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始于90年代末

濕法制程整體解決方案提供商

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發(fā)布時(shí)間: 2017 - 12 - 06
在LED外延及芯片制造領(lǐng)域,濕法設(shè)備占據(jù)約40%以上的工藝,隨著工藝技術(shù)的不斷發(fā)展,濕法設(shè)備已經(jīng)成為LED外延及芯片制造領(lǐng)域的關(guān)鍵設(shè)備,如SPM酸清洗、有機(jī)清洗、顯影、去膠、ITO蝕刻、BOE蝕刻、PSS高溫側(cè)腐、下蠟、勻膠、甩干、掩膜版清洗等。華林科納(江蘇)CSE深入研究LED生產(chǎn)工藝,現(xiàn)已形成可滿足LED產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目需求的全自動(dòng)濕法工藝標(biāo)準(zhǔn)成套設(shè)備。 LED 芯片的制造工藝流程為:外延片→清洗→鍍透明電極層→透明電極圖形光刻→腐蝕→去膠→平臺圖形光刻→干法刻蝕→去膠→退火→SiO2 沉積→窗口圖形光刻→SiO2腐蝕→去膠→N極圖形光刻→預(yù)清洗→鍍膜→剝離→退火→P 極圖形光刻→鍍膜→剝離→研磨→切割→芯片→成品測試。 CSE-外延片清洗機(jī)設(shè)備 設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-外延片清洗機(jī)設(shè)備可處理晶圓尺寸2”-12”可處理晶圓材料硅、砷化鎵、磷化銦、氮化鎵、碳化硅、鈮酸鋰、鉭酸鋰等應(yīng)用領(lǐng)域集成電路、聲表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先進(jìn)封裝等專有技術(shù)系統(tǒng)潔凈性技術(shù)均勻性技術(shù)晶圓片N2干燥技術(shù)模塊化系統(tǒng)集成技術(shù)自動(dòng)傳輸及精確控制技術(shù)溶液溫度、流量和壓力的精確控制技術(shù)主要技術(shù)特點(diǎn)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)緊湊、安全腔體獨(dú)立密封,具有多種功能可實(shí)現(xiàn)晶圓干進(jìn)干出采用工控機(jī)控制,功能強(qiáng)大,操作簡便可根據(jù)用戶要求提供個(gè)性化解決方案設(shè)備制造商華林科納(江蘇)半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 regal-bio.cn 400-8768-096 ;18915583058更多的外延片清洗設(shè)備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(regal-bio.cn),現(xiàn)在熱線咨詢400-8798-096可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體行業(yè)相關(guān)清洗設(shè)備解決方案。
發(fā)布時(shí)間: 2017 - 12 - 06
旋轉(zhuǎn)式噴鍍臺結(jié)合微組裝工藝對鍍制工藝的小批量、多規(guī)格和特殊應(yīng)用要求等特點(diǎn),在6" (150mm)晶圓電鍍系統(tǒng)中采用了傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍單元分由兩個(gè)部分組成,一為陰極夾具、旋轉(zhuǎn)單元、導(dǎo)線電刷、N2 保護(hù)單元組成的陰極回轉(zhuǎn)體,二為三角形槽體、陽極和電力線擋板組成的陽極腔。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍結(jié)構(gòu)示意圖如下:從鍍制結(jié)構(gòu)方式、鍍制工藝應(yīng)用分析可以看出,采用傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍有以下幾種優(yōu)勢。一是這種結(jié)構(gòu)方式易實(shí)現(xiàn)槽體密封和附加N2 保護(hù)功能。二是在這種鍍制工藝中,陰極的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)使槽內(nèi)電場不均問題得以解決,從而提高了鍍制的均勻性。三是呈45°傾斜加陰極旋轉(zhuǎn)的方式,可以較容易的祛除晶圓表面的氣泡附著及“產(chǎn)生”氣泡的消除。四是采用了多微孔進(jìn)行鍍液噴射,實(shí)現(xiàn)攪拌功能,消除局部PH值、溫度、離子濃度等不均勻帶來的影響。五是采用三角形鍍槽設(shè)計(jì)最大限度的減少了鍍液的消耗。六是該鍍制結(jié)構(gòu)方式可以滿足多品種、小批量、低成本的生產(chǎn)需求。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)、工藝優(yōu)勢斜式三角鍍槽結(jié)構(gòu)本系統(tǒng)采用傾斜式三角形鍍槽結(jié)構(gòu),鍍槽入口溢流口均與三角形斜邊平行,可得到穩(wěn)定且不易積累氣泡的流場環(huán)境。通過進(jìn)行相關(guān)模擬、仿真和驗(yàn)證,鍍液入口采用扇形噴咀式結(jié)構(gòu),可保證鍍液在平行于陰極表面方向上形成均勻而穩(wěn)定的流場。從而通過改變流場的方法改善了鍍層的均勻性。該結(jié)構(gòu)的另一優(yōu)點(diǎn)可使電鍍液的用量減至最少程度。 華林科納(江蘇)CSE采用傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍方法進(jìn)行晶圓電鍍工藝處理,由于結(jié)構(gòu)上的特點(diǎn),該方法經(jīng)實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證具有:①結(jié)構(gòu)簡單;②工藝參數(shù)控制容易;③有利氣泡的消除;④鍍制均勻性得到提高;⑤鍍制溶液用量少。該方法尤其適應(yīng)于小批量、多規(guī)格的電鍍工藝,同時(shí)可以取得較好的鍍制均勻性。圖6為我們所研制的150mm晶圓傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍系統(tǒng),目前已批量生產(chǎn)并在工藝線上得到較好的應(yīng)用,產(chǎn)品已通過技術(shù)定型鑒定和用戶驗(yàn)收。實(shí)現(xiàn)的主要工藝指標(biāo):最...
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 06 - 22
雙腔甩干機(jī)1. 應(yīng)用范圍:l 本機(jī)臺適用於半導(dǎo)體2”4”6”8”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 設(shè)備為垂直式雙槽體機(jī)臺,可同Run 50片.l 可對旋乾步驟進(jìn)行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設(shè)備已超過20年以上的應(yīng)用馬達(dá)控制系統(tǒng)設(shè)計(jì), 高穩(wěn)定度Rotor 設(shè)計(jì), 震動(dòng)值均控制於300 um 以下.l 高潔淨(jìng)設(shè)計(jì),微塵控制於每次運(yùn)轉(zhuǎn)增加量, 0.3um , 30顆以下.   2. 操作流程3. 圖示 4. 規(guī)格l 機(jī)臺內(nèi)皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達(dá): DC無刷馬達(dá)750Wl 真空負(fù)壓軸封設(shè)計(jì),隔離槽外污染l 不銹鋼N2過濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測保護(hù)(加熱器空燒保護(hù))l 槽外貼Silicon材質(zhì)加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開關(guān)90°C OFF 70°C ON)l  Viton材質(zhì)充氣式氣囊及槽後密封環(huán),保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經(jīng)拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉(zhuǎn)子,並按客戶需求指定使用訂做l 轉(zhuǎn)子經(jīng)拋光及電解研磨,並做動(dòng)態(tài)平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂故障碼功能: 門鎖警告,氣體不足,傳動(dòng)異常警告 5. 電控系統(tǒng)l  控制器操作介面: 7”記憶人機(jī)+ PLC可程式自動(dòng)化控制器(人機(jī) Touch Screen,整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/,皆可從操作螢?zāi)簧闲薷摹?#216; 儲存能力記憶模組...
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 03 - 07
枚葉式清洗機(jī)-華林科納CSE華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-單片枚葉式洗凈裝置的特長:單片式清洗裝置的優(yōu)點(diǎn)(與浸漬.槽式比較)1.晶片表面的微粒數(shù)非常少(到25nm可對應(yīng))例:附著粒子數(shù)…10個(gè)/W以下(0.08UM以上粒子)(參考)槽式200個(gè)/W2.藥液純水的消費(fèi)量少藥液…(例)1%DHF的情況  20L/日純水...每處理一枚晶片0.5-1L/分3.小裝置size(根據(jù)每個(gè)客戶可以定制) 液體濺射(塵埃強(qiáng)制除去)  (推薦)清洗方法單片式裝置的Particle再附著問題   更多的半導(dǎo)體單片枚葉式濕法腐蝕清洗設(shè)備相關(guān)信息可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(www.hlkncas.com),現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096;18913575037可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體清洗解決方案。
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 03 - 07
自動(dòng)供酸系統(tǒng)(CDS)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-CDS自動(dòng)供酸系統(tǒng) 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進(jìn)行配送,經(jīng)管道至設(shè)備;具有自動(dòng)化程度高,配比精確,操作簡便等特點(diǎn);具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩?dòng)控制模式、自動(dòng)控制模式設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-CDS自動(dòng)供酸系統(tǒng)設(shè)備型號CSE-CDS-N1507設(shè)計(jì)基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房內(nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房;3. 設(shè)備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運(yùn)送到制程使用點(diǎn);5. 過濾器:配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學(xué)液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質(zhì)的進(jìn)口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān);8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報(bào)功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能:每種化學(xué)液體配兩個(gè)桶(自動(dòng)切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動(dòng)化與親和力。在...
發(fā)布時(shí)間: 2018 - 01 - 23
單片清洗機(jī)-華林科納CSESingle wafer cleaner system華林科納(江蘇)CSE-自動(dòng)單片式腐蝕清洗機(jī)應(yīng)用于清洗(包括光刻板清洗)刻蝕 去膠 金屬剝離等;可處理晶圓尺寸2'-12';可處理晶圓材料:硅 砷化鎵 磷化銦 氮化鎵 碳化硅 鈮酸鋰 鉭酸鋰等;主要應(yīng)用領(lǐng)域:集成電路   聲表面波器件  微波毫米波器件  MEMS  先進(jìn)封裝等  設(shè) 備 名 稱CSE-單片清洗機(jī)類  型單片式適 用 領(lǐng) 域半導(dǎo)體、太陽能、液晶、MEMS等清 洗 方 式2英寸——12英寸設(shè)備穩(wěn)定性1、≥0.2um顆粒少于10顆2、金屬附著量:3E10 atoms/ cm²3、純水消耗量:1L/min/片4、蝕刻均一性良好(SiO?氧化膜被稀釋HF處理):≤2%5、干燥時(shí)間:≤20S6、藥液回收率:>95%單片式優(yōu)點(diǎn)1、單片處理時(shí)間短(相較于槽式清洗機(jī))2、節(jié)約成本(藥液循環(huán)利用,消耗量遠(yuǎn)低于槽式)3、良品率高4、有效避免邊緣再附著5、立體層疊式結(jié)構(gòu),占地面積小 更多的單片(枚葉)式清洗相關(guān)設(shè)備可以關(guān)注華林科納(江蘇)半導(dǎo)體官網(wǎng),關(guān)注http://regal-bio.cn ,400-8768-096,18913575037
發(fā)布時(shí)間: 2017 - 12 - 06
氫氟酸HF自動(dòng)供液系統(tǒng)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-氫氟酸供液系統(tǒng) 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進(jìn)行配送,經(jīng)管道至設(shè)備;具有自動(dòng)化程度高,配比精確,操作簡便等特點(diǎn);具有良好的耐腐蝕性能。控制模式:手動(dòng)控制模式、自動(dòng)控制模式 設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-氫氟酸(HF)供液系統(tǒng)設(shè)備型號CSE-CDS-N2601設(shè)計(jì)基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房內(nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房;3. 設(shè)備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運(yùn)送到制程使用點(diǎn);5. 過濾器:配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學(xué)液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質(zhì)的進(jìn)口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān);8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報(bào)功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能:每種化學(xué)液體配兩個(gè)桶(自動(dòng)切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動(dòng)化...
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自動(dòng)爐管清洗機(jī)

時(shí)間: 2021-04-12
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自動(dòng)爐管清洗機(jī)

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自動(dòng)爐管清洗機(jī)?

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1是本發(fā)明實(shí)施例的供液原理示意圖;

2是圖1中的清洗裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;

3是圖1中的儲液裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;

4是圖2清洗裝置中的旋轉(zhuǎn)裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

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圖中:

1、儲液裝置???????2、清洗裝置????????????3、供液管路4、廢液回收管路???5、氣控隔膜閥??????????6、供液泵7、氣動(dòng)閥?????????8、廢液排放管??????????9、液位傳感器10、控制系統(tǒng)??????11、液位傳感器?????????12、供液口13、藥液回收口????22、旋轉(zhuǎn)裝置???????????23、溢流結(jié)構(gòu)24、爐管??????????221、旋轉(zhuǎn)電機(jī)??????????222、旋轉(zhuǎn)支架223、滾輪

自動(dòng)爐管清洗機(jī),包括儲液部和清洗部,儲液部與清洗部通過供液機(jī)構(gòu)連接,供液機(jī)構(gòu)包括供液管路3,供液管路3上設(shè)有氣控隔膜閥5,氣控隔膜閥5采用軟質(zhì)材料制成的隔膜,將閥體內(nèi)腔與閥蓋內(nèi)腔隔開,采用隔膜閥的操作機(jī)構(gòu),采用隔膜式氣缸替代活塞式氣缸,排除了活塞環(huán)易損漏而導(dǎo)致無法啟閉閥門的弊端,不暴露運(yùn)送的藥液,故不具污染性,也不需要填料,保證爐管自動(dòng)清洗的過程中藥液不被污染。供液機(jī)構(gòu)還包括供液泵6和設(shè)置于供液泵6與清洗部之間的液位檢測裝置,液位檢測裝置采用液位傳感器11,液位傳感器將信號發(fā)送至控制系統(tǒng),自動(dòng)控制儲液裝置內(nèi)的液位高度,自動(dòng)爐管清洗機(jī)還包括機(jī)械臂,清洗后的爐管,經(jīng)機(jī)械臂自動(dòng)進(jìn)入干燥位干燥,解決了現(xiàn)有技術(shù)中爐管清洗后自然晾干,耗時(shí)時(shí)間長,采用此自動(dòng)爐管清洗機(jī),進(jìn)行吹氣干燥,加快生產(chǎn)效率。儲液部與清洗部之間還設(shè)置有廢液回收機(jī)構(gòu),因爐管清洗后藥液濃度依然比較高,可以多次進(jìn)行利用,廢液回收機(jī)構(gòu)包括廢液回收管路4,廢液回收管路4連接廢液排放管8,廢液回收機(jī)構(gòu)還包括氣動(dòng)閥7,氣動(dòng)閥7設(shè)置于廢液回收管路4與廢液排放管8的連接處,氣動(dòng)閥7采用T型氣動(dòng)三通球形閥門,氣動(dòng)閥7由控制系統(tǒng)10控制,控制系統(tǒng)10采用PLC控制系統(tǒng),可實(shí)現(xiàn)廢液流向的切換,實(shí)現(xiàn)廢液回收,或者關(guān)閉廢液回收通道實(shí)現(xiàn)廢液排放,可以靈活控制管路中的合流或者分流,結(jié)構(gòu)緊湊合理,爐管清洗后由清洗槽將可利用藥液經(jīng)PLC控制氣動(dòng)閥7由廢液回收管路4回收于儲液槽1內(nèi),如果此次藥液不可利用,經(jīng)PLC控制管路閥門,直接將廢藥液排放到廢液排放管8排出。

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如圖2所示,清洗部包括清洗裝置2和設(shè)置于清洗裝置2內(nèi)的旋轉(zhuǎn)裝置,其中,清洗裝置1和儲液裝置2均采用NPP材料制成,清洗裝置1與儲液裝置2均為能容納藥液的容器,本

實(shí)例中,采用槽體結(jié)構(gòu)。因爐管清洗的過程中不可避免的會用到酸堿等腐蝕液,采用NPP材料制成的清洗裝置,耐腐蝕、不結(jié)垢,可避免因管道銹蝕引起的銹跡,且可免除管道腐蝕結(jié)垢所引起的堵塞,此外,在硅片生產(chǎn)的過程中,對爐管清洗具有很高的要求,采用NPP材質(zhì)衛(wèi)生、無毒屬綠色建材,且耐高溫、高壓,管道輸送水溫最高可達(dá)95℃,質(zhì)量輕,比重僅為金屬管的七分之一,在規(guī)定的長期連續(xù)工作壓力下,具有較長的使用壽命,安裝方便可靠。如圖4所示,旋轉(zhuǎn)裝置22包括旋轉(zhuǎn)支架222和帶動(dòng)旋轉(zhuǎn)支架222轉(zhuǎn)動(dòng)的旋轉(zhuǎn)電機(jī)221,旋轉(zhuǎn)支架222上設(shè)置有滾輪223,旋轉(zhuǎn)裝置22能夠使需要清洗的爐管在槽內(nèi)自動(dòng)旋轉(zhuǎn),清洗更徹底,通過設(shè)置旋轉(zhuǎn)裝置,可以提高清洗效率,清洗結(jié)束后,藥液由清洗裝置2的底部設(shè)置排放口排空,排放口連接廢液回收管路4,然后采用純水沖洗爐管,清洗裝置2的頂部設(shè)置溢流結(jié)構(gòu)23,溢流結(jié)構(gòu)23為直徑在1-100mm之間的不規(guī)則圓孔,液體通過溢流結(jié)構(gòu)流出清洗裝置,清洗裝置2能夠?qū)t管、石英棒或其他配件等進(jìn)行浸泡、水槽噴洗、水槽溢流漂洗、水槽氮?dú)夤呐莸确绞竭M(jìn)行處理,從而達(dá)到一個(gè)優(yōu)異的清洗效果。

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如圖3所示,儲液部包括儲液裝置1和用于檢測儲液裝置1內(nèi)液位的液位檢測裝置9,本實(shí)例中,液位檢測裝置9采用液位傳感器,液位傳感器將信號發(fā)送至控制系統(tǒng),自動(dòng)控制儲液裝置內(nèi)的液位高度,儲液裝置1包括設(shè)置于儲液裝置1上廢液排放口以及供液口12,供液口12連接供液管路3,廢液排放口連接藥液回收管路。儲液裝置1還包括藥液回收口13,藥液回收口與所述清洗裝置通過管路連接,用于回收清洗裝置內(nèi)能再次利用的藥液,儲液裝置內(nèi)液體液位的高低,由液位傳感器9決定,液位傳感器9發(fā)送信號給CDS供液系統(tǒng),CDS供液系統(tǒng)將所需藥液輸送至儲液裝置1內(nèi),達(dá)到所需藥液的容量,當(dāng)儲液裝置1清理內(nèi)部雜質(zhì)后,廢液會通過排放管8排放。

本實(shí)例的工作過程:當(dāng)設(shè)備供液時(shí),由控制系統(tǒng)控制氣控隔膜閥5打開,供液泵6將藥液由儲液裝置1輸送至清洗裝置2,液位高度由液位傳感器輸送信號至PLC控制系統(tǒng),當(dāng)清洗裝置2內(nèi)清洗結(jié)束后,如藥液還可再利用,由氣動(dòng)閥7將藥液由廢液回收管路4將藥液輸送

至儲液裝置1內(nèi),在下次清洗時(shí)再用,如藥液不能再用時(shí),由氣動(dòng)閥7將藥液通過廢液排放管8排放,具有穩(wěn)定性高、安全級別高、生產(chǎn)效率高,節(jié)省人員、減少化工料的使用及節(jié)水的功能,具有很高的實(shí)用價(jià)值。

本發(fā)明的有益效果是:

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1.采用自動(dòng)化設(shè)備,操作人員只需確認(rèn)設(shè)備狀態(tài)后,按下開始按鈕即可通過控制系統(tǒng)控制自動(dòng)完成每一步動(dòng)作,大大縮減了操作人員的操作難度以及勞累程度,避免了爐管清洗過程中,手動(dòng)對爐管進(jìn)行搬運(yùn),容易因失誤造成爐管損壞,作業(yè)員可同時(shí)兼顧其他設(shè)備作業(yè),提高生產(chǎn)效率;

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2.利用藥液回收管路,氣動(dòng)閥通過控制系統(tǒng)控制,更加穩(wěn)定,同時(shí)降低了生產(chǎn)成本,提高了生產(chǎn)效率,減少對可再利用藥液的直接排放造成的浪費(fèi),并且避免了直接排放藥液對環(huán)境的污染。

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