕→去膠→N極圖形光刻→預清洗→鍍膜→剝離→退火→P 極圖形光刻→鍍膜→剝離→研磨→切割→芯片→成品測試。 CSE-外延片清洗機設備 設備名稱華林科納(江蘇)CSE-外延片清洗機設備可處理晶圓尺寸2”-12”可處理晶圓材料硅、砷化鎵、磷化銦、氮化鎵、碳化硅、鈮酸鋰、鉭酸鋰等應用領域集成電路、聲表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先進封裝等專有技術系統(tǒng)潔凈性技術均勻性技術晶圓片N2干燥技術模塊化系統(tǒng)集成技術自動傳輸及精確控制技術溶液溫度、流量和壓力的精確控制技術主要技術特點系統(tǒng)結構緊湊、安全腔體獨立密封,具有多種功能可實現(xiàn)晶圓干進干出采用工控機控制,功能強大,操作簡便可根據(jù)用戶要求提供個性化解決方案設備制造商華林科納(江蘇)半導體設備有限公司 regal-bio.cn 400-8768-096 ;18915583058更多的外延片清洗設備相關資訊可以關注華林科納CSE官網(wǎng)(regal-bio.cn),現(xiàn)在熱線咨詢400-8798-096可立即獲取免費的半導體行業(yè)相關清洗設備解決方案。
發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
旋轉式噴鍍臺結合微組裝工藝對鍍制工藝的小批量、多規(guī)格和特殊應用要求等特點,在6" (150mm)晶圓電鍍系統(tǒng)中采用了傾斜式旋轉噴鍍技術傾斜式旋轉噴鍍單元分由兩個部分組成,一為陰極夾具、旋轉單元、導線電刷、N2 保護單元組成的陰極回轉體,二為三角形槽體、陽極和電力線擋板組成的陽極腔。傾斜旋轉噴鍍結構示意圖如下:從鍍制結構方式、鍍制工藝應用分析可以看出,采用傾斜式旋轉噴鍍有以下幾種優(yōu)勢。一是這種結構方式易實現(xiàn)槽體密封和附加N2 保護功能。二是在這種鍍制工藝中,陰極的旋轉運動使槽內(nèi)電場不均問題得以解決,從而提高了鍍制的均勻性。三是呈45°傾斜加陰極旋轉的方式,可以較容易的祛除晶圓表面的氣泡附著及“產(chǎn)生”氣泡的消除。四是采用了多微孔進行鍍液噴射,實現(xiàn)攪拌功能,消除局部PH值、溫度、離子濃度等不均勻帶來的影響。五是采用三角形鍍槽設計最大限度的減少了鍍液的消耗。六是該鍍制結構方式可以滿足多品種、小批量、低成本的生產(chǎn)需求。傾斜旋轉噴鍍技術、工藝優(yōu)勢斜式三角鍍槽結構本系統(tǒng)采用傾斜式三角形鍍槽結構,鍍槽入口溢流口均與三角形斜邊平行,可得到穩(wěn)定且不易積累氣泡的流場環(huán)境。通過進行相關模擬、仿真和驗證,鍍液入口采用扇形噴咀式結構,可保證鍍液在平行于陰極表面方向上形成均勻而穩(wěn)定的流場。從而通過改變流場的方法改善了鍍層的均勻性。該結構的另一優(yōu)點可使電鍍液的用量減至最少程度。 華林科納(江蘇)CSE采用傾斜旋轉噴鍍方法進行晶圓電鍍工藝處理,由于結構上的特點,該方法經(jīng)實驗驗證具有:①結構簡單;②工藝參數(shù)控制容易;③有利氣泡的消除;④鍍制均勻性得到提高;⑤鍍制溶液用量少。該方法尤其適應于小批量、多規(guī)格的電鍍工藝,同時可以取得較好的鍍制均勻性。圖6為我們所研制的150mm晶圓傾斜旋轉噴鍍系統(tǒng),目前已批量生產(chǎn)并在工藝線上得到較好的應用,產(chǎn)品已通過技術定型鑒定和用戶驗收。實現(xiàn)的主要工藝指標:最...
發(fā)布時間: 2016 - 06 - 22
雙腔甩干機1. 應用范圍:l 本機臺適用於半導體2”4”6”8”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 設備為垂直式雙槽體機臺,可同Run 50片.l 可對旋乾步驟進行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設備已超過20年以上的應用馬達控制系統(tǒng)設計, 高穩(wěn)定度Rotor 設計, 震動值均控制於300 um 以下.l 高潔淨設計,微塵控制於每次運轉增加量, 0.3um , 30顆以下.   2. 操作流程3. 圖示 4. 規(guī)格l 機臺內(nèi)皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達: DC無刷馬達750Wl 真空負壓軸封設計,隔離槽外污染l 不銹鋼N2過濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測保護(加熱器空燒保護)l 槽外貼Silicon材質(zhì)加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開關90°C OFF 70°C ON)l  Viton材質(zhì)充氣式氣囊及槽後密封環(huán),保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經(jīng)拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉子,並按客戶需求指定使用訂做l 轉子經(jīng)拋光及電解研磨,並做動態(tài)平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂故障碼功能: 門鎖警告,氣體不足,傳動異常警告 5. 電控系統(tǒng)l  控制器操作介面: 7”記憶人機+ PLC可程式自動化控制器(人機 Touch Screen,整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/,皆可從操作螢幕上修改。Ø 儲存能力記憶模組...
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 07
枚葉式清洗機-華林科納CSE華林科納(江蘇)半導體CSE-單片枚葉式洗凈裝置的特長:單片式清洗裝置的優(yōu)點(與浸漬.槽式比較)1.晶片表面的微粒數(shù)非常少(到25nm可對應)例:附著粒子數(shù)…10個/W以下(0.08UM以上粒子)(參考)槽式200個/W2.藥液純水的消費量少藥液…(例)1%DHF的情況  20L/日純水...每處理一枚晶片0.5-1L/分3.小裝置size(根據(jù)每個客戶可以定制) 液體濺射(塵埃強制除去)  (推薦)清洗方法單片式裝置的Particle再附著問題   更多的半導體單片枚葉式濕法腐蝕清洗設備相關信息可以關注華林科納CSE官網(wǎng)(www.hlkncas.com),現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096;18913575037可立即獲取免費的半導體清洗解決方案。
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 07
自動供酸系統(tǒng)(CDS)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導體CSE-CDS自動供酸系統(tǒng) 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送,經(jīng)管道至設備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點;具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩涌刂颇J?、自動控制模式設備名稱華林科納(江蘇)CSE-CDS自動供酸系統(tǒng)設備型號CSE-CDS-N1507設計基準1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設置于化學房內(nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學房;3. 設備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點;5. 過濾器:配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質(zhì)的進口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關;8. 所有化學品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統(tǒng)設備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設備主要功能:每種化學液體配兩個桶(自動切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動化與親和力。在...
發(fā)布時間: 2018 - 01 - 23
單片清洗機-華林科納CSESingle wafer cleaner system華林科納(江蘇)CSE-自動單片式腐蝕清洗機應用于清洗(包括光刻板清洗)刻蝕 去膠 金屬剝離等;可處理晶圓尺寸2'-12';可處理晶圓材料:硅 砷化鎵 磷化銦 氮化鎵 碳化硅 鈮酸鋰 鉭酸鋰等;主要應用領域:集成電路   聲表面波器件  微波毫米波器件  MEMS  先進封裝等  設 備 名 稱CSE-單片清洗機類  型單片式適 用 領 域半導體、太陽能、液晶、MEMS等清 洗 方 式2英寸——12英寸設備穩(wěn)定性1、≥0.2um顆粒少于10顆2、金屬附著量:3E10 atoms/ cm²3、純水消耗量:1L/min/片4、蝕刻均一性良好(SiO?氧化膜被稀釋HF處理):≤2%5、干燥時間:≤20S6、藥液回收率:>95%單片式優(yōu)點1、單片處理時間短(相較于槽式清洗機)2、節(jié)約成本(藥液循環(huán)利用,消耗量遠低于槽式)3、良品率高4、有效避免邊緣再附著5、立體層疊式結構,占地面積小 更多的單片(枚葉)式清洗相關設備可以關注華林科納(江蘇)半導體官網(wǎng),關注http://regal-bio.cn ,400-8768-096,18913575037
發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
氫氟酸HF自動供液系統(tǒng)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導體CSE-氫氟酸供液系統(tǒng) 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送,經(jīng)管道至設備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點;具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩涌刂颇J?、自動控制模式 設備名稱華林科納(江蘇)CSE-氫氟酸(HF)供液系統(tǒng)設備型號CSE-CDS-N2601設計基準1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設置于化學房內(nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學房;3. 設備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點;5. 過濾器:配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質(zhì)的進口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關;8. 所有化學品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統(tǒng)設備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設備主要功能:每種化學液體配兩個桶(自動切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動化...
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LCD液晶原理大剖析

時間: 2016-03-23
點擊次數(shù): 134

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?????? LCD(LiquidCrystalDisplay)對于許多的用戶而言可能已經(jīng)不是一個新鮮的名詞,不過這種技術存在的歷史可能遠遠超過了我們的想象――在1888年,一位奧地利的植物學家F.Renitzer便發(fā)現(xiàn)了液晶特殊的物理特性。?
?????? 在85年之后,這一發(fā)現(xiàn)才產(chǎn)生了商業(yè)價值,1973年日本的夏普公司首次將它運用于制作電子計算器的數(shù)字顯示?,F(xiàn)在,LCD是筆記型計算機和掌上計算機的主要顯示設備,在投影機中,它也扮演著非常重要的角色,而且它開始逐漸滲入到桌面顯示器市場中。?

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為什么叫液晶??
?????? 液晶得名于其物理特性:它的分子晶體,不過以液態(tài)存在而非固態(tài)。大多數(shù)液晶都屬于有機復合物。這些晶體分子的液體特性使得它具有兩種非常有用的特點:如果你讓電流通過液晶層,這些分子將會以電流的流向方向進行排列,如果沒有電流,它們將會彼此平行排列。如果你提供了帶有細小溝槽的外層,將液晶倒入后,液晶分子會順著槽排列,并且內(nèi)層與外層以同樣的方式進行排列。?
?????? 液晶的第三個特性是很神奇的:液晶層能夠使光線發(fā)生扭轉。液晶層表現(xiàn)的有些類似偏光器,這就意味著它能夠過濾掉除了那些從特殊方向射入之外的所有光線。此外,如果液晶層發(fā)生了扭轉,光線將會隨之扭轉,以不同的方向從另外一個面中射出。?
?????? 液晶的這些特點使得它可以被用來當作一種開關-即可以阻礙光線,也可以允許光線通過。液晶單元的底層是由細小的脊構成的,這些脊的作用是讓分子呈平行排列。上表面也是如此,在這兩側之間的分子平行排列,不過當上下兩個表面之間呈一定的角度時,液晶成了隨著兩個不同方向的表面進行排列,就會發(fā)生扭曲。結果便是這個扭曲了的螺旋層使通過的光線也發(fā)生扭曲。如果電流通過液晶,所有的分子將會按照電流的方向進行排列,這樣就會消除光線的扭轉。如果將一個偏振濾光器放置在液晶層的上表面,扭轉的光線通過了,而沒有發(fā)生扭轉的光線將被阻礙。因此可以通過電流的通斷改變LCD中的液晶排列,使光線在加電時射出,而不加電時被阻斷。也有某些設計了省電的需要,有電流時,光線不能通過,沒有電流時,光線通過。?
?????? 顯示技術由于不同的應用目的而分成不同的類型。有的是成了靜態(tài)顯示,比如道路標志和顯示牌,它們的顯示信息是不變的。平面顯示技術則被用于傳遞發(fā)生變化的顯示信息,所以顯示信息量的大小就決定了所采用的顯示技術類型。對于便攜式的計算器等設備而言,由于所傳遞的信息量相對較低,被稱為「低信息密度」顯示技術;對于計算機顯示器而言,由于傳遞的信息量大,則相應被稱為「高信息密度」顯示技術。?
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被動矩陣液晶顯示技術?

?????? 高信息密度顯示技術中首先商品化的是「被動矩陣顯示技術」。它得名于控制液晶單元的開和關的簡單設計。?
?????? 被動矩陣液晶顯示的驅動方式是由垂直與水平方向的電極所構成,單獨的液晶單元夾在彼此垂直的電極中間。因此,任何一組電極的驅動就會在特定的單元中引起電流通過。?
?????? 被動矩陣顯示畫面的原理就是輸入的信號依次去驅動每一排的電極,于是當某一排被選定的時候,列向上的電極將被觸發(fā)打開位于排和列交叉上的那些像素。這種方法比較簡單,而且對液晶屏幕的成本增加也不多。不過它也有缺點,如果有太大的電流通過某個單元,附近的單元都會受到影響,引起虛影。如果電流太小,單元的開和關就會變得遲緩,降低對比度和丟失移動畫面的細節(jié)。?
?????? 早期,被動矩陣板依賴于扭轉向列的設計。上層和下層的偏光板的偏振光方向呈90度,因此中間的液晶以90度進行扭轉。這樣制造的液晶板對比度很低、響應時間也很慢。這種方式運用在低信息量顯示時很好,不過被證明不適合計算機顯示。?
?????? 超扭轉向列(SuperTwistedNematic)方法是通過改變液晶材料的化學成分,使液晶分子發(fā)生不止一次的扭轉,光線扭轉達到180度到270度,這樣便可大大地改善畫面的顯示品質(zhì)。80年代初期STN技術一度非常流行,至今它還在可攜式設備如PDA,手機中使用。雖然STN技術提高了顯示的對比度,不過它會引起光線的色彩偏差,尤其是在屏幕偏離主軸的位置上。這就是為什么早期的筆記型計算機屏幕總是偏藍和偏黃的原因。?
?????? 為了解決這一問題,雙層超扭曲向列型顯示技術DSTN出現(xiàn)了,它具有兩層扭轉方向相對的LCD層,第二層使得第一層遺留的色偏問題得以解決。當然它的制造工藝比前兩種方式要復雜的多。?
?????? 后來人們發(fā)現(xiàn)了比DSTN更簡單易行的方法--在底層和頂層的外表面加上補償膜,來改善STN技術中所產(chǎn)生的特定波段光線的散射和反射現(xiàn)象,這就是補償膜超扭轉向列Film-compensatedSTN(FSTN)。FSTN的顯示效果和DSTN相當,但價格和工藝難度大大降低,所以現(xiàn)在大多數(shù)被動式LCD都采用了FSTN技術。?
????? ?FSTN技術的LCD顯示效果,人們又于90年代初期提出了雙掃描概念。所謂雙掃描,就是將面板水平對等地分為兩部分,頂端和底端相對應的部分同時掃描,這就大大提高了掃描的頻率。雙掃描解決了小電流、長時間使用的情況下常常產(chǎn)生的鬼影現(xiàn)象。和主動矩陣顯示相比顯著提高了對比度、畫質(zhì)和響應時間,所以現(xiàn)在還廣為低價位的筆記型計算機所采用。?
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主動矩陣LCD及其弱勢?

????? 被動矩陣 LCD 的最大問題是難以快速地控制單獨的液晶單元,并以足夠大的電流保證來獲得好的對比度、足夠的灰階級和較快的響應時間,從而影響了動態(tài)影像的顯示效果。主動矩陣 LCD 通過單獨地控制每個單元,有效地解決了上面的問題。?
?????? 與被動矩陣LCD 相似,主動矩陣 ( Active Matrix) LCD 的上下表層也縱橫有序排列著用銦錫氧化物做成的透明電極。所不同的是在每個單元中都加入了很小的晶體管,由晶體管來控制電流的開和關。晶體管電極是利用薄膜技術而做成的。晶體管利用了薄膜來形成半導體。薄膜晶體管 LCD ( TFT-LCD)也因此得名。?
????? ?晶體管可以迅速地控制每個單元,由于單元之間的電干擾很小,所以你可以使用大電流,而不會有鬼影和拖尾現(xiàn)象。更大的電流會提供更好的對比度、更銳利的和更明亮的圖像。?
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視角及反應速度?

?????? 在傳統(tǒng)的 CRT 顯示器或電視機中,圖像的顯示是通過發(fā)光物體 -- 磷來實現(xiàn)的,光線從這一層向各個方向發(fā)射,只是強弱稍有不同而已。因此,你可以從一個很大的可視角范圍來觀看屏幕,無論從哪個角度去觀察,顯示的亮度、色彩都和正視效果相近。?
?????? LCD和其它大多數(shù)顯示技術,都需要強的背景光線穿過液晶層或者其它顯示層來形成圖像,從而完成圖像的傳遞過程。 LCD 的特性決定了它所需的背景光是定向的。舉一個形象的例子來說,就好比你手中握有一把吸管,它們的一端對準光源。如果你通過另一端直視吸管,你將會看到光源射出的光線。但是如果你?
?????? 稍微移開眼睛,從其它的方向去看的話,你就無法觀察到光線了。 LCD 技術正是如此。雖然液晶分子并不像吸管一樣是中空的,但是它們的有序排列阻止了光線向其它方向發(fā)射。
?????? 為了解決視角問題,制造商們也想出了許多方法。直接在顯示器外面附加一層漫射膜是辦法之一,漫射膜可以將特定傳播方向的光線散射向各個方向,從而增大可視角度。不過這種方法只能達到一定程度的改善。另一種做法是改變通過液晶的電流方向來增大可視角度。電流不再是從頂端流向底端,而是從側面方向流過。這就使得液晶分子在水平方向上有序排列,從而增大了傳遞光線的可視角度。這兩種技術通常用在水平可視角度的改善上。?
?????? 第三種解決方案比較復雜,而且會使制造成本大大增加。主要方法是將每個液晶單元分割成大量微小的部分,事先將這些微小子單元以不同的方向傾斜,這就使得傳播光線在到達這些微小面板的時候向各個方向散射,從而增大可視角度。昂貴的成本限制了它的廣泛使用,僅在一些具有需要同時從遠處和近處觀察的桌上型顯示器中才應用這種技術。

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反應速度?

????? ?LCD單元在控制信號到達與變化完成之間存在滯后現(xiàn)象,這使得 LCD 在顯示快速移動圖像時與 CRT 相比具有一種先天的缺陷。?
?????? CRT 的電子槍發(fā)射電子束到被激發(fā)的熒光粉發(fā)光之間幾乎是瞬間的。?
?????? 這種時間滯后被稱「反應時間」,其單位通常是毫秒。被動矩陣顯示器響應時間很長,約有 150 毫秒或更多,所以不適于顯示諸如電影的移動畫面。?
?????? 在主動矩陣顯示器中像素響應時間隨設計的不同而異,主要受到幾個因素影響,包括用來驅動單元的電壓,單元的厚度和使用的液晶材料。標準的主動矩陣顯示器一般有 40 毫秒的響應時間,也就是說每秒能顯示 25 幀。平面內(nèi)轉換增加了可視角度,但顯示會變慢,一般有 70 毫秒反應時間。顯示器更快一些,有 25 毫秒反應時間。?

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耗電量?

?????? 主動矩陣式 LCD 顯示器與 CRT 相比較小,需要很少的電量。事實上,它已經(jīng)變成了便攜式設備的標準顯示器,從 PDA 到筆記型計算機均廣泛運用。但不管怎樣, LCD 技術還是可悲的效率低下:即使你將屏幕顯示白色,從背景光源中發(fā)射的光也只有不到 10% 穿過屏幕發(fā)出,其它的都被吸收。?
?????? 筆記型計算機的低效迫使其設計者面臨一些艱難的選擇。如果你希望在戶外這樣強光環(huán)境下圖像更明亮,你就需要一個更亮的背景光源,這將需要更多的電力。如果你使用的電池容量一定,更亮的背景光源就會在較短的時間內(nèi)耗盡電源。?
?????? 設計者用更大的電池容量解決這個問題,但是對于目前的電池技術來說,就意味著設備重量的增加,對消費者的吸引力就會下降。這三者之間的三角平衡推動著顯示器、電池及節(jié)能技術的研究。?
?????? 總而言之,背景光源所哪芰渴?span> LCD 顯示器總耗電量的最大部分。更大的屏幕、更高的亮度和更高的分辨率都將使筆記型計算機顯示器的耗電量大大增加。另一方面,技術進步通過降低系統(tǒng)電壓和提高孔徑比使更多的光能通過液晶單元,降低系統(tǒng)的電源需求。結果是,筆記型顯示器的總耗電量維持在 2 到 5 瓦之間。一根管子的背景光源大約需要 1.2 瓦,所以根據(jù)使用一只或兩只管子一個屏幕中共需要 1.2 或 2.4 瓦的能量。?
?????? PDA,如 Palm 和 Compaq iPAQ常使用反射顯示器。這意味著環(huán)境光射進顯示器中,穿過極化的液晶層,碰撞反射層,再反射出來顯示成圖像。據(jù)估計,在此過程中 84% 的光被吸收,所以只有六分之一的光起作用,雖然還有待改進,但已足以提供可視影像需要的對比度。單向反射和反射顯示器使得不同光照條件下耗費最少能源使用 LCD 顯示器成為可能。?
?????? LCD顯示器的關鍵因素之一是它的價格。如果比 CRT 更加便宜,它將會占據(jù)幾乎全部的顯示器市場。但不幸的是,對于桌上計算機經(jīng)常使用的15、17吋顯示器來說,相同顯示面積的 LCD 的造價幾乎是 CRT 的 3 到 5 倍。顯示面積越大,造價差距越大。為什么LCD 造價如此之高?這取決于它們的制造方式。它的制造工藝異常復雜,維持高良率需要不斷努力。?

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顯示色彩?

?????? LCD 顯示的一個重要的技術指標是顯示色彩。?
???? ? CRT 顯示器所能表現(xiàn)出的色彩幾乎是無窮的,因為它是模擬設備。只需改變紅綠藍三種模擬信號的強度,你就可以得到不同的色彩。與 CRT 一樣, LCD 技術也是根據(jù)電壓的大小來改變亮度,但是只有主動矩陣 LCD 可以單獨控制每個像素,被動矩陣 LCD 每次都要驅動整行或整列像素,因此它的灰階表現(xiàn)能力很差。?
?????? 每個LCD的子像素顯示的顏色取決于色彩過濾器。由于液晶本身沒有顏色,所以用濾色片產(chǎn)生各種顏色,而不是子像素,子像素只能通過控制光線的通過強度來調(diào)節(jié)灰階,只有少數(shù)主動矩陣顯示采用模擬信號控制,大多數(shù)則采用數(shù)字信號控制技術。大部分數(shù)字控制的 LCD 都采用了 8 位控制器,可以產(chǎn)生 256 級灰階。每個子像素能夠表現(xiàn) 256 級,那么你就能夠得到 256×3種色彩,每個像素能夠表現(xiàn) 16,777,216 種成色。因為人的眼睛對亮度的感覺并不是線性變化的,人眼對低亮度的變化更加敏感,所以這種 24 位的色度并不1能完全達到理想要求。工程師們通過脈沖電壓調(diào)節(jié)的方法以使色彩變化看起來更加統(tǒng)一。?
?????? 制造商還采用了兩種技術來提高主動矩陣顯示中每個液晶單元的灰階顯示數(shù)目。第一種是抖動方法。將四個毗連呈正方形的像素作為一個單元,如果其中一個的灰階太低,那么相鄰的像素就會提高自身的亮度,從而顯示出一個比較適中的灰階,四個像素最后會顯示出三個適中的最終灰階作為顯示結果。這種方法的最大缺點在于降低了顯示的分辨率。?
????? ?另一項技術是框架速率控制(FRC )或者暫時的高頻振動。這種方法在顯示每屏圖像時多次刷新像素。與高頻振動中將灰階的混合用空間來顯示不同,這種方法通過時間控制。如果顯示一幅畫面需要的時間分為很多幀,像素就可以在幀的切換當中造成一種灰階的過渡態(tài),四幀就可以造成三個過渡態(tài)。這種設計的優(yōu)點是可以不降低圖像的分辨率,被廣泛應用于現(xiàn)代的主動矩陣顯示器中。?

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傳統(tǒng)工藝流程?

????? ?LCD 的面板最早使用非常薄的玻璃制造。大約只有 1.1-0.4毫米厚,由于玻璃生產(chǎn)中,設備不同會造成玻璃厚度不同。所以,顯示器只能在一套模具中制造。玻璃底層鍍有一層非晶硅,從而在每個像素單元上可以制造半導體組件。經(jīng)過一系列的平板照相、蝕刻、覆膜和沈積步驟,在每個像素上都生成了開關晶體管、濾色器及其它部分。?
?????? ?在所有的元器件上沈積有一個透明數(shù)組膜,在頂層上貼上另一個相似的透明的數(shù)組膜。這些膜運用光化學工藝流程進行刻蝕或印刷,在每層膜上形成極小的刻槽。當液晶材料注入時,液晶分子就在這些槽中有序排列。在屏幕的兩面間噴灑小隔片,保證在每個像素位置上有一到兩個隔片。這樣就可以分隔開玻璃層的上下面,為液晶材料提供一個存在的空間。接著,在每個顯示器的?
?????? LCD 技術中最引人矚目的是低溫多晶硅的使用。傳統(tǒng)工藝中使用非晶硅制造 LCD 單元元器件,相對來說制造成本較低,但是比半導體芯片制造所使用的單晶硅的電子活性較低。電子活性隨著硅結晶度的提高而增加,這樣晶體管就可以越來越小s,而這又意味著更大的孔徑比 -- 更多光線將通過液晶顯示器單元 -- 所以顯示器耗電量更低,也就是說電池使用壽命將延長或整機重量降低。多晶硅用于小型 LCD 顯示器 -- 例如數(shù)據(jù)讀取設備中的面板 - 但它們都需要可抵抗高溫的特殊玻璃。覆蓋在底層的硅被加熱到一定溫度然后冷卻,從而產(chǎn)單晶硅。?
?????? 近幾年,技術已經(jīng)發(fā)展到了可以制造標準的玻璃底層和在室溫下制造晶體硅。使用激光掃描硅膜,可以使膜表面特定的極小區(qū)域產(chǎn)生高溫,冷卻后生成單晶硅。這種工藝比傳統(tǒng)的鍍膜更加昂貴,但是它帶來了一些其它的利益。除了孔徑比增加之外,多晶硅層的使用使得在面板的邊緣構造驅動電路成為可能。從而大部分與電路的接頭能夠無需接片(TAB)就能夠在底層很好的實現(xiàn)連接。這就意味著連接到面板上的接頭數(shù)目減少 95 %以上,而且同時增加顯示的物理可靠性。

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