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濕法制程整體解決方案提供商

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發(fā)布時(shí)間: 2017 - 12 - 06
在LED外延及芯片制造領(lǐng)域,濕法設(shè)備占據(jù)約40%以上的工藝,隨著工藝技術(shù)的不斷發(fā)展,濕法設(shè)備已經(jīng)成為L(zhǎng)ED外延及芯片制造領(lǐng)域的關(guān)鍵設(shè)備,如SPM酸清洗、有機(jī)清洗、顯影、去膠、ITO蝕刻、BOE蝕刻、PSS高溫側(cè)腐、下蠟、勻膠、甩干、掩膜版清洗等。華林科納(江蘇)CSE深入研究LED生產(chǎn)工藝,現(xiàn)已形成可滿足LED產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目需求的全自動(dòng)濕法工藝標(biāo)準(zhǔn)成套設(shè)備。 LED 芯片的制造工藝流程為:外延片→清洗→鍍透明電極層→透明電極圖形光刻→腐蝕→去膠→平臺(tái)圖形光刻→干法刻蝕→去膠→退火→SiO2 沉積→窗口圖形光刻→SiO2腐蝕→去膠→N極圖形光刻→預(yù)清洗→鍍膜→剝離→退火→P 極圖形光刻→鍍膜→剝離→研磨→切割→芯片→成品測(cè)試。 CSE-外延片清洗機(jī)設(shè)備 設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-外延片清洗機(jī)設(shè)備可處理晶圓尺寸2”-12”可處理晶圓材料硅、砷化鎵、磷化銦、氮化鎵、碳化硅、鈮酸鋰、鉭酸鋰等應(yīng)用領(lǐng)域集成電路、聲表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先進(jìn)封裝等專有技術(shù)系統(tǒng)潔凈性技術(shù)均勻性技術(shù)晶圓片N2干燥技術(shù)模塊化系統(tǒng)集成技術(shù)自動(dòng)傳輸及精確控制技術(shù)溶液溫度、流量和壓力的精確控制技術(shù)主要技術(shù)特點(diǎn)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)緊湊、安全腔體獨(dú)立密封,具有多種功能可實(shí)現(xiàn)晶圓干進(jìn)干出采用工控機(jī)控制,功能強(qiáng)大,操作簡(jiǎn)便可根據(jù)用戶要求提供個(gè)性化解決方案設(shè)備制造商華林科納(江蘇)半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 regal-bio.cn 400-8768-096 ;18915583058更多的外延片清洗設(shè)備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(regal-bio.cn),現(xiàn)在熱線咨詢400-8798-096可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體行業(yè)相關(guān)清洗設(shè)備解決方案。
發(fā)布時(shí)間: 2017 - 12 - 06
旋轉(zhuǎn)式噴鍍臺(tái)結(jié)合微組裝工藝對(duì)鍍制工藝的小批量、多規(guī)格和特殊應(yīng)用要求等特點(diǎn),在6" (150mm)晶圓電鍍系統(tǒng)中采用了傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍單元分由兩個(gè)部分組成,一為陰極夾具、旋轉(zhuǎn)單元、導(dǎo)線電刷、N2 保護(hù)單元組成的陰極回轉(zhuǎn)體,二為三角形槽體、陽(yáng)極和電力線擋板組成的陽(yáng)極腔。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍結(jié)構(gòu)示意圖如下:從鍍制結(jié)構(gòu)方式、鍍制工藝應(yīng)用分析可以看出,采用傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍有以下幾種優(yōu)勢(shì)。一是這種結(jié)構(gòu)方式易實(shí)現(xiàn)槽體密封和附加N2 保護(hù)功能。二是在這種鍍制工藝中,陰極的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)使槽內(nèi)電場(chǎng)不均問(wèn)題得以解決,從而提高了鍍制的均勻性。三是呈45°傾斜加陰極旋轉(zhuǎn)的方式,可以較容易的祛除晶圓表面的氣泡附著及“產(chǎn)生”氣泡的消除。四是采用了多微孔進(jìn)行鍍液噴射,實(shí)現(xiàn)攪拌功能,消除局部PH值、溫度、離子濃度等不均勻帶來(lái)的影響。五是采用三角形鍍槽設(shè)計(jì)最大限度的減少了鍍液的消耗。六是該鍍制結(jié)構(gòu)方式可以滿足多品種、小批量、低成本的生產(chǎn)需求。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)、工藝優(yōu)勢(shì)斜式三角鍍槽結(jié)構(gòu)本系統(tǒng)采用傾斜式三角形鍍槽結(jié)構(gòu),鍍槽入口溢流口均與三角形斜邊平行,可得到穩(wěn)定且不易積累氣泡的流場(chǎng)環(huán)境。通過(guò)進(jìn)行相關(guān)模擬、仿真和驗(yàn)證,鍍液入口采用扇形噴咀式結(jié)構(gòu),可保證鍍液在平行于陰極表面方向上形成均勻而穩(wěn)定的流場(chǎng)。從而通過(guò)改變流場(chǎng)的方法改善了鍍層的均勻性。該結(jié)構(gòu)的另一優(yōu)點(diǎn)可使電鍍液的用量減至最少程度。 華林科納(江蘇)CSE采用傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍方法進(jìn)行晶圓電鍍工藝處理,由于結(jié)構(gòu)上的特點(diǎn),該方法經(jīng)實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證具有:①結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單;②工藝參數(shù)控制容易;③有利氣泡的消除;④鍍制均勻性得到提高;⑤鍍制溶液用量少。該方法尤其適應(yīng)于小批量、多規(guī)格的電鍍工藝,同時(shí)可以取得較好的鍍制均勻性。圖6為我們所研制的150mm晶圓傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍系統(tǒng),目前已批量生產(chǎn)并在工藝線上得到較好的應(yīng)用,產(chǎn)品已通過(guò)技術(shù)定型鑒定和用戶驗(yàn)收。實(shí)現(xiàn)的主要工藝指標(biāo):最...
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 06 - 22
雙腔甩干機(jī)1. 應(yīng)用范圍:l 本機(jī)臺(tái)適用於半導(dǎo)體2”4”6”8”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 設(shè)備為垂直式雙槽體機(jī)臺(tái),可同Run 50片.l 可對(duì)旋乾步驟進(jìn)行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設(shè)備已超過(guò)20年以上的應(yīng)用馬達(dá)控制系統(tǒng)設(shè)計(jì), 高穩(wěn)定度Rotor 設(shè)計(jì), 震動(dòng)值均控制於300 um 以下.l 高潔淨(jìng)設(shè)計(jì),微塵控制於每次運(yùn)轉(zhuǎn)增加量, 0.3um , 30顆以下.   2. 操作流程3. 圖示 4. 規(guī)格l 機(jī)臺(tái)內(nèi)皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達(dá): DC無(wú)刷馬達(dá)750Wl 真空負(fù)壓軸封設(shè)計(jì),隔離槽外污染l 不銹鋼N2過(guò)濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測(cè)保護(hù)(加熱器空燒保護(hù))l 槽外貼Silicon材質(zhì)加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開關(guān)90°C OFF 70°C ON)l  Viton材質(zhì)充氣式氣囊及槽後密封環(huán),保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經(jīng)拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉(zhuǎn)子,並按客戶需求指定使用訂做l 轉(zhuǎn)子經(jīng)拋光及電解研磨,並做動(dòng)態(tài)平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂(lè)故障碼功能: 門鎖警告,氣體不足,傳動(dòng)異常警告 5. 電控系統(tǒng)l  控制器操作介面: 7”記憶人機(jī)+ PLC可程式自動(dòng)化控制器(人機(jī) Touch Screen,整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲(chǔ)存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/,皆可從操作螢?zāi)簧闲薷摹?#216; 儲(chǔ)存能力記憶模組...
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 03 - 07
枚葉式清洗機(jī)-華林科納CSE華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-單片枚葉式洗凈裝置的特長(zhǎng):?jiǎn)纹角逑囱b置的優(yōu)點(diǎn)(與浸漬.槽式比較)1.晶片表面的微粒數(shù)非常少(到25nm可對(duì)應(yīng))例:附著粒子數(shù)…10個(gè)/W以下(0.08UM以上粒子)(參考)槽式200個(gè)/W2.藥液純水的消費(fèi)量少藥液…(例)1%DHF的情況  20L/日純水...每處理一枚晶片0.5-1L/分3.小裝置size(根據(jù)每個(gè)客戶可以定制) 液體濺射(塵埃強(qiáng)制除去)  (推薦)清洗方法單片式裝置的Particle再附著問(wèn)題   更多的半導(dǎo)體單片枚葉式濕法腐蝕清洗設(shè)備相關(guān)信息可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(www.hlkncas.com),現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096;18913575037可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體清洗解決方案。
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 03 - 07
自動(dòng)供酸系統(tǒng)(CDS)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-CDS自動(dòng)供酸系統(tǒng) 適用對(duì)象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進(jìn)行配送,經(jīng)管道至設(shè)備;具有自動(dòng)化程度高,配比精確,操作簡(jiǎn)便等特點(diǎn);具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩?dòng)控制模式、自動(dòng)控制模式設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-CDS自動(dòng)供酸系統(tǒng)設(shè)備型號(hào)CSE-CDS-N1507設(shè)計(jì)基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡(jiǎn)稱:CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房?jī)?nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房;3. 設(shè)備材質(zhì)說(shuō)明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運(yùn)送到制程使用點(diǎn);5. 過(guò)濾器:配有10” PFA材質(zhì)過(guò)濾器外殼;6. 供液泵:每種化學(xué)液體配有兩臺(tái)或者一臺(tái) PTFE材質(zhì)的進(jìn)口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān);8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測(cè)器與警報(bào)功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能:每種化學(xué)液體配兩個(gè)桶(自動(dòng)切換)、配兩臺(tái)泵(一用一備)、帶過(guò)濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動(dòng)化與親和力。在...
發(fā)布時(shí)間: 2018 - 01 - 23
單片清洗機(jī)-華林科納CSESingle wafer cleaner system華林科納(江蘇)CSE-自動(dòng)單片式腐蝕清洗機(jī)應(yīng)用于清洗(包括光刻板清洗)刻蝕 去膠 金屬剝離等;可處理晶圓尺寸2'-12';可處理晶圓材料:硅 砷化鎵 磷化銦 氮化鎵 碳化硅 鈮酸鋰 鉭酸鋰等;主要應(yīng)用領(lǐng)域:集成電路   聲表面波器件  微波毫米波器件  MEMS  先進(jìn)封裝等  設(shè) 備 名 稱CSE-單片清洗機(jī)類  型單片式適 用 領(lǐng) 域半導(dǎo)體、太陽(yáng)能、液晶、MEMS等清 洗 方 式2英寸——12英寸設(shè)備穩(wěn)定性1、≥0.2um顆粒少于10顆2、金屬附著量:3E10 atoms/ cm²3、純水消耗量:1L/min/片4、蝕刻均一性良好(SiO?氧化膜被稀釋HF處理):≤2%5、干燥時(shí)間:≤20S6、藥液回收率:>95%單片式優(yōu)點(diǎn)1、單片處理時(shí)間短(相較于槽式清洗機(jī))2、節(jié)約成本(藥液循環(huán)利用,消耗量遠(yuǎn)低于槽式)3、良品率高4、有效避免邊緣再附著5、立體層疊式結(jié)構(gòu),占地面積小 更多的單片(枚葉)式清洗相關(guān)設(shè)備可以關(guān)注華林科納(江蘇)半導(dǎo)體官網(wǎng),關(guān)注http://regal-bio.cn ,400-8768-096,18913575037
發(fā)布時(shí)間: 2017 - 12 - 06
氫氟酸HF自動(dòng)供液系統(tǒng)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-氫氟酸供液系統(tǒng) 適用對(duì)象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進(jìn)行配送,經(jīng)管道至設(shè)備;具有自動(dòng)化程度高,配比精確,操作簡(jiǎn)便等特點(diǎn);具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩?dòng)控制模式、自動(dòng)控制模式 設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-氫氟酸(HF)供液系統(tǒng)設(shè)備型號(hào)CSE-CDS-N2601設(shè)計(jì)基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡(jiǎn)稱:CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房?jī)?nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房;3. 設(shè)備材質(zhì)說(shuō)明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運(yùn)送到制程使用點(diǎn);5. 過(guò)濾器:配有10” PFA材質(zhì)過(guò)濾器外殼;6. 供液泵:每種化學(xué)液體配有兩臺(tái)或者一臺(tái) PTFE材質(zhì)的進(jìn)口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān);8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測(cè)器與警報(bào)功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能:每種化學(xué)液體配兩個(gè)桶(自動(dòng)切換)、配兩臺(tái)泵(一用一備)、帶過(guò)濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動(dòng)化...
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無(wú)機(jī)和有機(jī)垢的形成及清洗

時(shí)間: 2021-02-26
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1前言

眾所周知,循環(huán)水已用于石油、化工、鋼鐵等各行各業(yè),在循環(huán)水的使用中,由于水質(zhì)的不同,會(huì)形成各種沉積物,這些沉積物以無(wú)機(jī)鹽為主,成為無(wú)機(jī)垢;而在有機(jī)物的使用或生產(chǎn)過(guò)程中,由于高溫等因素的影響,經(jīng)常會(huì)導(dǎo)致有機(jī)垢的形成;在有些地方,則會(huì)同時(shí)形成無(wú)機(jī)垢和有機(jī)垢。

垢的形成,會(huì)給生產(chǎn)和安全帶來(lái)一系列影響,主要表現(xiàn)四:影響生產(chǎn)的正常運(yùn)行。嚴(yán)重的污垢沉積,使生產(chǎn)設(shè)備的性能下降,甚至不能正常運(yùn)行;

增加成本。一般地,污垢的形成使熱交換率大幅度降低,能耗明顯增加;引發(fā)各種事故,原材料泄露,引起廠房及工作人員的損傷。影響材料性能和設(shè)備壽命,金屬的污垢,如吸濕性的塵土和無(wú)機(jī)鹽,容易吸附空氣中的腐蝕性氣體,如二氧化硫、二氧化碳,硫化氫等,進(jìn)而腐獨(dú)金屬的表面,使金屬失去光澤,產(chǎn)生麻點(diǎn),強(qiáng)度下降;污垢下會(huì)發(fā)生腐蝕,縮短設(shè)備的壽命。

本文對(duì)各種常見無(wú)機(jī)垢和有機(jī)垢的形成機(jī)理、清洗方法進(jìn)行全面評(píng)述

2無(wú)機(jī)鹽垢的形成及清洗

2.1碳酸鹽垢

2.1.1碳酸鈣垢的成因

以碳酸鈣和碳酸鎂為主要成分,碳酸鎂容易水解生成堿式碳酸鎂,進(jìn)而形成溶解度更低的氯氧化誤在天然水中,鈣的含量夫于鎂,所以碳酸鹽垢的主要成分為碳酸號(hào),有少量的碳酸錢和氧氧化鎖碳酸鹽水垢一般為自色片狀物當(dāng)含有金屬氧化物時(shí),會(huì)帶有顏色,如有鐵銹時(shí),早粉紅色或紅褐色它難溶于與冷水,也難溶于熱水,但易溶于無(wú)機(jī)強(qiáng)酸,如鹽酸、硝酸和高氯酸等。在工業(yè)用水中存在著各種離子,有Ca2+、HCO3-、Mg2+存在時(shí),在受熱條件下發(fā)生下列反應(yīng):

無(wú)機(jī)和有機(jī)垢的形成及清洗

在堿性條件下:

Ca(HCO3)2+2OH-=CaCO3↓+CO32-+2H20

生成碳酸鈣沉積在管壁上形成了碳酸鈣垢。

2.1.2 清洗機(jī)理及方法

碳酸鈣為強(qiáng)堿弱酸鹽,易與強(qiáng)酸發(fā)生復(fù)分解反應(yīng)而溶解,所以工業(yè)上一般采用廉價(jià)的鹽酸添加緩蝕劑如苯胺、烏洛妥品等清洗碳酸鹽垢。發(fā)生的主要反應(yīng)為:

無(wú)機(jī)和有機(jī)垢的形成及清洗

近年來(lái),人們往往將多種技術(shù)聯(lián)合用于工業(yè)循環(huán)水的清洗,一般采用兩個(gè)步驟即首先投用殺菌劑剝離粘泥,然后清洗除垢!

2.2硫酸鹽垢

2.2.1硫酸鹽垢的成因

硫酸鹽垢的主要成分是硫酸鈣,有時(shí)含有少量的硫酸鎂和氫氧化鎮(zhèn),硫酸鈣在水中的溶解度比較小,但較碳酸鈣大的多在40℃以上,其溶解度隨溫度的升高而略有降低,屬于反常溶解度,這一點(diǎn)要特別注意。硫酸鈣溶解度與溫度的關(guān)系見表1

無(wú)機(jī)和有機(jī)垢的形成及清洗

水中含有較高的Ca2+、SO42-時(shí),發(fā)生下列反應(yīng):

Ca2++SO42-=CaSO4

生成的硫酸鈣沉積在設(shè)備及管道上,就形成了堅(jiān)硬致密的硫酸鈣垢。

2.2.2清洗機(jī)理及方法

(1)轉(zhuǎn)化清洗[3]

根據(jù)不同沉淀溶度積的不同,在硫酸鈣中加入碳酸鈉、磷酸鈉,使之轉(zhuǎn)化為更易與酸反應(yīng)的碳酸鈣和松軟的磷酸鈣(稱為磷酸鈉的剝離作用)。因此,在含有難溶物的溶液中加人適量的沉淀轉(zhuǎn)化劑,使溶液中的某種離子結(jié)合成為更難溶的物質(zhì)。

無(wú)機(jī)和有機(jī)垢的形成及清洗

(2)絡(luò)合清洗

在水質(zhì)中加入絡(luò)合劑,使沉積的硫酸鹽垢中的陽(yáng)離子被絡(luò)合,從而使沉積物慢慢轉(zhuǎn)移到溶液中,即達(dá)到了清洗的目的。常用的絡(luò)合劑為易溶的乙二按四乙酸二鈉鹽即EDTA,由于鈣、鎂離子與EDTA很易形成非常穩(wěn)定的易溶的絡(luò)離子:

無(wú)機(jī)和有機(jī)垢的形成及清洗

其中YEDTA的縮寫孫純賓等叫將HEDPEDTA兩步絡(luò)合法,用于清洗電!中壓鍋爐的硫酸鹽垢,清洗結(jié)果符合電力部標(biāo)準(zhǔn)的要求。

(3)水溶性高分子絡(luò)合

水溶性高分子化合物的特點(diǎn)是其骨架上帶有

極性基團(tuán)(如羥基、氨基、竣基、黃酸基等),這些極性基團(tuán)能離解出離子,與溶液中的其它離子進(jìn)行交換。如磺化交聯(lián)聚苯乙烯樹脂,其骨架上帶有磺酸基,在水溶液中能離解出氫離子H+而與水中的Na+Mg2+、Ca2+等陽(yáng)離子進(jìn)行交換。通過(guò)交換降低離,子濃度,減少沉淀的生成。

2.3硅垢和硅酸鹽垢

2.3.1硅垢和硅酸鹽垢的成因

硅酸鈣是灰白色的堅(jiān)硬的固體,其傳熱系數(shù)很小。當(dāng)水中二氧化硅的含量比較高且水的硬度較大時(shí),比較容易集結(jié)形成硅酸鈣和硅酸鎂垢。當(dāng)水的pH值較小時(shí),低硬度水中或水中僅有SiO32-存在時(shí),會(huì)產(chǎn)生硅垢,即膠狀難溶的化合物SiO2·nH2O。典型的化學(xué)反應(yīng)方程式為:

無(wú)機(jī)和有機(jī)垢的形成及清洗

2.3.2清洗機(jī)理及方法

(1)酸洗

用一定濃度的HCI0.5%~10%的氟化物加緩蝕劑進(jìn)行清洗,反應(yīng)如下:

無(wú)機(jī)和有機(jī)垢的形成及清洗

(2)堿洗

如果SiO2的含量在70%~80%以上,可以直接用15%NaOH溶液處理,溫度為70℃以上,視結(jié)垢程度來(lái)控制清洗時(shí)間。其反應(yīng)為:

無(wú)機(jī)和有機(jī)垢的形成及清洗

馬文靜等百對(duì)電廠含硅酸鹽和銅氧化物的復(fù)合垢進(jìn)行化學(xué)清洗,找到了一條堿煮一水沖洗一氧化絡(luò)合除銅一堿沖洗——酸洗——漂洗氨沖洗鈍化的清洗和預(yù)膜工藝,取得滿意的效果。孫克敏回則采用混酸清洗化肥廠鍋爐的硅垢,其配方由主酸、補(bǔ)酸、緩蝕劑、溶垢促進(jìn)劑、潤(rùn)濕劑和滲透劑構(gòu)成,成本低廉。

2.4硫垢和硫化物垢

硫垢屬于一類特殊的垢,一般只產(chǎn)生在石油或化工裝置的含硫尾氣的治理部分,主要由硫化氫氣體經(jīng)過(guò)氧化而形成:

無(wú)機(jī)和有機(jī)垢的形成及清洗

2.4.1硫垢的清洗

因?yàn)閴A金屬或堿土金屬硫化物的溶液能與單質(zhì)硫發(fā)生反應(yīng)而生成易溶的多硫化物,因此一般采用20g/LNas飽和溶液,加特殊的表面活性劑來(lái)溶解硫垢。反應(yīng)如下:

無(wú)機(jī)和有機(jī)垢的形成及清洗

?

多硫化物的溶液一般顯黃色,隨著x增加,即硫的含量增加,由黃色變至紅色??筛鶕?jù)結(jié)垢的程度重復(fù)清洗過(guò)程。

2.4.2煉油廠硫化物的清洗

在堿性條件下,使硫化物發(fā)生氧化作用(用10%NaOH5%KMnO4),使其轉(zhuǎn)化為鐵的氫氧化物、硫及MnO2沉淀,再采用10%HCI進(jìn)行清洗。

為防止清洗過(guò)程中產(chǎn)生CI2,需在HCI中加入少量的醋酸[3]。

2.5磷酸鹽垢

2.5.1磷酸垢的形成

水中所含的磷酸鹽濃度很小,然而在工業(yè)循環(huán)水中,由于使用的水處理藥劑中,普遍含有無(wú)機(jī)磷酸鹽,如磷酸鈉或六偏磷酸鈉、有機(jī)磷酸(如HEDPPBTC等)作為緩蝕劑,這些磷酸鹽會(huì)與水中的鈣、鎂離子形成磷酸鹽垢。磷酸鈣垢為灰白色,當(dāng)設(shè)備受腐蝕時(shí),磷酸鈣垢中混雜鐵的氧化物,使水垢由灰白色變成粉紅色、紅褐色或黑褐色。其反應(yīng)為:2Ca2++3PO43-=Ca2(PO4)3

2.5.2磷酸鈣垢清洗

磷酸鈣垢的清洗通常采用氨基磺酸法。該法所用清洗劑由氨基磺酸、緩蝕劑、表面活性劑和水組成。清洗液為酸性,能與金屬氧化物、氫氧化物、碳酸鹽反應(yīng),生成可溶性鹽類,從而可除去水垢和鐵銹?;瘜W(xué)反應(yīng)式為181:

Ca3(PO4)2+6NH2SO3H=3Ca(NH2SO3)2+2H3PO4

2.6金屬氧化物垢

2.6.1鋼鐵的銹垢

(1)銹垢的形成

通常,暴露在自然環(huán)境中的鋼鐵表面都有由空氣中的水及其電解質(zhì)形成的電解質(zhì)溶液,這些電解質(zhì)溶液與鋼材中的鐵元素和碳元素形成了無(wú)數(shù)微型原電池。電化學(xué)反應(yīng)的速度很快,是鋼材腐蝕的主要原因;化學(xué)腐蝕是次要原因。腐蝕的結(jié)果是形成以+2、+3價(jià)鐵的氧化物或氫氧化物為主的復(fù)雜的氧化物,有時(shí)還有少量鐵鹽。

(2)銹垢的清洗

鋼鐵銹垢一般都溶于酸,反應(yīng)如下:

Fe2O3+6H+=2Fe3++3H2O

2FeO+4H+=Fe3++Fe2++2H2O

Fe3O4+8H+=3Fe2++4H2O

鐵銹垢一般用酸洗??梢杂脽o(wú)機(jī)酸,也可以用有機(jī)酸,根據(jù)實(shí)際情況選擇。在清洗的時(shí)候要注意加入適當(dāng)?shù)木徫g劑和控制清洗時(shí)間。

在利用酸洗清洗鋼鐵垢時(shí),要充分考慮鋼材的組成,并考慮不同酸對(duì)鋼材的溶解能力,以找到合適的清洗劑配方,文獻(xiàn)[9]介紹了不同無(wú)機(jī)和有機(jī)酸對(duì)鋼材鐵的溶解能力,對(duì)于尋找適宜的清洗劑配方大有益處。尚世海[101介紹了一種用王水都難以清洗的鐵垢的三步清洗方法。首先進(jìn)行熱堿(由NaOH、KMnO4Na2SiO3,表面活性劑、滲透劑和緩蝕劑組成循環(huán),然后進(jìn)行酸液(組成為HNO3、尿素和硫脈等)循環(huán),已經(jīng)清洗掉50%的鐵垢,其他鐵垢也已松軟,最后輔以人工清洗,取得了良好效果。

2.6.2鋁及鋁合金的銹垢

鋁垢的主要成分是組成非常復(fù)雜的水合氧化

鋁和堿式碳酸鋁,主要是由新鮮的鋁表面與空氣氧化形成的。錯(cuò)垢的清洗方法是由錯(cuò)及其氧化物的兩性決定的,一般有酸洗和堿洗兩種方法

(1)酸洗

在清洗的時(shí)候應(yīng)盡量采用可以使鋁處于鈍化狀態(tài)的一定濃度的氧化性酸,如硝酸,或在清洗液中加人適當(dāng)?shù)木徫g劑,以減輕酸對(duì)機(jī)體的腐蝕。

AL2O3+6H+=2A13++3H2O

(2)堿洗法

采用10%NaOH即可溶解鋁表面的氧化物,但時(shí)間不宜過(guò)長(zhǎng),一般控制在1~2min,以免對(duì)基體造成損傷。在堿液中添加20~30g/LNaClNaF,可改善清洗表面的外觀,注意在清洗中應(yīng)加人適當(dāng)?shù)木徫g劑。

2.6.3銅及銅合金的銹垢

在潮濕的空氣中,銅受氧、水、二氧化碳和氯化物等作用,生成堿式碳酸銅或氯化銅等;當(dāng)受硫化物和氧作用時(shí),則生成棕色或黑色的硫化物垢銅垢的清洗多采用無(wú)機(jī)酸洗法,通常采用硝酸、硫酸和鹽酸的混合酸。應(yīng)根據(jù)實(shí)際情況,采用不同的混酸組合和配比

3有機(jī)物類垢的形成及清洗

3.1油垢的形成與清洗

3.1.1油垢類型及成因

型、成因及其清洗方法,見表2。從表2中可以看出,溫度是影響油垢類型的主要因素。隨著溫度升高,油垢類型從清油垢逐漸轉(zhuǎn)化成焦炭垢。焦炭垢一旦形成并徹底炭化,其清洗是非常困難的。因此,對(duì)于溫度較高的石化設(shè)備,要定期清洗,防止垢的炭化。

無(wú)機(jī)和有機(jī)垢的形成及清洗

3.1.2油垢的清洗

堿洗。根據(jù)相似相溶原理,油是憎水化合物,因此無(wú)法采用水洗的方法。而堿溶液對(duì)油污具有較好的親和性,因此,常用堿性水溶液,有氫氧化鈉、碳酸鈉、磷酸鈉與硅酸鈉等清洗油垢,一般總是幾種堿組成的堿液清洗劑。但是一般堿性清洗液對(duì)動(dòng)物油起皂化反應(yīng)清洗能力好,而對(duì)礦物油清除能力除硅酸鈉外,大多較差,因而常作傳統(tǒng)的日用除油劑,工業(yè)上僅用于一般脫脂。文獻(xiàn)[12]介紹了一種發(fā)動(dòng)機(jī)積炭的清洗方法,采用金屬清洗劑、焦磷酸鈉、苛性鈉、碳酸鈉、硅氟酸鈉、銘酸等藥劑構(gòu)成對(duì)積炭滲透能力極強(qiáng)的清洗劑,輔之適當(dāng)?shù)臏囟?,?duì)發(fā)動(dòng)機(jī)積炭具有理想的清洗效果。

酸洗。梁小強(qiáng)[13]紹了一種酸性除油垢方

法。他根據(jù)T-roumg方程選擇合適的清洗劑,即選用與金屬界面張力較低的表面活性劑,而且愈低愈好,通過(guò)表面活性劑的潤(rùn)濕力和滲透力把金屬表面的油污潤(rùn)濕,使油污松軟,達(dá)到清洗之目的。據(jù)此,設(shè)計(jì)了一種由磷酸和烷基酰胺構(gòu)成的油垢清洗劑,對(duì)油罐的污垢清洗效果良好。高晶榮等(14)采用復(fù)合酸-有機(jī)溶劑復(fù)合清洗劑,也取得了理想效果

有機(jī)溶劑法。常用的有石油類溶劑、鹵代煉溶劑、醇類溶劑等,靠對(duì)油類較強(qiáng)的溶解反應(yīng)清除油垢、焦油垢與焦炭垢。焦炭垢一旦形成并沉積于管壁,由于附著力極強(qiáng),其清洗是非常困難的,對(duì)于沉積較厚的焦炭垢,可采用溶劑浸潤(rùn)加機(jī)械的辦法。此外,近年來(lái)開發(fā)的超聲波等方法具有一定效果,但成本昂貴

表面活性劑法表面活性劑由于具有兩親結(jié)構(gòu)(親水基和親油基),因而其低濃度水溶液具有減少表面張力、潤(rùn)濕滲透、乳化分散和增溶等獨(dú)特作用,故對(duì)液態(tài)油垢具有良好的去除能力,但對(duì)固態(tài)油垢去除能力差。

氧化法。選用濃硫酸、硝酸與銘酸等強(qiáng)氧化性酸能較好地清除焦油垢、膠垢與積炭垢,以及含硫化鐵的油垢。但這些強(qiáng)氧化型清洗劑,雖在常溫下操作,但稍有不慎就會(huì)造成事故。銘酸還存在排污公害的問(wèn)題。

復(fù)合法。對(duì)于工業(yè)油污油垢,很少局限于一種類型,因此,單獨(dú)采用一種清洗方法往往難以徹底清除油污油垢,這樣就需要根據(jù)實(shí)際情況,聯(lián)合采用多種方法進(jìn)行清洗。將絡(luò)合劑、堿性溶液、表面活性劑等不同物質(zhì)混合起來(lái),發(fā)揮各自的優(yōu)勢(shì),具有更好的除垢能力。

干冰法。唐純[15]紹了利用干冰清洗導(dǎo)熱

油爐的方法。這是一種物理除垢法,其主要原理是利用干冰的低溫(-78℃)使灰垢被冷凍至脆化及爆裂,而達(dá)到清除積垢的目的,實(shí)踐證明利用干冰清洗不留死角,清除效率高

3.2糖垢的形成和清洗山

糖垢也稱為碳水化合物垢,是由無(wú)機(jī)物和有機(jī)物構(gòu)成的,通常由蔗糖、蔗蠟、碳酸鈣、亞硫酸鈣、硅酸鈣、草酸鈣、蛋白質(zhì)等組成的,因制糖工藝的不同而有變化在糖什蒸發(fā)和濃縮的過(guò)程中,在多效蒸發(fā)罐的一效蒸發(fā)罐壁上首先析出溶解度較小的碳酸鎂、碳酸鈣、磷酸鈣以及焦化物,再析出溶解度較大的硫酸鈣、亞硫酸鈣、檸撐酸鈣和草酸鈣等糖汁中可溶的有機(jī)和九機(jī)鈣鹽,通過(guò)與糖汁中的碳酸離子反應(yīng),轉(zhuǎn)化為不溶性的碳酸鈣鹽沉淀。其中的可溶性無(wú)機(jī)鈣鹽,如碳酸鈣、亞硫酸鈣等受熱分解成為難溶的碳酸鈣垢。糖汁中的金屬氧化物和氫氧化物膠狀物,在糖汁的濃縮過(guò)程中會(huì)析出。酸性的糖汁對(duì)設(shè)備也會(huì)腐蝕,生成金屬氧化物垢和鹽垢。此外在制糖工藝中加入的一些助劑也會(huì)成為糖垢的組成成分。糖垢的清洗方法應(yīng)根據(jù)糖垢的組成采取上述無(wú)機(jī)垢或油垢的清洗方法。


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