久久国产亚洲精品超热碰_日本福利在线观看_亚洲AV永久无码5G_女生私密在线一区二区_国产精品视频大全_三级国产亚洲_无码人妻中文二区_岳装睡到我房间和我做_影音先锋精品网址_黄色污污视频网站

歡迎訪問華林科納(江蘇)半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)有限公司官網(wǎng)
手機(jī)網(wǎng)站
始于90年代末

濕法制程整體解決方案提供商

--- 全國服務(wù)熱線 --- 0513-87733829
 
 
 
新聞資訊 新聞中心
400-8798-096
聯(lián)系電話
聯(lián)系我們
掃一掃
QQ客服
SKYPE客服
旺旺客服
新浪微博
分享到豆瓣
推薦產(chǎn)品 / 產(chǎn)品中心
發(fā)布時(shí)間: 2017 - 12 - 06
在LED外延及芯片制造領(lǐng)域,濕法設(shè)備占據(jù)約40%以上的工藝,隨著工藝技術(shù)的不斷發(fā)展,濕法設(shè)備已經(jīng)成為LED外延及芯片制造領(lǐng)域的關(guān)鍵設(shè)備,如SPM酸清洗、有機(jī)清洗、顯影、去膠、ITO蝕刻、BOE蝕刻、PSS高溫側(cè)腐、下蠟、勻膠、甩干、掩膜版清洗等。華林科納(江蘇)CSE深入研究LED生產(chǎn)工藝,現(xiàn)已形成可滿足LED產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目需求的全自動(dòng)濕法工藝標(biāo)準(zhǔn)成套設(shè)備。 LED 芯片的制造工藝流程為:外延片→清洗→鍍透明電極層→透明電極圖形光刻→腐蝕→去膠→平臺(tái)圖形光刻→干法刻蝕→去膠→退火→SiO2 沉積→窗口圖形光刻→SiO2腐蝕→去膠→N極圖形光刻→預(yù)清洗→鍍膜→剝離→退火→P 極圖形光刻→鍍膜→剝離→研磨→切割→芯片→成品測(cè)試。 CSE-外延片清洗機(jī)設(shè)備 設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-外延片清洗機(jī)設(shè)備可處理晶圓尺寸2”-12”可處理晶圓材料硅、砷化鎵、磷化銦、氮化鎵、碳化硅、鈮酸鋰、鉭酸鋰等應(yīng)用領(lǐng)域集成電路、聲表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先進(jìn)封裝等專有技術(shù)系統(tǒng)潔凈性技術(shù)均勻性技術(shù)晶圓片N2干燥技術(shù)模塊化系統(tǒng)集成技術(shù)自動(dòng)傳輸及精確控制技術(shù)溶液溫度、流量和壓力的精確控制技術(shù)主要技術(shù)特點(diǎn)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)緊湊、安全腔體獨(dú)立密封,具有多種功能可實(shí)現(xiàn)晶圓干進(jìn)干出采用工控機(jī)控制,功能強(qiáng)大,操作簡便可根據(jù)用戶要求提供個(gè)性化解決方案設(shè)備制造商華林科納(江蘇)半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 regal-bio.cn 400-8768-096 ;18915583058更多的外延片清洗設(shè)備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(regal-bio.cn),現(xiàn)在熱線咨詢400-8798-096可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體行業(yè)相關(guān)清洗設(shè)備解決方案。
發(fā)布時(shí)間: 2017 - 12 - 06
旋轉(zhuǎn)式噴鍍臺(tái)結(jié)合微組裝工藝對(duì)鍍制工藝的小批量、多規(guī)格和特殊應(yīng)用要求等特點(diǎn),在6" (150mm)晶圓電鍍系統(tǒng)中采用了傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍單元分由兩個(gè)部分組成,一為陰極夾具、旋轉(zhuǎn)單元、導(dǎo)線電刷、N2 保護(hù)單元組成的陰極回轉(zhuǎn)體,二為三角形槽體、陽極和電力線擋板組成的陽極腔。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍結(jié)構(gòu)示意圖如下:從鍍制結(jié)構(gòu)方式、鍍制工藝應(yīng)用分析可以看出,采用傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍有以下幾種優(yōu)勢(shì)。一是這種結(jié)構(gòu)方式易實(shí)現(xiàn)槽體密封和附加N2 保護(hù)功能。二是在這種鍍制工藝中,陰極的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)使槽內(nèi)電場(chǎng)不均問題得以解決,從而提高了鍍制的均勻性。三是呈45°傾斜加陰極旋轉(zhuǎn)的方式,可以較容易的祛除晶圓表面的氣泡附著及“產(chǎn)生”氣泡的消除。四是采用了多微孔進(jìn)行鍍液噴射,實(shí)現(xiàn)攪拌功能,消除局部PH值、溫度、離子濃度等不均勻帶來的影響。五是采用三角形鍍槽設(shè)計(jì)最大限度的減少了鍍液的消耗。六是該鍍制結(jié)構(gòu)方式可以滿足多品種、小批量、低成本的生產(chǎn)需求。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)、工藝優(yōu)勢(shì)斜式三角鍍槽結(jié)構(gòu)本系統(tǒng)采用傾斜式三角形鍍槽結(jié)構(gòu),鍍槽入口溢流口均與三角形斜邊平行,可得到穩(wěn)定且不易積累氣泡的流場(chǎng)環(huán)境。通過進(jìn)行相關(guān)模擬、仿真和驗(yàn)證,鍍液入口采用扇形噴咀式結(jié)構(gòu),可保證鍍液在平行于陰極表面方向上形成均勻而穩(wěn)定的流場(chǎng)。從而通過改變流場(chǎng)的方法改善了鍍層的均勻性。該結(jié)構(gòu)的另一優(yōu)點(diǎn)可使電鍍液的用量減至最少程度。 華林科納(江蘇)CSE采用傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍方法進(jìn)行晶圓電鍍工藝處理,由于結(jié)構(gòu)上的特點(diǎn),該方法經(jīng)實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證具有:①結(jié)構(gòu)簡單;②工藝參數(shù)控制容易;③有利氣泡的消除;④鍍制均勻性得到提高;⑤鍍制溶液用量少。該方法尤其適應(yīng)于小批量、多規(guī)格的電鍍工藝,同時(shí)可以取得較好的鍍制均勻性。圖6為我們所研制的150mm晶圓傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍系統(tǒng),目前已批量生產(chǎn)并在工藝線上得到較好的應(yīng)用,產(chǎn)品已通過技術(shù)定型鑒定和用戶驗(yàn)收。實(shí)現(xiàn)的主要工藝指標(biāo):最...
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 06 - 22
雙腔甩干機(jī)1. 應(yīng)用范圍:l 本機(jī)臺(tái)適用於半導(dǎo)體2”4”6”8”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 設(shè)備為垂直式雙槽體機(jī)臺(tái),可同Run 50片.l 可對(duì)旋乾步驟進(jìn)行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設(shè)備已超過20年以上的應(yīng)用馬達(dá)控制系統(tǒng)設(shè)計(jì), 高穩(wěn)定度Rotor 設(shè)計(jì), 震動(dòng)值均控制於300 um 以下.l 高潔淨(jìng)設(shè)計(jì),微塵控制於每次運(yùn)轉(zhuǎn)增加量, 0.3um , 30顆以下.   2. 操作流程3. 圖示 4. 規(guī)格l 機(jī)臺(tái)內(nèi)皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達(dá): DC無刷馬達(dá)750Wl 真空負(fù)壓軸封設(shè)計(jì),隔離槽外污染l 不銹鋼N2過濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測(cè)保護(hù)(加熱器空燒保護(hù))l 槽外貼Silicon材質(zhì)加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開關(guān)90°C OFF 70°C ON)l  Viton材質(zhì)充氣式氣囊及槽後密封環(huán),保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經(jīng)拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉(zhuǎn)子,並按客戶需求指定使用訂做l 轉(zhuǎn)子經(jīng)拋光及電解研磨,並做動(dòng)態(tài)平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂故障碼功能: 門鎖警告,氣體不足,傳動(dòng)異常警告 5. 電控系統(tǒng)l  控制器操作介面: 7”記憶人機(jī)+ PLC可程式自動(dòng)化控制器(人機(jī) Touch Screen,整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲(chǔ)存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/,皆可從操作螢?zāi)簧闲薷摹?#216; 儲(chǔ)存能力記憶模組...
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 03 - 07
枚葉式清洗機(jī)-華林科納CSE華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-單片枚葉式洗凈裝置的特長:單片式清洗裝置的優(yōu)點(diǎn)(與浸漬.槽式比較)1.晶片表面的微粒數(shù)非常少(到25nm可對(duì)應(yīng))例:附著粒子數(shù)…10個(gè)/W以下(0.08UM以上粒子)(參考)槽式200個(gè)/W2.藥液純水的消費(fèi)量少藥液…(例)1%DHF的情況  20L/日純水...每處理一枚晶片0.5-1L/分3.小裝置size(根據(jù)每個(gè)客戶可以定制) 液體濺射(塵埃強(qiáng)制除去)  (推薦)清洗方法單片式裝置的Particle再附著問題   更多的半導(dǎo)體單片枚葉式濕法腐蝕清洗設(shè)備相關(guān)信息可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(www.hlkncas.com),現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096;18913575037可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體清洗解決方案。
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 03 - 07
自動(dòng)供酸系統(tǒng)(CDS)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-CDS自動(dòng)供酸系統(tǒng) 適用對(duì)象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進(jìn)行配送,經(jīng)管道至設(shè)備;具有自動(dòng)化程度高,配比精確,操作簡便等特點(diǎn);具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩?dòng)控制模式、自動(dòng)控制模式設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-CDS自動(dòng)供酸系統(tǒng)設(shè)備型號(hào)CSE-CDS-N1507設(shè)計(jì)基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房內(nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房;3. 設(shè)備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運(yùn)送到制程使用點(diǎn);5. 過濾器:配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學(xué)液體配有兩臺(tái)或者一臺(tái) PTFE材質(zhì)的進(jìn)口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān);8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測(cè)器與警報(bào)功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能:每種化學(xué)液體配兩個(gè)桶(自動(dòng)切換)、配兩臺(tái)泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動(dòng)化與親和力。在...
發(fā)布時(shí)間: 2018 - 01 - 23
單片清洗機(jī)-華林科納CSESingle wafer cleaner system華林科納(江蘇)CSE-自動(dòng)單片式腐蝕清洗機(jī)應(yīng)用于清洗(包括光刻板清洗)刻蝕 去膠 金屬剝離等;可處理晶圓尺寸2'-12';可處理晶圓材料:硅 砷化鎵 磷化銦 氮化鎵 碳化硅 鈮酸鋰 鉭酸鋰等;主要應(yīng)用領(lǐng)域:集成電路   聲表面波器件  微波毫米波器件  MEMS  先進(jìn)封裝等  設(shè) 備 名 稱CSE-單片清洗機(jī)類  型單片式適 用 領(lǐng) 域半導(dǎo)體、太陽能、液晶、MEMS等清 洗 方 式2英寸——12英寸設(shè)備穩(wěn)定性1、≥0.2um顆粒少于10顆2、金屬附著量:3E10 atoms/ cm²3、純水消耗量:1L/min/片4、蝕刻均一性良好(SiO?氧化膜被稀釋HF處理):≤2%5、干燥時(shí)間:≤20S6、藥液回收率:>95%單片式優(yōu)點(diǎn)1、單片處理時(shí)間短(相較于槽式清洗機(jī))2、節(jié)約成本(藥液循環(huán)利用,消耗量遠(yuǎn)低于槽式)3、良品率高4、有效避免邊緣再附著5、立體層疊式結(jié)構(gòu),占地面積小 更多的單片(枚葉)式清洗相關(guān)設(shè)備可以關(guān)注華林科納(江蘇)半導(dǎo)體官網(wǎng),關(guān)注http://regal-bio.cn ,400-8768-096,18913575037
發(fā)布時(shí)間: 2017 - 12 - 06
氫氟酸HF自動(dòng)供液系統(tǒng)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-氫氟酸供液系統(tǒng) 適用對(duì)象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進(jìn)行配送,經(jīng)管道至設(shè)備;具有自動(dòng)化程度高,配比精確,操作簡便等特點(diǎn);具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩?dòng)控制模式、自動(dòng)控制模式 設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-氫氟酸(HF)供液系統(tǒng)設(shè)備型號(hào)CSE-CDS-N2601設(shè)計(jì)基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房內(nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房;3. 設(shè)備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運(yùn)送到制程使用點(diǎn);5. 過濾器:配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學(xué)液體配有兩臺(tái)或者一臺(tái) PTFE材質(zhì)的進(jìn)口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān);8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測(cè)器與警報(bào)功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能:每種化學(xué)液體配兩個(gè)桶(自動(dòng)切換)、配兩臺(tái)泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動(dòng)化...
新聞中心 新聞資訊

硫酸生產(chǎn)工藝

時(shí)間: 2021-02-26
點(diǎn)擊次數(shù): 115

本項(xiàng)目采用以硫鐵礦為原料的接觸法硫酸生產(chǎn)工藝。它的主要工序包括硫鐵礦的焙燒、

爐氣的凈化、氣體的干燥、二氧化硫的轉(zhuǎn)化和三氧化硫的吸收?;竟に嚵鞒虉D如下:

硫酸生產(chǎn)工藝?

1-沸騰焙燒爐;2-空氣鼓風(fēng)機(jī);3-廢熱鍋爐;4-旋風(fēng)除塵器;5-文氏管;6-泡沫塔;7-

電除霧器;8-干燥塔;9-循環(huán)槽及酸泵;10-酸冷卻器;11-二氧化硫鼓風(fēng)機(jī);12,13,1516-氣體換熱器;14-轉(zhuǎn)化器;17-中間吸收塔;18-最終吸收塔;19-循環(huán)槽及酸泵;20-酸冷卻器經(jīng)過破碎和篩分的硫鐵礦或經(jīng)過干燥的硫鐵礦,送入沸騰焙燒爐l下部的沸騰床內(nèi),與經(jīng)空氣鼓風(fēng)機(jī)2從爐底送人的空氣進(jìn)行焙燒反應(yīng)。生成的二氧化硫爐氣從沸騰爐頂部排出,進(jìn)入廢熱鍋爐3。礦渣則從沸騰床經(jīng)爐下部的排渣口排除。

爐氣在廢熱鍋爐內(nèi)冷卻到約350C,用以生產(chǎn)3.82Mpa、450攝氏度的過熱蒸汽。主要的蒸汽蒸發(fā)管束設(shè)在廢熱鍋爐內(nèi)。裝設(shè)在焙燒爐沸騰床內(nèi)的冷卻管也作為廢熱鍋爐熱力系統(tǒng)的一部分,與鍋爐的汽包連接,用以回收部分焙燒反應(yīng)熱。

從廢熱鍋爐出來的爐氣,還含有相當(dāng)數(shù)量的礦塵,經(jīng)旋風(fēng)除塵器4初步除塵后,進(jìn)入凈

化系統(tǒng)。廢熱鍋爐、旋風(fēng)除塵器除下的礦塵,與沸騰焙燒爐排出的礦渣一起送往堆渣場(chǎng),等待進(jìn)一步處理或出售。凈化系統(tǒng)包括文氏管5、泡沫塔6和電除霧器7。文氏管對(duì)爐氣進(jìn)行除塵和降溫,爐氣經(jīng)文氏管后,其中絕大部分礦塵被除去。泡沫塔對(duì)爐氣進(jìn)一步除塵、降溫。在文氏管和泡沫塔中,爐氣中所含的微量三氧化硫,從硫酸蒸汽形態(tài)轉(zhuǎn)變成酸霧;砷、硒和其他一些金屬的氧化物則成為固態(tài)粒子,從氣相中分離出來;它們一部分與爐氣中殘存的微量礦塵一起被洗滌除去,另一部分隨氣體進(jìn)入電除霧器,在高壓靜電作用下被清除干凈。

通常,控制出凈化系統(tǒng)的爐氣溫度在40C以下,以保證干燥-吸收系統(tǒng)的水平衡。

凈化系統(tǒng)中排出的高含塵的稀酸送入污水處理系統(tǒng),經(jīng)CN過濾器處理后抽回系統(tǒng)循環(huán)使用。

經(jīng)過凈化的氣體,在干燥塔8中被循環(huán)淋灑的濃硫酸干燥。干燥酸的濃度一般維持在93%左右。由于在氣體被濃硫酸干燥的過程中放出大量熱量,所以在干燥塔硫酸循環(huán)系統(tǒng)中設(shè)有酸冷卻器10,用冷卻水把熱量移走,為了減少氣體夾帶硫酸霧沫對(duì)00設(shè)備造成的腐蝕,通常在干燥塔頂部裝設(shè)絲網(wǎng)除沫器。

經(jīng)過干燥的氣體進(jìn)入二氧化硫鼓風(fēng)機(jī)11,提升壓力后,送往轉(zhuǎn)化工序。除送人沸騰焙燒爐的空氣依靠空氣鼓風(fēng)機(jī)克服沸騰床的阻力外,整個(gè)系統(tǒng)的氣體輸送,都依靠這一臺(tái)二氧

化硫鼓風(fēng)機(jī)。

從二氧化硫鼓風(fēng)機(jī)出來的氣體,首先經(jīng)過換熱器1213,依次被從轉(zhuǎn)化器14第三段和第一段出來的三氧化硫氣體加熱,于大約420C的溫度下,進(jìn)入轉(zhuǎn)化器的第一段。氣體中的部分二氧化硫,在釩催化劑的催化作用下,與氣體中的氧進(jìn)行反應(yīng),生成三氧化硫并放出反應(yīng)熱,使反應(yīng)后的氣體溫度升高。為了使未反應(yīng)的那部分二氧化硫進(jìn)一步轉(zhuǎn)化,從第一段出來的氣體在換熱器13內(nèi)進(jìn)行冷卻,然后進(jìn)入第二段。繼續(xù)進(jìn)行二氧化硫的轉(zhuǎn)化反應(yīng)。從第二段出來的氣體,在換熱器15中被冷卻,然后進(jìn)入第三段進(jìn)行轉(zhuǎn)化。從第三段出來的氣體中,絕大部分二氧化硫已經(jīng)轉(zhuǎn)化為三氧化硫。為了達(dá)到更高的最終轉(zhuǎn)化率,使從第三段出來的氣體在換熱器12中被冷卻并在中間吸收塔17內(nèi)用濃硫酸將氣體中的三氧化硫吸收除去。

從中間吸收塔出來的氣體,已基本上不含三氧化硫,只含有少量未轉(zhuǎn)化完全的二氧化硫。為使氣體達(dá)到催化氧化所需要的溫度,氣體通過換熱器1615,依次被從第四段出來的氣體和第二段出來的氣體加熱,然后進(jìn)入轉(zhuǎn)化器的第四段,進(jìn)行二氧化硫的最終轉(zhuǎn)化。經(jīng)過第四段轉(zhuǎn)化,二氧化硫總轉(zhuǎn)化率可達(dá)到99.70以上。從轉(zhuǎn)化器第四段出來的氣體,在換熱器16中被冷卻,然后進(jìn)入最終吸收塔18,將氣體中的三氧化硫全部吸收除去。在一般情況下,從最終吸收塔出來的氣體,可以達(dá)到環(huán)境保護(hù)規(guī)定的排放標(biāo)準(zhǔn),通過煙囪排入大氣。

中間吸收塔和最終吸收塔都設(shè)有酸循環(huán)系統(tǒng),用濃度為98%的硫酸進(jìn)行吸收。在酸循環(huán)系統(tǒng)中,設(shè)有酸冷卻器20,用以排除吸收反應(yīng)熱。為了除去氣體中夾帶的硫酸霧沫,在中間吸收塔和最終吸收塔的頂部通常裝有纖維除霧器。在吸收塔酸循環(huán)系統(tǒng)和干燥塔酸循環(huán)系統(tǒng)之間,設(shè)有串酸管線,不斷向干燥酸循環(huán)系統(tǒng)補(bǔ)充從吸收酸循環(huán)系統(tǒng)來的濃硫酸,使干酸保持規(guī)定的濃度。多余的干燥酸,移人吸收酸循環(huán)系統(tǒng),酸中的水分作為補(bǔ)充水的一部分,用于與三氧化硫反應(yīng)生成硫酸,也可以作為成品出售。為了提供由三氧化硫生成硫酸所需要的水分,須不斷向吸收酸循環(huán)系統(tǒng)中加水。由于三氧化硫不斷被吸收,生成硫酸,所以吸收酸循環(huán)系統(tǒng)的硫酸數(shù)量不斷增加。增加的部分引出生產(chǎn)系統(tǒng),作為成品。


Copyright ©2005 - 2013 華林科納(江蘇)半導(dǎo)體設(shè)備有限公司
犀牛云提供企業(yè)云服務(wù)
華林科納(江蘇)半導(dǎo)體設(shè)備有限公司
地址:中國江蘇南通如皋高新區(qū)桃金東路90號(hào)
電話:0513-87733829
Email:xzl1019@aliyun.com
regal-bio.cn

傳真:0513-87733829
郵編:226500


X
1

QQ設(shè)置

3

SKYPE 設(shè)置

4

阿里旺旺設(shè)置

2

MSN設(shè)置

5

電話號(hào)碼管理

  • 400-8798-096
6

二維碼管理

8

郵箱管理

展開