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濕法制程整體解決方案提供商

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推薦產(chǎn)品 / 產(chǎn)品中心
發(fā)布時(shí)間: 2017 - 12 - 06
在LED外延及芯片制造領(lǐng)域,濕法設(shè)備占據(jù)約40%以上的工藝,隨著工藝技術(shù)的不斷發(fā)展,濕法設(shè)備已經(jīng)成為L(zhǎng)ED外延及芯片制造領(lǐng)域的關(guān)鍵設(shè)備,如SPM酸清洗、有機(jī)清洗、顯影、去膠、ITO蝕刻、BOE蝕刻、PSS高溫側(cè)腐、下蠟、勻膠、甩干、掩膜版清洗等。華林科納(江蘇)CSE深入研究LED生產(chǎn)工藝,現(xiàn)已形成可滿足LED產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目需求的全自動(dòng)濕法工藝標(biāo)準(zhǔn)成套設(shè)備。 LED 芯片的制造工藝流程為:外延片→清洗→鍍透明電極層→透明電極圖形光刻→腐蝕→去膠→平臺(tái)圖形光刻→干法刻蝕→去膠→退火→SiO2 沉積→窗口圖形光刻→SiO2腐蝕→去膠→N極圖形光刻→預(yù)清洗→鍍膜→剝離→退火→P 極圖形光刻→鍍膜→剝離→研磨→切割→芯片→成品測(cè)試。 CSE-外延片清洗機(jī)設(shè)備 設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-外延片清洗機(jī)設(shè)備可處理晶圓尺寸2”-12”可處理晶圓材料硅、砷化鎵、磷化銦、氮化鎵、碳化硅、鈮酸鋰、鉭酸鋰等應(yīng)用領(lǐng)域集成電路、聲表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先進(jìn)封裝等專(zhuān)有技術(shù)系統(tǒng)潔凈性技術(shù)均勻性技術(shù)晶圓片N2干燥技術(shù)模塊化系統(tǒng)集成技術(shù)自動(dòng)傳輸及精確控制技術(shù)溶液溫度、流量和壓力的精確控制技術(shù)主要技術(shù)特點(diǎn)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)緊湊、安全腔體獨(dú)立密封,具有多種功能可實(shí)現(xiàn)晶圓干進(jìn)干出采用工控機(jī)控制,功能強(qiáng)大,操作簡(jiǎn)便可根據(jù)用戶要求提供個(gè)性化解決方案設(shè)備制造商華林科納(江蘇)半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 regal-bio.cn 400-8768-096 ;18915583058更多的外延片清洗設(shè)備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(regal-bio.cn),現(xiàn)在熱線咨詢400-8798-096可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體行業(yè)相關(guān)清洗設(shè)備解決方案。
發(fā)布時(shí)間: 2017 - 12 - 06
旋轉(zhuǎn)式噴鍍臺(tái)結(jié)合微組裝工藝對(duì)鍍制工藝的小批量、多規(guī)格和特殊應(yīng)用要求等特點(diǎn),在6" (150mm)晶圓電鍍系統(tǒng)中采用了傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍單元分由兩個(gè)部分組成,一為陰極夾具、旋轉(zhuǎn)單元、導(dǎo)線電刷、N2 保護(hù)單元組成的陰極回轉(zhuǎn)體,二為三角形槽體、陽(yáng)極和電力線擋板組成的陽(yáng)極腔。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍結(jié)構(gòu)示意圖如下:從鍍制結(jié)構(gòu)方式、鍍制工藝應(yīng)用分析可以看出,采用傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍有以下幾種優(yōu)勢(shì)。一是這種結(jié)構(gòu)方式易實(shí)現(xiàn)槽體密封和附加N2 保護(hù)功能。二是在這種鍍制工藝中,陰極的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)使槽內(nèi)電場(chǎng)不均問(wèn)題得以解決,從而提高了鍍制的均勻性。三是呈45°傾斜加陰極旋轉(zhuǎn)的方式,可以較容易的祛除晶圓表面的氣泡附著及“產(chǎn)生”氣泡的消除。四是采用了多微孔進(jìn)行鍍液噴射,實(shí)現(xiàn)攪拌功能,消除局部PH值、溫度、離子濃度等不均勻帶來(lái)的影響。五是采用三角形鍍槽設(shè)計(jì)最大限度的減少了鍍液的消耗。六是該鍍制結(jié)構(gòu)方式可以滿足多品種、小批量、低成本的生產(chǎn)需求。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)、工藝優(yōu)勢(shì)斜式三角鍍槽結(jié)構(gòu)本系統(tǒng)采用傾斜式三角形鍍槽結(jié)構(gòu),鍍槽入口溢流口均與三角形斜邊平行,可得到穩(wěn)定且不易積累氣泡的流場(chǎng)環(huán)境。通過(guò)進(jìn)行相關(guān)模擬、仿真和驗(yàn)證,鍍液入口采用扇形噴咀式結(jié)構(gòu),可保證鍍液在平行于陰極表面方向上形成均勻而穩(wěn)定的流場(chǎng)。從而通過(guò)改變流場(chǎng)的方法改善了鍍層的均勻性。該結(jié)構(gòu)的另一優(yōu)點(diǎn)可使電鍍液的用量減至最少程度。 華林科納(江蘇)CSE采用傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍方法進(jìn)行晶圓電鍍工藝處理,由于結(jié)構(gòu)上的特點(diǎn),該方法經(jīng)實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證具有:①結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單;②工藝參數(shù)控制容易;③有利氣泡的消除;④鍍制均勻性得到提高;⑤鍍制溶液用量少。該方法尤其適應(yīng)于小批量、多規(guī)格的電鍍工藝,同時(shí)可以取得較好的鍍制均勻性。圖6為我們所研制的150mm晶圓傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍系統(tǒng),目前已批量生產(chǎn)并在工藝線上得到較好的應(yīng)用,產(chǎn)品已通過(guò)技術(shù)定型鑒定和用戶驗(yàn)收。實(shí)現(xiàn)的主要工藝指標(biāo):最...
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 06 - 22
雙腔甩干機(jī)1. 應(yīng)用范圍:l 本機(jī)臺(tái)適用於半導(dǎo)體2”4”6”8”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 設(shè)備為垂直式雙槽體機(jī)臺(tái),可同Run 50片.l 可對(duì)旋乾步驟進(jìn)行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設(shè)備已超過(guò)20年以上的應(yīng)用馬達(dá)控制系統(tǒng)設(shè)計(jì), 高穩(wěn)定度Rotor 設(shè)計(jì), 震動(dòng)值均控制於300 um 以下.l 高潔淨(jìng)設(shè)計(jì),微塵控制於每次運(yùn)轉(zhuǎn)增加量, 0.3um , 30顆以下.   2. 操作流程3. 圖示 4. 規(guī)格l 機(jī)臺(tái)內(nèi)皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達(dá): DC無(wú)刷馬達(dá)750Wl 真空負(fù)壓軸封設(shè)計(jì),隔離槽外污染l 不銹鋼N2過(guò)濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測(cè)保護(hù)(加熱器空燒保護(hù))l 槽外貼Silicon材質(zhì)加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開(kāi)關(guān)90°C OFF 70°C ON)l  Viton材質(zhì)充氣式氣囊及槽後密封環(huán),保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經(jīng)拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉(zhuǎn)子,並按客戶需求指定使用訂做l 轉(zhuǎn)子經(jīng)拋光及電解研磨,並做動(dòng)態(tài)平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂(lè)故障碼功能: 門(mén)鎖警告,氣體不足,傳動(dòng)異常警告 5. 電控系統(tǒng)l  控制器操作介面: 7”記憶人機(jī)+ PLC可程式自動(dòng)化控制器(人機(jī) Touch Screen,整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲(chǔ)存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/,皆可從操作螢?zāi)簧闲薷摹?#216; 儲(chǔ)存能力記憶模組...
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 03 - 07
枚葉式清洗機(jī)-華林科納CSE華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-單片枚葉式洗凈裝置的特長(zhǎng):?jiǎn)纹角逑囱b置的優(yōu)點(diǎn)(與浸漬.槽式比較)1.晶片表面的微粒數(shù)非常少(到25nm可對(duì)應(yīng))例:附著粒子數(shù)…10個(gè)/W以下(0.08UM以上粒子)(參考)槽式200個(gè)/W2.藥液純水的消費(fèi)量少藥液…(例)1%DHF的情況  20L/日純水...每處理一枚晶片0.5-1L/分3.小裝置size(根據(jù)每個(gè)客戶可以定制) 液體濺射(塵埃強(qiáng)制除去)  (推薦)清洗方法單片式裝置的Particle再附著問(wèn)題   更多的半導(dǎo)體單片枚葉式濕法腐蝕清洗設(shè)備相關(guān)信息可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(www.hlkncas.com),現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096;18913575037可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體清洗解決方案。
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 03 - 07
自動(dòng)供酸系統(tǒng)(CDS)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-CDS自動(dòng)供酸系統(tǒng) 適用對(duì)象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進(jìn)行配送,經(jīng)管道至設(shè)備;具有自動(dòng)化程度高,配比精確,操作簡(jiǎn)便等特點(diǎn);具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩?dòng)控制模式、自動(dòng)控制模式設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-CDS自動(dòng)供酸系統(tǒng)設(shè)備型號(hào)CSE-CDS-N1507設(shè)計(jì)基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡(jiǎn)稱:CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房?jī)?nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房;3. 設(shè)備材質(zhì)說(shuō)明(酸堿類(lèi)):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運(yùn)送到制程使用點(diǎn);5. 過(guò)濾器:配有10” PFA材質(zhì)過(guò)濾器外殼;6. 供液泵:每種化學(xué)液體配有兩臺(tái)或者一臺(tái) PTFE材質(zhì)的進(jìn)口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類(lèi)采用一般型靜電容近接開(kāi)關(guān);8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測(cè)器與警報(bào)功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能:每種化學(xué)液體配兩個(gè)桶(自動(dòng)切換)、配兩臺(tái)泵(一用一備)、帶過(guò)濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動(dòng)化與親和力。在...
發(fā)布時(shí)間: 2018 - 01 - 23
單片清洗機(jī)-華林科納CSESingle wafer cleaner system華林科納(江蘇)CSE-自動(dòng)單片式腐蝕清洗機(jī)應(yīng)用于清洗(包括光刻板清洗)刻蝕 去膠 金屬剝離等;可處理晶圓尺寸2'-12';可處理晶圓材料:硅 砷化鎵 磷化銦 氮化鎵 碳化硅 鈮酸鋰 鉭酸鋰等;主要應(yīng)用領(lǐng)域:集成電路   聲表面波器件  微波毫米波器件  MEMS  先進(jìn)封裝等  設(shè) 備 名 稱CSE-單片清洗機(jī)類(lèi)  型單片式適 用 領(lǐng) 域半導(dǎo)體、太陽(yáng)能、液晶、MEMS等清 洗 方 式2英寸——12英寸設(shè)備穩(wěn)定性1、≥0.2um顆粒少于10顆2、金屬附著量:3E10 atoms/ cm²3、純水消耗量:1L/min/片4、蝕刻均一性良好(SiO?氧化膜被稀釋HF處理):≤2%5、干燥時(shí)間:≤20S6、藥液回收率:>95%單片式優(yōu)點(diǎn)1、單片處理時(shí)間短(相較于槽式清洗機(jī))2、節(jié)約成本(藥液循環(huán)利用,消耗量遠(yuǎn)低于槽式)3、良品率高4、有效避免邊緣再附著5、立體層疊式結(jié)構(gòu),占地面積小 更多的單片(枚葉)式清洗相關(guān)設(shè)備可以關(guān)注華林科納(江蘇)半導(dǎo)體官網(wǎng),關(guān)注http://regal-bio.cn ,400-8768-096,18913575037
發(fā)布時(shí)間: 2017 - 12 - 06
氫氟酸HF自動(dòng)供液系統(tǒng)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-氫氟酸供液系統(tǒng) 適用對(duì)象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進(jìn)行配送,經(jīng)管道至設(shè)備;具有自動(dòng)化程度高,配比精確,操作簡(jiǎn)便等特點(diǎn);具有良好的耐腐蝕性能。控制模式:手動(dòng)控制模式、自動(dòng)控制模式 設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-氫氟酸(HF)供液系統(tǒng)設(shè)備型號(hào)CSE-CDS-N2601設(shè)計(jì)基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡(jiǎn)稱:CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房?jī)?nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房;3. 設(shè)備材質(zhì)說(shuō)明(酸堿類(lèi)):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運(yùn)送到制程使用點(diǎn);5. 過(guò)濾器:配有10” PFA材質(zhì)過(guò)濾器外殼;6. 供液泵:每種化學(xué)液體配有兩臺(tái)或者一臺(tái) PTFE材質(zhì)的進(jìn)口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類(lèi)采用一般型靜電容近接開(kāi)關(guān);8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測(cè)器與警報(bào)功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能:每種化學(xué)液體配兩個(gè)桶(自動(dòng)切換)、配兩臺(tái)泵(一用一備)、帶過(guò)濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動(dòng)化...
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自動(dòng)探針測(cè)試臺(tái)

時(shí)間: 2021-04-09
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TZ一107自動(dòng)探針測(cè)試臺(tái)

主要技術(shù)指標(biāo)及功能

該機(jī)的主要技術(shù)指標(biāo);可測(cè)片徑;75、100125mm。工作臺(tái)最大行程;x向265ram,Y向205mm4工作臺(tái)速度:50mm/S。定位精度:±0.O13mm。

重復(fù)精度:±0.003mm。行進(jìn)分辨率:0.Olmm。z向行程:O~O.8mm可誦。該機(jī)工作臺(tái)調(diào)整采用多功能集中控制手柄??蓪?shí)現(xiàn)微動(dòng)(10m/步)、連續(xù)點(diǎn)動(dòng)’快動(dòng)、步進(jìn)等l6種功能。通過(guò)鍵盤(pán)命令,可實(shí)現(xiàn)“掃描”、圖形/探邊方式選擇、自檢、公制/英制步距選擇、單圖測(cè)試、中停、z向升降及微調(diào)。機(jī)器還具有同步/延時(shí)打點(diǎn)選擇,工作狀態(tài)顯示及聲光報(bào)警功能,以及品片平墼:墨:跟蹤。并可根據(jù)配接的測(cè)試儀不同進(jìn)行狀態(tài)預(yù)置。測(cè)試完畢,承片臺(tái)自動(dòng)高速“回零”到下料位置,便于裝卸晶片。

自動(dòng)探針測(cè)試臺(tái)?

該系統(tǒng)由滾珠絲杠、電機(jī)座l、底座2、溜板3、軸承座4和6、連板5以及軸承、直線滾動(dòng)導(dǎo)軌、步進(jìn)電機(jī)等組成。用以完成)0一Y步進(jìn)運(yùn)動(dòng)、掃描、裝卸片時(shí)快速進(jìn)中心和回零。x、Y向均采用最高精度的C級(jí)滾球絲杠,較高精度的D級(jí)滾動(dòng)直線導(dǎo)軌,和高速大力矩步進(jìn)電機(jī)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)。使精度和可重復(fù)

性達(dá)到美[Electroglas公司生產(chǎn)的lO34x一6型5自動(dòng)探針臺(tái)的水平。由于選用了新型滾動(dòng)功能部件,還使結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、工作穩(wěn)定、易于維護(hù)保養(yǎng)

自動(dòng)探針測(cè)試臺(tái)?

該系統(tǒng)由吸盤(pán)1、芯軸2、擺桿5、托板8、偏心套10和步進(jìn)電機(jī)等組成。主要功能是支承和固定晶片,完成0向?qū)?zhǔn)及z向升降。為適應(yīng)國(guó)內(nèi)器件生產(chǎn)廠家的不同需要,吸盤(pán)的氣堵螺釘可以調(diào)節(jié),以改變吸附面積適應(yīng)75、109和125ram幾種規(guī)格尺寸的圓片。該系統(tǒng)結(jié)構(gòu)系我所獨(dú)創(chuàng),設(shè)計(jì)精巧、工藝性好。采用直線滾動(dòng)軸承導(dǎo)向、雙軸承定向,摩擦田力小、動(dòng)作靈活、重復(fù)精度高、響應(yīng)速度快、工作平穩(wěn)可靠。由于z向運(yùn)動(dòng)鋼球是微過(guò)盈配臺(tái),所以無(wú)橫向漂移。工作性能超過(guò)同類(lèi)型進(jìn)口設(shè)備的承片臺(tái)。

自動(dòng)探針測(cè)試臺(tái)?

該機(jī)控制系統(tǒng)LTP--801A單板機(jī)為核心,依靠控制程序,通過(guò)接口電路、光電隔離以及功率放大,使執(zhí)行元件(步進(jìn)電機(jī))動(dòng)作。在步進(jìn)當(dāng)量14m/步不變的情況下,采用補(bǔ)償技術(shù),實(shí)現(xiàn)公制與英制的較換??刂瞥绦虿捎媚K式子程序結(jié)構(gòu)。占用內(nèi)存4K字節(jié),田化在兩塊2716中。該控制系統(tǒng)的特點(diǎn)是:簡(jiǎn)化了硬件結(jié)構(gòu),擴(kuò)充了功能,增強(qiáng)了系統(tǒng)的靈活性和適應(yīng)性,測(cè)試探頭、探邊器零Ⅱ打點(diǎn)器

測(cè)試探頭的技術(shù)性能和穩(wěn)定可靠性,以及微調(diào)性能,是直接影響探針設(shè)備性能的重要因素。我們對(duì)我所研制的各型探頭進(jìn)行了剖析及調(diào)研了用戶的使用情況后,以合理她結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),改善了針頭的接觸性能和微調(diào)性,增大了翻節(jié)量。使x、Y、z向分別達(dá)到1O。8、6mm以上。本機(jī)還配有固定探針卡針盤(pán)適于國(guó)際通用標(biāo)準(zhǔn)探卡(114×187mm)測(cè)試探邊器是用于探測(cè)到晶片邊緣就自動(dòng)拐彎換向的機(jī)構(gòu)。它仍采用機(jī)械觸點(diǎn)式結(jié)構(gòu),通過(guò)機(jī)械觸點(diǎn)的接觸、脫離使電氣通斷,控胡工作運(yùn)臺(tái)動(dòng),使用效果良好。在使用中我們還發(fā)現(xiàn),如果能研制出一種使針頭與晶片在電氣上絕緣的“無(wú)接觸邊緣博感器,對(duì)于提高機(jī)器電控部分的可靠性就更理想了。打點(diǎn)器用于在不合格電路表面打上標(biāo)記,以沒(méi)下遒工序分選。率機(jī)打點(diǎn)器設(shè)計(jì)成軟碰撞結(jié)構(gòu),對(duì)鋇5試晶片的沖撞力小,不易損壞晶片,普通碳素墨水和進(jìn)口油墨均能適用。需要指出的是,打點(diǎn)器的工作穩(wěn)定性與使用的油墨性質(zhì)關(guān)系很大。國(guó)內(nèi)普遍使用的書(shū)寫(xiě)用碳索墨水,因其為水質(zhì)液體,粘度小、易干涸,因麗容易造成打點(diǎn)器工作時(shí)流淌或堆塞。而且隨著砂輪劃片工藝的普遍采用,普通碳素墨水標(biāo)記容易被劃片時(shí)的壓力水沖洗掉。_且n果使用進(jìn)口油墨時(shí),效果更為理想。遺憾的是,和國(guó)外生產(chǎn)的油墨性質(zhì)近似的打點(diǎn)用墨水,目前還未發(fā)現(xiàn)。工作臺(tái)速度自動(dòng)探針臺(tái)的工作臺(tái)速度關(guān)系到測(cè)試效率,是一個(gè)很耍要的指標(biāo),也是用戶十分關(guān)心的問(wèn)題國(guó)外先進(jìn)的探針測(cè)試設(shè)備已普遍采用平面電機(jī)工作臺(tái),具有速度及加速度快、分辨率高、結(jié)構(gòu)筒譯、精度穩(wěn)定、便于維護(hù)的特點(diǎn)。由于目前國(guó)產(chǎn)平面電機(jī)在精度上要差一個(gè)數(shù)量級(jí),尚無(wú)可供選擇作精密工作臺(tái)的型號(hào)。1—l07探針臺(tái)仍采用步進(jìn)電機(jī)一絲杠結(jié)構(gòu),其最大速度為;

自動(dòng)探針測(cè)試臺(tái)

式中,b一分辨率,亦稱脈沖當(dāng)量或步進(jìn)當(dāng)量,單位為mm/脈沖,a一步進(jìn)電機(jī)的步距角,L一絲杠導(dǎo)程,單位為mm。

對(duì)于某一設(shè)定的步進(jìn)電機(jī)一絲杠結(jié)構(gòu)工作臺(tái),步進(jìn)電機(jī)的步距角a、最高運(yùn)行頻率fmax是固定的。因此欲提高晟大速度Vmax,只有增大絲杠導(dǎo)程L。L的數(shù)值也增大了,即分辨精度降低了值增大對(duì)于Ic的測(cè)試是不利的,甚至無(wú)法對(duì)準(zhǔn)壓焊點(diǎn)及達(dá)到所需的步距。從使用的角度希望Vmax定性。測(cè)試效率還和配接的測(cè)試系統(tǒng)有關(guān),即在很大程度上取決于測(cè)試時(shí)間。所以在國(guó)產(chǎn)平面電機(jī)的精度尚未達(dá)到要求的情況下,根據(jù)我國(guó)的實(shí)際情況來(lái)綜合考慮,不單純追求速度指標(biāo),把提高設(shè)備的綜臺(tái)技術(shù)性能,提高性價(jià)比作為主導(dǎo)設(shè)計(jì)思想是比較適宜的。T一lO7自動(dòng)探針測(cè)試臺(tái)是目前國(guó)產(chǎn)實(shí)用型探測(cè)設(shè)備測(cè)試片徑最大、工作臺(tái)速度最高、功能最齊全的機(jī)型。它精度高、運(yùn)行穩(wěn)定,維修操作方便、造型美觀、式樣新穎。和盡量大一些,而b又盡可能小一些,對(duì)于步進(jìn)電機(jī)一絲杠結(jié)構(gòu)的工作臺(tái)兩者兼優(yōu)是困難的。Tz一1O7探針工作臺(tái)經(jīng)過(guò)精心設(shè)計(jì),采用了新型滾動(dòng)功能部件對(duì)我所以往的高速大力矩步進(jìn)電機(jī)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)進(jìn)行了改進(jìn),減少了振動(dòng)和噪音,提高了運(yùn)動(dòng)精度,使速度達(dá)到50mm/S以上,達(dá)到目前國(guó)產(chǎn)實(shí)用型自動(dòng)探針臺(tái)的最高水平。盡管如此,和平面電機(jī)工作臺(tái)相比,速度種加速度仍然要差一個(gè)數(shù)量級(jí)。筆者認(rèn)為,當(dāng)前國(guó)產(chǎn)自動(dòng)探針臺(tái)的主要問(wèn)題是提高可靠性和穩(wěn)定性,提高測(cè)試質(zhì)量。尤其對(duì)于LSI,由于測(cè)試項(xiàng)目多,測(cè)試時(shí)悶較長(zhǎng),動(dòng)針時(shí)閫相對(duì)較短,主要要求探針與器件的接觸可靠性及整機(jī)工作的穩(wěn)國(guó)際、國(guó)內(nèi)市場(chǎng)銷(xiāo)量較大的美國(guó)Electroglas公司的1034XA系列機(jī)比較,除工作臺(tái)速度、加速度和x—Y行進(jìn)分辨率低外,精度和可重復(fù)性與1034XA型機(jī)相同。某些功能優(yōu)于1034XA型機(jī)(如適應(yīng)片徑范圍廣,可調(diào)式與固定探卡式兩種探頭兼容,不用氣源,噪音小,具有z向接觸的白適應(yīng)控制等等)。而其售價(jià)僅為進(jìn)口機(jī)型的30%左右。該機(jī)的研制成功,為國(guó)內(nèi)器件生產(chǎn)廠家提供了可供選擇的較為理想的機(jī)型。

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