久久国产亚洲精品超热碰_日本福利在线观看_亚洲AV永久无码5G_女生私密在线一区二区_国产精品视频大全_三级国产亚洲_无码人妻中文二区_岳装睡到我房间和我做_影音先锋精品网址_黄色污污视频网站

歡迎訪問華林科納(江蘇)半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)有限公司官網(wǎng)
手機(jī)網(wǎng)站
始于90年代末

濕法制程整體解決方案提供商

--- 全國(guó)服務(wù)熱線 --- 0513-87733829
 
 
 
新聞資訊 新聞中心
400-8798-096
聯(lián)系電話
聯(lián)系我們
掃一掃
QQ客服
SKYPE客服
旺旺客服
新浪微博
分享到豆瓣
推薦產(chǎn)品 / 產(chǎn)品中心
發(fā)布時(shí)間: 2017 - 12 - 06
在LED外延及芯片制造領(lǐng)域,濕法設(shè)備占據(jù)約40%以上的工藝,隨著工藝技術(shù)的不斷發(fā)展,濕法設(shè)備已經(jīng)成為L(zhǎng)ED外延及芯片制造領(lǐng)域的關(guān)鍵設(shè)備,如SPM酸清洗、有機(jī)清洗、顯影、去膠、ITO蝕刻、BOE蝕刻、PSS高溫側(cè)腐、下蠟、勻膠、甩干、掩膜版清洗等。華林科納(江蘇)CSE深入研究LED生產(chǎn)工藝,現(xiàn)已形成可滿足LED產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目需求的全自動(dòng)濕法工藝標(biāo)準(zhǔn)成套設(shè)備。 LED 芯片的制造工藝流程為:外延片→清洗→鍍透明電極層→透明電極圖形光刻→腐蝕→去膠→平臺(tái)圖形光刻→干法刻蝕→去膠→退火→SiO2 沉積→窗口圖形光刻→SiO2腐蝕→去膠→N極圖形光刻→預(yù)清洗→鍍膜→剝離→退火→P 極圖形光刻→鍍膜→剝離→研磨→切割→芯片→成品測(cè)試。 CSE-外延片清洗機(jī)設(shè)備 設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-外延片清洗機(jī)設(shè)備可處理晶圓尺寸2”-12”可處理晶圓材料硅、砷化鎵、磷化銦、氮化鎵、碳化硅、鈮酸鋰、鉭酸鋰等應(yīng)用領(lǐng)域集成電路、聲表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先進(jìn)封裝等專有技術(shù)系統(tǒng)潔凈性技術(shù)均勻性技術(shù)晶圓片N2干燥技術(shù)模塊化系統(tǒng)集成技術(shù)自動(dòng)傳輸及精確控制技術(shù)溶液溫度、流量和壓力的精確控制技術(shù)主要技術(shù)特點(diǎn)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)緊湊、安全腔體獨(dú)立密封,具有多種功能可實(shí)現(xiàn)晶圓干進(jìn)干出采用工控機(jī)控制,功能強(qiáng)大,操作簡(jiǎn)便可根據(jù)用戶要求提供個(gè)性化解決方案設(shè)備制造商華林科納(江蘇)半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 regal-bio.cn 400-8768-096 ;18915583058更多的外延片清洗設(shè)備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(regal-bio.cn),現(xiàn)在熱線咨詢400-8798-096可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體行業(yè)相關(guān)清洗設(shè)備解決方案。
發(fā)布時(shí)間: 2017 - 12 - 06
旋轉(zhuǎn)式噴鍍臺(tái)結(jié)合微組裝工藝對(duì)鍍制工藝的小批量、多規(guī)格和特殊應(yīng)用要求等特點(diǎn),在6" (150mm)晶圓電鍍系統(tǒng)中采用了傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍單元分由兩個(gè)部分組成,一為陰極夾具、旋轉(zhuǎn)單元、導(dǎo)線電刷、N2 保護(hù)單元組成的陰極回轉(zhuǎn)體,二為三角形槽體、陽(yáng)極和電力線擋板組成的陽(yáng)極腔。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍結(jié)構(gòu)示意圖如下:從鍍制結(jié)構(gòu)方式、鍍制工藝應(yīng)用分析可以看出,采用傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍有以下幾種優(yōu)勢(shì)。一是這種結(jié)構(gòu)方式易實(shí)現(xiàn)槽體密封和附加N2 保護(hù)功能。二是在這種鍍制工藝中,陰極的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)使槽內(nèi)電場(chǎng)不均問題得以解決,從而提高了鍍制的均勻性。三是呈45°傾斜加陰極旋轉(zhuǎn)的方式,可以較容易的祛除晶圓表面的氣泡附著及“產(chǎn)生”氣泡的消除。四是采用了多微孔進(jìn)行鍍液噴射,實(shí)現(xiàn)攪拌功能,消除局部PH值、溫度、離子濃度等不均勻帶來的影響。五是采用三角形鍍槽設(shè)計(jì)最大限度的減少了鍍液的消耗。六是該鍍制結(jié)構(gòu)方式可以滿足多品種、小批量、低成本的生產(chǎn)需求。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)、工藝優(yōu)勢(shì)斜式三角鍍槽結(jié)構(gòu)本系統(tǒng)采用傾斜式三角形鍍槽結(jié)構(gòu),鍍槽入口溢流口均與三角形斜邊平行,可得到穩(wěn)定且不易積累氣泡的流場(chǎng)環(huán)境。通過進(jìn)行相關(guān)模擬、仿真和驗(yàn)證,鍍液入口采用扇形噴咀式結(jié)構(gòu),可保證鍍液在平行于陰極表面方向上形成均勻而穩(wěn)定的流場(chǎng)。從而通過改變流場(chǎng)的方法改善了鍍層的均勻性。該結(jié)構(gòu)的另一優(yōu)點(diǎn)可使電鍍液的用量減至最少程度。 華林科納(江蘇)CSE采用傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍方法進(jìn)行晶圓電鍍工藝處理,由于結(jié)構(gòu)上的特點(diǎn),該方法經(jīng)實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證具有:①結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單;②工藝參數(shù)控制容易;③有利氣泡的消除;④鍍制均勻性得到提高;⑤鍍制溶液用量少。該方法尤其適應(yīng)于小批量、多規(guī)格的電鍍工藝,同時(shí)可以取得較好的鍍制均勻性。圖6為我們所研制的150mm晶圓傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍系統(tǒng),目前已批量生產(chǎn)并在工藝線上得到較好的應(yīng)用,產(chǎn)品已通過技術(shù)定型鑒定和用戶驗(yàn)收。實(shí)現(xiàn)的主要工藝指標(biāo):最...
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 06 - 22
雙腔甩干機(jī)1. 應(yīng)用范圍:l 本機(jī)臺(tái)適用於半導(dǎo)體2”4”6”8”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 設(shè)備為垂直式雙槽體機(jī)臺(tái),可同Run 50片.l 可對(duì)旋乾步驟進(jìn)行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設(shè)備已超過20年以上的應(yīng)用馬達(dá)控制系統(tǒng)設(shè)計(jì), 高穩(wěn)定度Rotor 設(shè)計(jì), 震動(dòng)值均控制於300 um 以下.l 高潔淨(jìng)設(shè)計(jì),微塵控制於每次運(yùn)轉(zhuǎn)增加量, 0.3um , 30顆以下.   2. 操作流程3. 圖示 4. 規(guī)格l 機(jī)臺(tái)內(nèi)皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達(dá): DC無刷馬達(dá)750Wl 真空負(fù)壓軸封設(shè)計(jì),隔離槽外污染l 不銹鋼N2過濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測(cè)保護(hù)(加熱器空燒保護(hù))l 槽外貼Silicon材質(zhì)加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開關(guān)90°C OFF 70°C ON)l  Viton材質(zhì)充氣式氣囊及槽後密封環(huán),保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經(jīng)拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉(zhuǎn)子,並按客戶需求指定使用訂做l 轉(zhuǎn)子經(jīng)拋光及電解研磨,並做動(dòng)態(tài)平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂故障碼功能: 門鎖警告,氣體不足,傳動(dòng)異常警告 5. 電控系統(tǒng)l  控制器操作介面: 7”記憶人機(jī)+ PLC可程式自動(dòng)化控制器(人機(jī) Touch Screen,整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲(chǔ)存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/,皆可從操作螢?zāi)簧闲薷摹?#216; 儲(chǔ)存能力記憶模組...
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 03 - 07
枚葉式清洗機(jī)-華林科納CSE華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-單片枚葉式洗凈裝置的特長(zhǎng):?jiǎn)纹角逑囱b置的優(yōu)點(diǎn)(與浸漬.槽式比較)1.晶片表面的微粒數(shù)非常少(到25nm可對(duì)應(yīng))例:附著粒子數(shù)…10個(gè)/W以下(0.08UM以上粒子)(參考)槽式200個(gè)/W2.藥液純水的消費(fèi)量少藥液…(例)1%DHF的情況  20L/日純水...每處理一枚晶片0.5-1L/分3.小裝置size(根據(jù)每個(gè)客戶可以定制) 液體濺射(塵埃強(qiáng)制除去)  (推薦)清洗方法單片式裝置的Particle再附著問題   更多的半導(dǎo)體單片枚葉式濕法腐蝕清洗設(shè)備相關(guān)信息可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(www.hlkncas.com),現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096;18913575037可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體清洗解決方案。
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 03 - 07
自動(dòng)供酸系統(tǒng)(CDS)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-CDS自動(dòng)供酸系統(tǒng) 適用對(duì)象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進(jìn)行配送,經(jīng)管道至設(shè)備;具有自動(dòng)化程度高,配比精確,操作簡(jiǎn)便等特點(diǎn);具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩?dòng)控制模式、自動(dòng)控制模式設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-CDS自動(dòng)供酸系統(tǒng)設(shè)備型號(hào)CSE-CDS-N1507設(shè)計(jì)基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡(jiǎn)稱:CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房?jī)?nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房;3. 設(shè)備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運(yùn)送到制程使用點(diǎn);5. 過濾器:配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學(xué)液體配有兩臺(tái)或者一臺(tái) PTFE材質(zhì)的進(jìn)口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān);8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測(cè)器與警報(bào)功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能:每種化學(xué)液體配兩個(gè)桶(自動(dòng)切換)、配兩臺(tái)泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動(dòng)化與親和力。在...
發(fā)布時(shí)間: 2018 - 01 - 23
單片清洗機(jī)-華林科納CSESingle wafer cleaner system華林科納(江蘇)CSE-自動(dòng)單片式腐蝕清洗機(jī)應(yīng)用于清洗(包括光刻板清洗)刻蝕 去膠 金屬剝離等;可處理晶圓尺寸2'-12';可處理晶圓材料:硅 砷化鎵 磷化銦 氮化鎵 碳化硅 鈮酸鋰 鉭酸鋰等;主要應(yīng)用領(lǐng)域:集成電路   聲表面波器件  微波毫米波器件  MEMS  先進(jìn)封裝等  設(shè) 備 名 稱CSE-單片清洗機(jī)類  型單片式適 用 領(lǐng) 域半導(dǎo)體、太陽(yáng)能、液晶、MEMS等清 洗 方 式2英寸——12英寸設(shè)備穩(wěn)定性1、≥0.2um顆粒少于10顆2、金屬附著量:3E10 atoms/ cm²3、純水消耗量:1L/min/片4、蝕刻均一性良好(SiO?氧化膜被稀釋HF處理):≤2%5、干燥時(shí)間:≤20S6、藥液回收率:>95%單片式優(yōu)點(diǎn)1、單片處理時(shí)間短(相較于槽式清洗機(jī))2、節(jié)約成本(藥液循環(huán)利用,消耗量遠(yuǎn)低于槽式)3、良品率高4、有效避免邊緣再附著5、立體層疊式結(jié)構(gòu),占地面積小 更多的單片(枚葉)式清洗相關(guān)設(shè)備可以關(guān)注華林科納(江蘇)半導(dǎo)體官網(wǎng),關(guān)注http://regal-bio.cn ,400-8768-096,18913575037
發(fā)布時(shí)間: 2017 - 12 - 06
氫氟酸HF自動(dòng)供液系統(tǒng)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-氫氟酸供液系統(tǒng) 適用對(duì)象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進(jìn)行配送,經(jīng)管道至設(shè)備;具有自動(dòng)化程度高,配比精確,操作簡(jiǎn)便等特點(diǎn);具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩?dòng)控制模式、自動(dòng)控制模式 設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-氫氟酸(HF)供液系統(tǒng)設(shè)備型號(hào)CSE-CDS-N2601設(shè)計(jì)基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡(jiǎn)稱:CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房?jī)?nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房;3. 設(shè)備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運(yùn)送到制程使用點(diǎn);5. 過濾器:配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學(xué)液體配有兩臺(tái)或者一臺(tái) PTFE材質(zhì)的進(jìn)口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān);8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測(cè)器與警報(bào)功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能:每種化學(xué)液體配兩個(gè)桶(自動(dòng)切換)、配兩臺(tái)泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動(dòng)化...
新聞中心 新聞資訊

太陽(yáng)能硅片清洗機(jī)

時(shí)間: 2021-04-12
點(diǎn)擊次數(shù): 97

1設(shè)備的清洗工藝:

全自動(dòng)硅片清洗機(jī)主要以超聲波清洗為主,以鼓泡和拋動(dòng)清洗等工藝為輔助手段。利用超聲波滲透力強(qiáng)的機(jī)械振動(dòng)沖擊硅片表面并結(jié)合清洗劑的化學(xué)去污作用達(dá)到對(duì)硅片的清洗,清洗作用力均勻,清洗潔凈度高,清洗效果好,可有效去除硅片表面的雜質(zhì)。

工藝流程:上料(浸泡)→超聲清洗(擺動(dòng)+加熱+鼓泡)→超聲堿洗(擺動(dòng)+加熱)→超聲漂洗(擺動(dòng)+加熱)→慢拉脫水槽(加熱)→烘干→下料(手動(dòng))

對(duì)工藝過程所作的調(diào)整是多種多樣的,其中包括機(jī)械手傳送的速度、超聲清洗的時(shí)間、氮?dú)夤呐莸臍怏w流量、拋動(dòng)系統(tǒng)的頻率、溶劑的溫度、烘干系統(tǒng)的溫度等、超聲漂洗用水的流量等。對(duì)于客戶來講,主要應(yīng)考慮設(shè)備生產(chǎn)硅片的能力,保證能滿足生產(chǎn)要求;同時(shí)應(yīng)降低能耗,在保證硅片清洗干凈和烘干的前提下,通過溫控系統(tǒng)調(diào)整溶劑和漂洗水的溫度,以及烘干的溫度和時(shí)間。

2設(shè)備整體結(jié)構(gòu):

上料臺(tái)全自動(dòng)硅片清洗機(jī)是按照一定的工藝要求,由機(jī)架、懸臂機(jī)械手、上料臺(tái)、各種超聲清洗槽、拋動(dòng)機(jī)構(gòu)、慢提拉系統(tǒng)、烘干系統(tǒng)、抽風(fēng)系統(tǒng)、溫控系統(tǒng)、電控系統(tǒng)等構(gòu)成一個(gè)多功能的完整設(shè)備。該設(shè)備適用的硅片規(guī)格:125mm×125mm,156mm×156mm。如圖1所示。

2.1機(jī)架和槽體的設(shè)計(jì):

考慮到太陽(yáng)能硅片清洗時(shí)所用的溶劑為堿溶液,為了提高設(shè)備的耐腐蝕性,槽體所用的材質(zhì)為優(yōu)質(zhì)不銹鋼。機(jī)架的整體材質(zhì)為碳鋼,并用瓷白色PP板進(jìn)行包覆,不僅滿足了設(shè)備的強(qiáng)度要求,而且達(dá)到防腐蝕的目的,并降低了成本。為了降低能耗,槽體的外部包覆有保溫棉,減少了熱量的損失;同時(shí)槽體有溢流功能,采用逆流水洗的清洗工藝,減少了廢水的排放量。

太陽(yáng)能硅片清洗機(jī)?

2.2懸臂機(jī)械手設(shè)計(jì):

機(jī)械手的作用是把裝滿硅片的籃具在不同工位之間進(jìn)行搬運(yùn),除上料工位需要人工放置籃具外,其余的動(dòng)作過程都是有機(jī)械手來實(shí)現(xiàn)的,充分發(fā)揮了設(shè)備的性能,能極大的提高生產(chǎn)效率。如圖2所示。

太陽(yáng)能硅片清洗機(jī)?

機(jī)械手的橫向運(yùn)行動(dòng)作采用的是齒輪、齒條結(jié)構(gòu),配有導(dǎo)向軸;縱向提升動(dòng)作采用的滾珠絲杠結(jié)構(gòu),配有導(dǎo)向軸。此結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)保證了機(jī)械手運(yùn)行時(shí)噪聲小,籃具能平穩(wěn)傳輸,從而降低了硅片的碎片率。采用交流伺服電機(jī),保證速度可調(diào),滿足了機(jī)械手動(dòng)作的工藝要求:橫向運(yùn)行速度6~8m/min;縱向提升速度3~4m/min。每個(gè)工位都安裝有傳感器,當(dāng)機(jī)械手快速接近目標(biāo)位置時(shí)降低速度,實(shí)現(xiàn)緩慢靠近,以便保證籃具內(nèi)的硅片不會(huì)有很大的晃動(dòng)。

機(jī)械手脫鉤的動(dòng)作是由氣缸來完成,氣缸帶有調(diào)速閥,可以調(diào)節(jié)動(dòng)作的快慢。在運(yùn)行中,機(jī)械手有可能出現(xiàn)動(dòng)作失誤,將籃具放置在錯(cuò)誤的位置,造成硅片碎片。為了防止這一后果,機(jī)械手的臂做成活動(dòng)的并裝有微動(dòng)傳感器,當(dāng)動(dòng)作出現(xiàn)錯(cuò)誤,臂就會(huì)被頂起,微動(dòng)傳感器就會(huì)感應(yīng)到,機(jī)械手停止工作。

2.3拋動(dòng)機(jī)構(gòu)設(shè)計(jì):

在設(shè)計(jì)時(shí)考慮到超聲波以正弦波向上發(fā)射,在波峰和波谷處作用力強(qiáng),而在節(jié)點(diǎn)處作用力弱的特點(diǎn),造成硅片局部清洗不干凈。針對(duì)這些特點(diǎn),在設(shè)計(jì)時(shí)為了消除超聲的忙點(diǎn),加入了拋動(dòng)機(jī)構(gòu)。拋動(dòng)機(jī)構(gòu)由減速電機(jī)、偏心輪,軸承、架體等組成。使清洗工件產(chǎn)生上下運(yùn)動(dòng),拋動(dòng)行程為50mm左右,頻率約為18次/min。

2.4烘干系統(tǒng)設(shè)計(jì):

烘干系統(tǒng)的目的是把清洗干凈的硅片烘干。為了減少烘干系統(tǒng)內(nèi)的熱量損失,烘箱采用內(nèi)、外層為不銹鋼鋼板,中間填充保溫棉的結(jié)構(gòu);兩側(cè)并安裝有自動(dòng)門,由氣缸推動(dòng),當(dāng)籃具進(jìn)入烘箱內(nèi)及時(shí)把門關(guān)閉。在烘箱頂部安裝有熱風(fēng)裝置,該裝置由風(fēng)機(jī)運(yùn)作將加熱后的熱空氣對(duì)工件吹風(fēng)。

2.5控制系統(tǒng)設(shè)計(jì):

電氣系統(tǒng)控制是整個(gè)設(shè)備的重要部分,編程安排系統(tǒng)在各個(gè)清洗槽的運(yùn)動(dòng)時(shí)序、控制閥門以及清洗工藝模塊的工作狀態(tài)[3]。盡管該設(shè)備運(yùn)行簡(jiǎn)單,但是根據(jù)不同的工藝要求,需要完成不同的動(dòng)作時(shí)序,因此需要能夠修改工藝流程和運(yùn)行參數(shù),使整個(gè)控制系統(tǒng)具有較強(qiáng)的可調(diào)性。為此選用工程控制常用的可編程控制器PLC、觸摸屏等主要控制系統(tǒng)。如圖3所示。采用“歐姆龍”PLC可編程控制器控制全操作過程,既可全自動(dòng)操作,也可手動(dòng)操作。在自動(dòng)模式運(yùn)行下,操作人員只需要手動(dòng)上、下料即可,其余過程設(shè)備將自動(dòng)運(yùn)行,實(shí)現(xiàn)自動(dòng)清洗。在自動(dòng)模式下,操作人員可以手動(dòng)更改工藝,以及控制設(shè)備的運(yùn)行[4]。

系統(tǒng)中,主要通過觸摸屏來更改清洗的相關(guān)參數(shù):清洗時(shí)間、機(jī)械手運(yùn)行及停頓時(shí)間、溫度的高低、上下料的節(jié)奏以及烘干的溫度等等。PLC根據(jù)更改過的參數(shù),發(fā)出控制指令,進(jìn)行硅片的清洗完成全過程。

太陽(yáng)能硅片清洗機(jī)?

3影響清洗過程的關(guān)鍵點(diǎn):

1)設(shè)備運(yùn)行的平穩(wěn)性。由于太陽(yáng)能硅片既薄又脆,小的振動(dòng)都可能使它破裂,所以設(shè)備能否平穩(wěn)運(yùn)行是一個(gè)最基本也是很重要的問題。要解決這一問題,首先要保證設(shè)備的機(jī)械機(jī)構(gòu)設(shè)計(jì)合理,在運(yùn)行中不能有大的振動(dòng)。除此之外,還要通過PLC來控制伺服電機(jī),調(diào)節(jié)機(jī)械手運(yùn)行的速度以及就位時(shí)的速度,使籃具就位之前有個(gè)減速的動(dòng)作,避免機(jī)械手突然停住而引起籃具晃動(dòng)。

2)超生清洗的時(shí)間。超聲清洗的時(shí)間長(zhǎng)會(huì)得到質(zhì)量較好的硅片,但是會(huì)影響設(shè)備的生產(chǎn)率,同時(shí)也會(huì)浪費(fèi)能源,比如耗電、廢水、溶劑等。但是清洗的時(shí)間短,就得不到高質(zhì)量的硅片,所以工藝時(shí)間的選擇很重要。為了加強(qiáng)超聲清洗的效果,設(shè)備在上料臺(tái)加了浸泡的功能,使硅片在清洗之前先除去一些表面的雜物;同時(shí)加了拋動(dòng)機(jī)構(gòu),使籃具在清洗時(shí)有上下動(dòng)作,避免在清洗時(shí)有死角存在。

3)烘干系統(tǒng)的溫度及時(shí)間設(shè)定。烘干系統(tǒng)是把清洗過的硅片進(jìn)行烘干。提高烘箱內(nèi)的溫度和延長(zhǎng)烘干的時(shí)間都可以達(dá)到這一目的。但是,溫度過高會(huì)極其耗電,浪費(fèi)掉大量的能源;而延長(zhǎng)烘干的時(shí)間,會(huì)影響設(shè)備的清洗節(jié)拍,降低生產(chǎn)效率。所以在生產(chǎn)的過程中就要調(diào)整烘干的溫度和時(shí)間,使設(shè)備滿足生產(chǎn)工藝的前提下,盡量降低烘箱內(nèi)的溫度,以此來達(dá)到節(jié)能減排的目的,提高企業(yè)的利潤(rùn)。

免責(zé)聲明:文章來源于網(wǎng)絡(luò),如有侵權(quán)請(qǐng)聯(lián)系本網(wǎng)站刪除。


Copyright ©2005 - 2013 華林科納(江蘇)半導(dǎo)體設(shè)備有限公司
犀牛云提供企業(yè)云服務(wù)
華林科納(江蘇)半導(dǎo)體設(shè)備有限公司
地址:中國(guó)江蘇南通如皋高新區(qū)桃金東路90號(hào)
電話:0513-87733829
Email:xzl1019@aliyun.com
regal-bio.cn

傳真:0513-87733829
郵編:226500


X
1

QQ設(shè)置

3

SKYPE 設(shè)置

4

阿里旺旺設(shè)置

2

MSN設(shè)置

5

電話號(hào)碼管理

  • 400-8798-096
6

二維碼管理

8

郵箱管理

展開