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濕法制程整體解決方案提供商

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發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
在LED外延及芯片制造領域,濕法設備占據(jù)約40%以上的工藝,隨著工藝技術的不斷發(fā)展,濕法設備已經(jīng)成為LED外延及芯片制造領域的關鍵設備,如SPM酸清洗、有機清洗、顯影、去膠、ITO蝕刻、BOE蝕刻、PSS高溫側腐、下蠟、勻膠、甩干、掩膜版清洗等。華林科納(江蘇)CSE深入研究LED生產(chǎn)工藝,現(xiàn)已形成可滿足LED產(chǎn)業(yè)化項目需求的全自動濕法工藝標準成套設備。 LED 芯片的制造工藝流程為:外延片→清洗→鍍透明電極層→透明電極圖形光刻→腐蝕→去膠→平臺圖形光刻→干法刻蝕→去膠→退火→SiO2 沉積→窗口圖形光刻→SiO2腐蝕→去膠→N極圖形光刻→預清洗→鍍膜→剝離→退火→P 極圖形光刻→鍍膜→剝離→研磨→切割→芯片→成品測試。 CSE-外延片清洗機設備 設備名稱華林科納(江蘇)CSE-外延片清洗機設備可處理晶圓尺寸2”-12”可處理晶圓材料硅、砷化鎵、磷化銦、氮化鎵、碳化硅、鈮酸鋰、鉭酸鋰等應用領域集成電路、聲表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先進封裝等專有技術系統(tǒng)潔凈性技術均勻性技術晶圓片N2干燥技術模塊化系統(tǒng)集成技術自動傳輸及精確控制技術溶液溫度、流量和壓力的精確控制技術主要技術特點系統(tǒng)結構緊湊、安全腔體獨立密封,具有多種功能可實現(xiàn)晶圓干進干出采用工控機控制,功能強大,操作簡便可根據(jù)用戶要求提供個性化解決方案設備制造商華林科納(江蘇)半導體設備有限公司 regal-bio.cn 400-8768-096 ;18915583058更多的外延片清洗設備相關資訊可以關注華林科納CSE官網(wǎng)(regal-bio.cn),現(xiàn)在熱線咨詢400-8798-096可立即獲取免費的半導體行業(yè)相關清洗設備解決方案。
發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
旋轉式噴鍍臺結合微組裝工藝對鍍制工藝的小批量、多規(guī)格和特殊應用要求等特點,在6" (150mm)晶圓電鍍系統(tǒng)中采用了傾斜式旋轉噴鍍技術傾斜式旋轉噴鍍單元分由兩個部分組成,一為陰極夾具、旋轉單元、導線電刷、N2 保護單元組成的陰極回轉體,二為三角形槽體、陽極和電力線擋板組成的陽極腔。傾斜旋轉噴鍍結構示意圖如下:從鍍制結構方式、鍍制工藝應用分析可以看出,采用傾斜式旋轉噴鍍有以下幾種優(yōu)勢。一是這種結構方式易實現(xiàn)槽體密封和附加N2 保護功能。二是在這種鍍制工藝中,陰極的旋轉運動使槽內電場不均問題得以解決,從而提高了鍍制的均勻性。三是呈45°傾斜加陰極旋轉的方式,可以較容易的祛除晶圓表面的氣泡附著及“產(chǎn)生”氣泡的消除。四是采用了多微孔進行鍍液噴射,實現(xiàn)攪拌功能,消除局部PH值、溫度、離子濃度等不均勻帶來的影響。五是采用三角形鍍槽設計最大限度的減少了鍍液的消耗。六是該鍍制結構方式可以滿足多品種、小批量、低成本的生產(chǎn)需求。傾斜旋轉噴鍍技術、工藝優(yōu)勢斜式三角鍍槽結構本系統(tǒng)采用傾斜式三角形鍍槽結構,鍍槽入口溢流口均與三角形斜邊平行,可得到穩(wěn)定且不易積累氣泡的流場環(huán)境。通過進行相關模擬、仿真和驗證,鍍液入口采用扇形噴咀式結構,可保證鍍液在平行于陰極表面方向上形成均勻而穩(wěn)定的流場。從而通過改變流場的方法改善了鍍層的均勻性。該結構的另一優(yōu)點可使電鍍液的用量減至最少程度。 華林科納(江蘇)CSE采用傾斜旋轉噴鍍方法進行晶圓電鍍工藝處理,由于結構上的特點,該方法經(jīng)實驗驗證具有:①結構簡單;②工藝參數(shù)控制容易;③有利氣泡的消除;④鍍制均勻性得到提高;⑤鍍制溶液用量少。該方法尤其適應于小批量、多規(guī)格的電鍍工藝,同時可以取得較好的鍍制均勻性。圖6為我們所研制的150mm晶圓傾斜旋轉噴鍍系統(tǒng),目前已批量生產(chǎn)并在工藝線上得到較好的應用,產(chǎn)品已通過技術定型鑒定和用戶驗收。實現(xiàn)的主要工藝指標:最...
發(fā)布時間: 2016 - 06 - 22
雙腔甩干機1. 應用范圍:l 本機臺適用於半導體2”4”6”8”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 設備為垂直式雙槽體機臺,可同Run 50片.l 可對旋乾步驟進行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設備已超過20年以上的應用馬達控制系統(tǒng)設計, 高穩(wěn)定度Rotor 設計, 震動值均控制於300 um 以下.l 高潔淨設計,微塵控制於每次運轉增加量, 0.3um , 30顆以下.   2. 操作流程3. 圖示 4. 規(guī)格l 機臺內皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達: DC無刷馬達750Wl 真空負壓軸封設計,隔離槽外污染l 不銹鋼N2過濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測保護(加熱器空燒保護)l 槽外貼Silicon材質加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開關90°C OFF 70°C ON)l  Viton材質充氣式氣囊及槽後密封環(huán),保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經(jīng)拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉子,並按客戶需求指定使用訂做l 轉子經(jīng)拋光及電解研磨,並做動態(tài)平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂故障碼功能: 門鎖警告,氣體不足,傳動異常警告 5. 電控系統(tǒng)l  控制器操作介面: 7”記憶人機+ PLC可程式自動化控制器(人機 Touch Screen,整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/,皆可從操作螢幕上修改。Ø 儲存能力記憶模組...
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 07
枚葉式清洗機-華林科納CSE華林科納(江蘇)半導體CSE-單片枚葉式洗凈裝置的特長:單片式清洗裝置的優(yōu)點(與浸漬.槽式比較)1.晶片表面的微粒數(shù)非常少(到25nm可對應)例:附著粒子數(shù)…10個/W以下(0.08UM以上粒子)(參考)槽式200個/W2.藥液純水的消費量少藥液…(例)1%DHF的情況  20L/日純水...每處理一枚晶片0.5-1L/分3.小裝置size(根據(jù)每個客戶可以定制) 液體濺射(塵埃強制除去)  (推薦)清洗方法單片式裝置的Particle再附著問題   更多的半導體單片枚葉式濕法腐蝕清洗設備相關信息可以關注華林科納CSE官網(wǎng)(www.hlkncas.com),現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096;18913575037可立即獲取免費的半導體清洗解決方案。
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 07
自動供酸系統(tǒng)(CDS)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導體CSE-CDS自動供酸系統(tǒng) 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送,經(jīng)管道至設備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點;具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩涌刂颇J健⒆詣涌刂颇J皆O備名稱華林科納(江蘇)CSE-CDS自動供酸系統(tǒng)設備型號CSE-CDS-N1507設計基準1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設置于化學房內:酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學房;3. 設備材質說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構采以WPP 10T 板材,內部管路及組件采PFA 451 HP 材質;4. 系統(tǒng)為采以化學原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點;5. 過濾器:配有10” PFA材質過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質的進口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關;8. 所有化學品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統(tǒng)設備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設備主要功能:每種化學液體配兩個桶(自動切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動化與親和力。在...
發(fā)布時間: 2018 - 01 - 23
單片清洗機-華林科納CSESingle wafer cleaner system華林科納(江蘇)CSE-自動單片式腐蝕清洗機應用于清洗(包括光刻板清洗)刻蝕 去膠 金屬剝離等;可處理晶圓尺寸2'-12';可處理晶圓材料:硅 砷化鎵 磷化銦 氮化鎵 碳化硅 鈮酸鋰 鉭酸鋰等;主要應用領域:集成電路   聲表面波器件  微波毫米波器件  MEMS  先進封裝等  設 備 名 稱CSE-單片清洗機類  型單片式適 用 領 域半導體、太陽能、液晶、MEMS等清 洗 方 式2英寸——12英寸設備穩(wěn)定性1、≥0.2um顆粒少于10顆2、金屬附著量:3E10 atoms/ cm²3、純水消耗量:1L/min/片4、蝕刻均一性良好(SiO?氧化膜被稀釋HF處理):≤2%5、干燥時間:≤20S6、藥液回收率:>95%單片式優(yōu)點1、單片處理時間短(相較于槽式清洗機)2、節(jié)約成本(藥液循環(huán)利用,消耗量遠低于槽式)3、良品率高4、有效避免邊緣再附著5、立體層疊式結構,占地面積小 更多的單片(枚葉)式清洗相關設備可以關注華林科納(江蘇)半導體官網(wǎng),關注http://regal-bio.cn ,400-8768-096,18913575037
發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
氫氟酸HF自動供液系統(tǒng)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導體CSE-氫氟酸供液系統(tǒng) 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送,經(jīng)管道至設備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點;具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩涌刂颇J?、自動控制模式 設備名稱華林科納(江蘇)CSE-氫氟酸(HF)供液系統(tǒng)設備型號CSE-CDS-N2601設計基準1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設置于化學房內:酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學房;3. 設備材質說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構采以WPP 10T 板材,內部管路及組件采PFA 451 HP 材質;4. 系統(tǒng)為采以化學原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點;5. 過濾器:配有10” PFA材質過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質的進口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關;8. 所有化學品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統(tǒng)設備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設備主要功能:每種化學液體配兩個桶(自動切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動化...
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微機電系統(tǒng)(MEMS)

時間: 2021-02-26
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微機電系統(tǒng)(MEMS)是一種技術,其最一般的形式可以定義為使用微細加工技術制成的小型機械和機電元件(即設備和結構)。MEMS器件的關鍵物理尺寸可能從尺寸范圍的下端的一微米以下到幾毫米不等。同樣,MEMS裝置的類型可以從沒有運動元件的相對簡單的結構變化到在集成微電子的控制下具有多個運動元件的極其復雜的機電系統(tǒng)。MEMS的一個主要標準是至少有一些元件具有某種機械功能,而無論這些元件是否可以移動。用于定義MEMS的術語在世界各地有所不同。在美國,它們主要被稱為MEMS,而在世界其他地區(qū),它們被稱為微系統(tǒng)技術微機械設備。

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盡管MEMS的功能元件是小型化的結構,傳感器,致動器和微電子器件,但最值得注意的(也許是最有趣的)元件是微傳感器和微致動器。微型傳感器和微型執(zhí)行器適當?shù)貧w類為換能器,其定義為將能量從一種形式轉換為另一種形式的設備。在微傳感器的情況下,該設備通常會將測得的機械信號轉換為電信號。

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微機電系統(tǒng)(MEMS)?

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在過去的幾十年中,MEMS研究人員和開發(fā)人員已經(jīng)針對幾乎所有可能的傳感方式(包括溫度,壓力,慣性力,化學物質,磁場,輻射等)展示了數(shù)量眾多的微型傳感器。值得注意的是,許多此類微型機械傳感器已經(jīng)展示了的表現(xiàn)超過了他們的宏觀水平。即,例如壓力傳感器的微加工版本通常勝過使用最精確的宏觀水平加工技術制成的壓力傳感器。不僅MEMS裝置的性能優(yōu)異,而且其生產(chǎn)方法還利用了集成電路行業(yè)中使用的批量生產(chǎn)技術,這可以轉化為較低的每裝置生產(chǎn)成本,以及許多其他好處。因此,不僅可以實現(xiàn)恒星器件的性能,而且可以以相對較低的成本水平實現(xiàn)。毫不奇怪,基于硅的分立式微傳感器在商業(yè)上得到了迅速的開發(fā),這些設備的市場繼續(xù)以快速的速度增長。

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最近,MEMS研究與開發(fā)團體已經(jīng)展示了許多微致動器,包括:用于控制氣體和液體流動的微閥;以及用于控制氣體和液體流動的微閥。光學開關和反射鏡以重定向或調制光束;用于顯示器的獨立控制的微鏡陣列,用于許多不同應用的微諧振器,用于產(chǎn)生正流體壓力的微泵,用于調節(jié)翼型上氣流的微瓣以及許多其他產(chǎn)品。令人驚訝的是,即使這些微致動器非常小,它們也經(jīng)常會在宏觀水平上產(chǎn)生影響。也就是說,這些微型執(zhí)行器可以執(zhí)行的機械性能遠遠超過其尺寸所暗示的。例如,

微機電系統(tǒng)(MEMS)?

當這些小型化的傳感器,致動器和結構都可以與集成電路(即微電子)一起合并到一個共同的硅基板上時,MEMS的真正潛力就開始得到滿足。在使用集成電路(IC)工藝流程(例如CMOS,雙極或BICMOS工藝)制造電子設備的同時,使用兼容的微加工工藝制造微機械組件,該工藝選擇性地蝕刻掉一部分硅晶片或添加新的結構層形成機械和機電裝置。如果MEMS不僅可以與微電子技術融合,還可以與光子學,納米技術等其他技術融合,那就更加有趣了。這有時被稱為異構集成。顯然,

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雖然更復雜的集成水平是MEMS技術的未來趨勢,但目前的技術水平相對較低,通常涉及單個離散微傳感器,單個離散微致動器,單個與電子器件集成的微型傳感器,實質上涉及多種與電子設備集成的相同微傳感器,與電子設備集成的單個微致動器,或與電子設備集成的多個基本相同的微致動器。然而,隨著MEMS制造方法的發(fā)展,其前景是巨大的設計自由度,其中任何類型的微傳感器和任何類型的微致動器都可以與微電子以及光子學,納米技術等合并到單個基板上。

微機電系統(tǒng)(MEMS)?

MEMS的愿景是將微傳感器,微致動器和微電子技術及其他技術集成到單個微芯片中,這有望成為未來最重要的技術突破之一。通過利用微傳感器和微執(zhí)行器的感知和控制能力來增強微電子的計算能力,這將有助于開發(fā)智能產(chǎn)品??梢詫⑽㈦娮蛹呻娐芬暈橄到y(tǒng)的大腦,而MEMS通過眼睛手臂增強了這種決策能力,從而允許微系統(tǒng)感知和控制環(huán)境。傳感器通過測量機械,熱,生物,化學,光學和磁現(xiàn)象從環(huán)境中收集信息。然后,電子設備處理從傳感器獲得的信息,并通過某種決策能力引導執(zhí)行器通過移動,定位,調節(jié),泵送和過濾進行響應,從而為某些所需的結果或目的控制環(huán)境。此外,由于MEMS器件是使用類似于IC的批量制造技術制造的,因此可以以相對較低的成本將前所未有的功能,可靠性和復雜性水平放置在小型硅芯片上。MEMS技術在其預期的應用領域以及器件的設計和制造方式上都極為多樣化和豐富。MEMS通過實現(xiàn)完整的片上系統(tǒng)已經(jīng)在革新許多產(chǎn)品類別。

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納米技術是在原子或分子水平上操縱物質以使其在納米尺度上有用的能力。基本上,有兩種實現(xiàn)方法:自頂向下和自底向上。在自上而下的方法中,器件和結構是使用與MEMS中使用的許多相同的技術制造的,除了通常通過采用更先進的光刻和蝕刻方法來使其尺寸更小之外。自下而上的方法通常涉及沉積,生長或自組裝技術。納米器件相對于MEMS的優(yōu)勢主要來自縮放定律,這也可能帶來一些挑戰(zhàn)。

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微機電系統(tǒng)(MEMS)?

一些專家認為,納米技術有望:允許我們將每個原子或分子基本上放置在所需的位置和位置即組裝的精確位置控制,b)。允許我們制造幾乎任何可以在原子或分子水平上指定的符合物理定律的結構或材料;和c)。使我們的制造成本不會大大超過制造中所需原材料和能源的成本(即大規(guī)模并行性)。

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盡管有時將MEMS和納米技術稱為獨立和不同的技術,但實際上兩者之間的區(qū)別并不是很明確。實際上,這兩種技術高度依賴。用于檢測納米級單個原子和分子的眾所周知的掃描隧道尖端顯微鏡(STM)是MEMS設備。類似地,用于操縱襯底表面上單個原子和分子的放置和位置的原子力顯微鏡(AFM)也是MEMS器件。實際上,為了與納米級領域相接口,需要各種MEMS技術。

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同樣,許多MEMS技術正變得越來越依賴納米技術來獲得成功的新產(chǎn)品。例如,由于檢測質量和基板之間的動態(tài)使用中粘滯效應,使用MEMS技術制造的安全氣囊加速度計的長期可靠性可能會下降?,F(xiàn)在,通常使用一種稱為自組裝單層(SAM)涂層的納米技術來處理運動中的MEMS元件的表面,以防止在產(chǎn)品的使用壽命內發(fā)生粘連效應。

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許多專家得出的結論是,MEMS和納米技術本質上是一種技術的兩個不同標簽,該技術涵蓋了人眼無法看到的高度微型化的事物。注意,即使最先進的IC技術通常具有尺寸為數(shù)十納米的器件,在集成電路領域中也存在類似的廣義定義,其通常被稱為微電子技術。不管MEMS和納米技術是否相同,毫無疑問,這兩種技術之間存在著壓倒性的相互依存關系,只會隨著時間的推移而增加。也許最重要的是這些技術帶來的共同利益,包括:增強的信息功能;系統(tǒng)小型化;新科學產(chǎn)生的微型尺寸的新材料;并增加了系統(tǒng)的功能和自治性。

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