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發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
在LED外延及芯片制造領(lǐng)域,濕法設(shè)備占據(jù)約40%以上的工藝,隨著工藝技術(shù)的不斷發(fā)展,濕法設(shè)備已經(jīng)成為LED外延及芯片制造領(lǐng)域的關(guān)鍵設(shè)備,如SPM酸清洗、有機清洗、顯影、去膠、ITO蝕刻、BOE蝕刻、PSS高溫側(cè)腐、下蠟、勻膠、甩干、掩膜版清洗等。華林科納(江蘇)CSE深入研究LED生產(chǎn)工藝,現(xiàn)已形成可滿足LED產(chǎn)業(yè)化項目需求的全自動濕法工藝標(biāo)準(zhǔn)成套設(shè)備。 LED 芯片的制造工藝流程為:外延片→清洗→鍍透明電極層→透明電極圖形光刻→腐蝕→去膠→平臺圖形光刻→干法刻蝕→去膠→退火→SiO2 沉積→窗口圖形光刻→SiO2腐蝕→去膠→N極圖形光刻→預(yù)清洗→鍍膜→剝離→退火→P 極圖形光刻→鍍膜→剝離→研磨→切割→芯片→成品測試。 CSE-外延片清洗機設(shè)備 設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-外延片清洗機設(shè)備可處理晶圓尺寸2”-12”可處理晶圓材料硅、砷化鎵、磷化銦、氮化鎵、碳化硅、鈮酸鋰、鉭酸鋰等應(yīng)用領(lǐng)域集成電路、聲表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先進封裝等專有技術(shù)系統(tǒng)潔凈性技術(shù)均勻性技術(shù)晶圓片N2干燥技術(shù)模塊化系統(tǒng)集成技術(shù)自動傳輸及精確控制技術(shù)溶液溫度、流量和壓力的精確控制技術(shù)主要技術(shù)特點系統(tǒng)結(jié)構(gòu)緊湊、安全腔體獨立密封,具有多種功能可實現(xiàn)晶圓干進干出采用工控機控制,功能強大,操作簡便可根據(jù)用戶要求提供個性化解決方案設(shè)備制造商華林科納(江蘇)半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 regal-bio.cn 400-8768-096 ;18915583058更多的外延片清洗設(shè)備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(regal-bio.cn),現(xiàn)在熱線咨詢400-8798-096可立即獲取免費的半導(dǎo)體行業(yè)相關(guān)清洗設(shè)備解決方案。
發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
旋轉(zhuǎn)式噴鍍臺結(jié)合微組裝工藝對鍍制工藝的小批量、多規(guī)格和特殊應(yīng)用要求等特點,在6" (150mm)晶圓電鍍系統(tǒng)中采用了傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍單元分由兩個部分組成,一為陰極夾具、旋轉(zhuǎn)單元、導(dǎo)線電刷、N2 保護單元組成的陰極回轉(zhuǎn)體,二為三角形槽體、陽極和電力線擋板組成的陽極腔。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍結(jié)構(gòu)示意圖如下:從鍍制結(jié)構(gòu)方式、鍍制工藝應(yīng)用分析可以看出,采用傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍有以下幾種優(yōu)勢。一是這種結(jié)構(gòu)方式易實現(xiàn)槽體密封和附加N2 保護功能。二是在這種鍍制工藝中,陰極的旋轉(zhuǎn)運動使槽內(nèi)電場不均問題得以解決,從而提高了鍍制的均勻性。三是呈45°傾斜加陰極旋轉(zhuǎn)的方式,可以較容易的祛除晶圓表面的氣泡附著及“產(chǎn)生”氣泡的消除。四是采用了多微孔進行鍍液噴射,實現(xiàn)攪拌功能,消除局部PH值、溫度、離子濃度等不均勻帶來的影響。五是采用三角形鍍槽設(shè)計最大限度的減少了鍍液的消耗。六是該鍍制結(jié)構(gòu)方式可以滿足多品種、小批量、低成本的生產(chǎn)需求。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)、工藝優(yōu)勢斜式三角鍍槽結(jié)構(gòu)本系統(tǒng)采用傾斜式三角形鍍槽結(jié)構(gòu),鍍槽入口溢流口均與三角形斜邊平行,可得到穩(wěn)定且不易積累氣泡的流場環(huán)境。通過進行相關(guān)模擬、仿真和驗證,鍍液入口采用扇形噴咀式結(jié)構(gòu),可保證鍍液在平行于陰極表面方向上形成均勻而穩(wěn)定的流場。從而通過改變流場的方法改善了鍍層的均勻性。該結(jié)構(gòu)的另一優(yōu)點可使電鍍液的用量減至最少程度。 華林科納(江蘇)CSE采用傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍方法進行晶圓電鍍工藝處理,由于結(jié)構(gòu)上的特點,該方法經(jīng)實驗驗證具有:①結(jié)構(gòu)簡單;②工藝參數(shù)控制容易;③有利氣泡的消除;④鍍制均勻性得到提高;⑤鍍制溶液用量少。該方法尤其適應(yīng)于小批量、多規(guī)格的電鍍工藝,同時可以取得較好的鍍制均勻性。圖6為我們所研制的150mm晶圓傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍系統(tǒng),目前已批量生產(chǎn)并在工藝線上得到較好的應(yīng)用,產(chǎn)品已通過技術(shù)定型鑒定和用戶驗收。實現(xiàn)的主要工藝指標(biāo):最...
發(fā)布時間: 2016 - 06 - 22
雙腔甩干機1. 應(yīng)用范圍:l 本機臺適用於半導(dǎo)體2”4”6”8”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 設(shè)備為垂直式雙槽體機臺,可同Run 50片.l 可對旋乾步驟進行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設(shè)備已超過20年以上的應(yīng)用馬達控制系統(tǒng)設(shè)計, 高穩(wěn)定度Rotor 設(shè)計, 震動值均控制於300 um 以下.l 高潔淨(jìng)設(shè)計,微塵控制於每次運轉(zhuǎn)增加量, 0.3um , 30顆以下.   2. 操作流程3. 圖示 4. 規(guī)格l 機臺內(nèi)皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達: DC無刷馬達750Wl 真空負壓軸封設(shè)計,隔離槽外污染l 不銹鋼N2過濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測保護(加熱器空燒保護)l 槽外貼Silicon材質(zhì)加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開關(guān)90°C OFF 70°C ON)l  Viton材質(zhì)充氣式氣囊及槽後密封環(huán),保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經(jīng)拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉(zhuǎn)子,並按客戶需求指定使用訂做l 轉(zhuǎn)子經(jīng)拋光及電解研磨,並做動態(tài)平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂故障碼功能: 門鎖警告,氣體不足,傳動異常警告 5. 電控系統(tǒng)l  控制器操作介面: 7”記憶人機+ PLC可程式自動化控制器(人機 Touch Screen,整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/,皆可從操作螢?zāi)簧闲薷摹?#216; 儲存能力記憶模組...
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 07
枚葉式清洗機-華林科納CSE華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-單片枚葉式洗凈裝置的特長:單片式清洗裝置的優(yōu)點(與浸漬.槽式比較)1.晶片表面的微粒數(shù)非常少(到25nm可對應(yīng))例:附著粒子數(shù)…10個/W以下(0.08UM以上粒子)(參考)槽式200個/W2.藥液純水的消費量少藥液…(例)1%DHF的情況  20L/日純水...每處理一枚晶片0.5-1L/分3.小裝置size(根據(jù)每個客戶可以定制) 液體濺射(塵埃強制除去)  (推薦)清洗方法單片式裝置的Particle再附著問題   更多的半導(dǎo)體單片枚葉式濕法腐蝕清洗設(shè)備相關(guān)信息可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(www.hlkncas.com),現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096;18913575037可立即獲取免費的半導(dǎo)體清洗解決方案。
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 07
自動供酸系統(tǒng)(CDS)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-CDS自動供酸系統(tǒng) 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送,經(jīng)管道至設(shè)備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點;具有良好的耐腐蝕性能。控制模式:手動控制模式、自動控制模式設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-CDS自動供酸系統(tǒng)設(shè)備型號CSE-CDS-N1507設(shè)計基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房內(nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房;3. 設(shè)備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點;5. 過濾器:配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學(xué)液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質(zhì)的進口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān);8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能:每種化學(xué)液體配兩個桶(自動切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動化與親和力。在...
發(fā)布時間: 2018 - 01 - 23
單片清洗機-華林科納CSESingle wafer cleaner system華林科納(江蘇)CSE-自動單片式腐蝕清洗機應(yīng)用于清洗(包括光刻板清洗)刻蝕 去膠 金屬剝離等;可處理晶圓尺寸2'-12';可處理晶圓材料:硅 砷化鎵 磷化銦 氮化鎵 碳化硅 鈮酸鋰 鉭酸鋰等;主要應(yīng)用領(lǐng)域:集成電路   聲表面波器件  微波毫米波器件  MEMS  先進封裝等  設(shè) 備 名 稱CSE-單片清洗機類  型單片式適 用 領(lǐng) 域半導(dǎo)體、太陽能、液晶、MEMS等清 洗 方 式2英寸——12英寸設(shè)備穩(wěn)定性1、≥0.2um顆粒少于10顆2、金屬附著量:3E10 atoms/ cm²3、純水消耗量:1L/min/片4、蝕刻均一性良好(SiO?氧化膜被稀釋HF處理):≤2%5、干燥時間:≤20S6、藥液回收率:>95%單片式優(yōu)點1、單片處理時間短(相較于槽式清洗機)2、節(jié)約成本(藥液循環(huán)利用,消耗量遠低于槽式)3、良品率高4、有效避免邊緣再附著5、立體層疊式結(jié)構(gòu),占地面積小 更多的單片(枚葉)式清洗相關(guān)設(shè)備可以關(guān)注華林科納(江蘇)半導(dǎo)體官網(wǎng),關(guān)注http://regal-bio.cn ,400-8768-096,18913575037
發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
氫氟酸HF自動供液系統(tǒng)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-氫氟酸供液系統(tǒng) 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送,經(jīng)管道至設(shè)備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點;具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩涌刂颇J?、自動控制模式 設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-氫氟酸(HF)供液系統(tǒng)設(shè)備型號CSE-CDS-N2601設(shè)計基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房內(nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房;3. 設(shè)備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點;5. 過濾器:配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學(xué)液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質(zhì)的進口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān);8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能:每種化學(xué)液體配兩個桶(自動切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動化...
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LED濕法清洗設(shè)備

時間: 2021-04-08
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LED濕法清洗設(shè)備

LED濕法清洗設(shè)備

主要由供液機柜、供液源、輸送單元、輸送管路、電氣控制、排風(fēng)裝置、漏液檢測等部分組成。

供液機柜:

供液機柜通常由耐腐蝕的PP(聚丙烯)材料焊接而成,機柜上設(shè)有進風(fēng)口及排風(fēng)裝置。排風(fēng)裝置除將酸、堿腐蝕氣體及時排出供液機柜外,還可以降低機柜內(nèi)揮發(fā)出的有機溶劑濃度,避免發(fā)生燃燒和爆炸。同時排風(fēng)口裝有風(fēng)壓檢測傳感器,當(dāng)廠務(wù)端排風(fēng)出現(xiàn)故障時,發(fā)出警報,以利維護人員及時處理。在供液機柜內(nèi)一般設(shè)計有滾輪機構(gòu),方便更換供液桶。機柜內(nèi)設(shè)有水槍,用于腐蝕液的沖洗。腐蝕區(qū)與供液泵、控制系統(tǒng)之間物理隔離,以避免電子元器件及金屬零件等被腐蝕。

供液源:

LED工藝線上供液源采用容積為20L的供液桶,供液桶為標(biāo)準(zhǔn)尺寸的耐腐蝕塑料桶,通常一種化學(xué)液配備兩只供液桶,兩只供液桶一用一備,交替進行工作,實現(xiàn)不間斷供液。

輸送系統(tǒng):

化學(xué)液輸送方式分泵浦輸送和惰性氣體輸送。泵浦輸送是利用泵的壓力做動力來輸送化學(xué)液,其特點是:化學(xué)液可進行過濾處理,輸送產(chǎn)生脈動較大,適用于長距離輸送。惰性氣體輸送是利用氣體的壓力做動力來輸送化學(xué)液。惰性氣體一般采用高純氮氣。該方式的特點是:不易和化學(xué)液反應(yīng),輸出流量小,需要壓力操作容器,結(jié)構(gòu)復(fù)雜,易產(chǎn)生故障。CDS較多采用泵浦輸送方式。輸送系統(tǒng)包括供液泵、過濾器、流量計等。由于氣動隔膜泵或氣動風(fēng)囊泵采用壓縮空氣為動力源,它的剪切力低、流量大、楊程高、工作中不產(chǎn)生火花、不產(chǎn)生熱量。因此作為供液泵,用來輸送各種腐蝕性液體,帶顆粒的液體,高黏度、易揮發(fā)、易燃、劇毒的液體。根據(jù)輸送的化學(xué)液特性的不同,可選用PP、PVDF、PTFE、不銹鋼等不同材質(zhì)的氣動泵。為減小氣動泵引起的化學(xué)液脈動,可加入泵緩沖器。對化學(xué)液有較高潔凈度要求時,可在CDS中加入循環(huán)系統(tǒng)和過濾器,根據(jù)化學(xué)液的特性及工藝要求,選擇相應(yīng)材質(zhì)的過濾器。

輸送管道:

輸送管道包括閥門及管件。由于PFA材料的雜質(zhì)析出量極少和優(yōu)良的化學(xué)穩(wěn)定性,且可以通過焊接或擴管實現(xiàn)連接。因此,CDS中較多采用PFA材質(zhì)的氣動隔膜閥和管件。管件的選用,主要考慮防腐性和輸送安全性問題,供液管道一般采用雙套管輸送,鋪設(shè)管道時應(yīng)使其有一定傾斜角度,以利漏液檢查和偵測。當(dāng)化學(xué)液在內(nèi)管道輸送,如果內(nèi)管泄漏,化學(xué)液就會順著內(nèi)外管之間的空隙流到供液柜,泄漏檢測傳感器測到后發(fā)出報警以便及時處理,防止安全事故的發(fā)生。酸、堿化學(xué)液的供液管道內(nèi)管為PFA材質(zhì),外管為透明PVC材料或PFA材料。有機溶劑等閃點低、易燃、易爆品的供液管道,內(nèi)管為SUS316材質(zhì),外管為PFA材料。為了增加系統(tǒng)的可靠性,應(yīng)減少管道的長度和管接頭的數(shù)量。

電氣控制系統(tǒng):

CDSPLC進行控制。運行方式分自動運行和手動運行兩種模式,自動模式下,當(dāng)CDS接收到濕法設(shè)備發(fā)出的供液請求信號后,自動運行供液程序,完成配、補液操作。手動模式下可進行單步的手動操作。系統(tǒng)具有漏液偵測應(yīng)急處理、系統(tǒng)故障自診斷、條形碼識別更換供液桶和化學(xué)液用量統(tǒng)計功能。對于易燃化學(xué)品,應(yīng)配備自動滅火系統(tǒng)。

CDS工作原理:

LED濕法清洗設(shè)備

CDS供液有單桶單泵供液、雙桶單泵供液和雙桶雙泵供液3種方式。單桶單泵供液系統(tǒng)最簡單,但可靠性較差,間斷供液,換液頻繁。其余兩種供液桶采用一用一備工作方式,當(dāng)一個供液桶打空后,系統(tǒng)自動切換到另一供液桶,實現(xiàn)不間斷供液。有較高要求時,在系統(tǒng)中可加裝過濾器和自循環(huán)管路,使原液達到過濾和攪拌目的。流量傳感器的作用是控制供液量,提高供液精度。

CDS精確配、補液實現(xiàn)方法:

兩種或兩種以上溶液按嚴格配比組成的混合液,要求CDS實現(xiàn)各組份的精確添加,這是保證產(chǎn)品質(zhì)量的前提。同時,在產(chǎn)品生產(chǎn)過程中,有些化學(xué)液消耗過大,需要少量的補充。如何實現(xiàn)精確配、補液,各設(shè)備制造商采用的方法也不盡相同,圖3是一種常用的配、補液原理示意圖。

LED濕法清洗設(shè)備

這種方式是為每種化學(xué)液在濕法清洗設(shè)備主機上配置計量槽,計量槽上設(shè)有液位傳感器,通過檢測計量槽液位,控制閥門的關(guān)閉,以實現(xiàn)配補液。傳感器的測量精度,計量桶橫截面尺寸,閥門關(guān)閉反應(yīng)速度輸送管道內(nèi)殘液的多少等均是影響配補液精度的重要因素。這種方式的特點是系統(tǒng)組成較復(fù)雜,配補液精度低,不適用于任意比例配液要求。為此,我們采用以下方案進行控制,見圖4原理示意圖。

LED濕法清洗設(shè)備

這種方式用流量傳感器取代計量桶,流量計具有批量處理和在線校正功能,供液量在流量計量程范圍內(nèi)可任意設(shè)置,當(dāng)供液達到設(shè)定值,PLC接到流量計反饋信號后,自動關(guān)閉閥門。閥門關(guān)閉速度和輸送管道內(nèi)殘液對供液精度的影響可通過在流量計線校正功能予與消除。該方式特點:配補液精度高,結(jié)構(gòu)簡單,可實現(xiàn)化學(xué)液任意配比要求。

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