比如，用于三維IC的TSV刻蝕設(shè)備必須將刻蝕腔清洗步驟設(shè)計(jì)成常規(guī)清洗流程，是設(shè)備能夠在生產(chǎn)和清洗模式之間迅速轉(zhuǎn)換，使得腔室始終保持純凈狀態(tài)，同時(shí)滿足高量產(chǎn)對速度、工藝可預(yù)見性和工藝重復(fù)的要求；這類刻蝕系統(tǒng)還必須具有單臺設(shè)備刻蝕所有材料的工藝處理能力，盡可能減小設(shè)備和設(shè)施的成本，消除工藝轉(zhuǎn)移和排隊(duì)造成的延遲，為客戶在產(chǎn)能和設(shè)備擁有成本方面提供競爭力。另外，由于目前高端IC產(chǎn)品都使用300毫米晶圓，保證晶圓表面工藝處理的均勻性，TSV的刻蝕需要使用平面狀等離子源（Planar Plasma）。

對于刻蝕工藝模式的選擇，業(yè)界目前仍在比較SSP（Steady State Processes）和RAP（Rapid Alternating Processes）技術(shù)。據(jù)了解，RAP刻蝕的選擇性（selectivity）很高，可以刻蝕縱寬比很大通孔，速度也快，但是表面粗糙度是個(gè)挑戰(zhàn)；SSP工藝和常規(guī)的刻蝕接近，速度高而且制作的側(cè)壁光滑，不過Selectivity和Undercut的控制是難點(diǎn)。Steve認(rèn)為，對用戶來說真正滿意的方案是，機(jī)臺能夠根據(jù)應(yīng)用的要求進(jìn)行工藝的選擇和整合，實(shí)現(xiàn)兩種模式的切換，整體控制刻蝕速度、selectivity、側(cè)壁光滑性和縱寬比。當(dāng)然，這需要大量的工藝知識積累，以及對所制造器件的了解。

對量測提出新的要求

可以預(yù)見，TSV的特殊性還會給3D IC制造的檢測和量測帶來前所未有的困難，Rudolph Technologies公司的市場總監(jiān)Rajiv Roy預(yù)測說，即使不考慮TSV的不同工藝整合順序引發(fā)的細(xì)節(jié)問題，硅通孔制造中至少需要在以下三個(gè)方面，通過檢測和測量來進(jìn)行嚴(yán)格的工藝控制，即制作比現(xiàn)有芯片電路內(nèi)連要大許多的高縱寬比的通孔、晶圓減薄以及將晶圓鍵合形成三維疊加。

筆者認(rèn)為，控制TSV通孔工藝需要幾何尺寸的量測，以及對刻蝕間距和工藝帶來的各種缺陷進(jìn)行檢測。通常TSV的直徑在1um到50um，深度在10um到150um，縱寬比在3到5甚至更高，一粒芯片上的通孔大約在幾百甚至上千。而現(xiàn)有晶圓制造中大缺陷檢測（Macro Defect Inspection）的精度要求正好在幾個(gè)微米，同時(shí)也是需要在生產(chǎn)中對整片晶圓進(jìn)行測量。因此，現(xiàn)有的技術(shù)可以應(yīng)對TSV這方面的需求。

減薄和鍵合工藝對檢測和量測的需求更多。厚度和厚度均勻度需要測量，工藝中必須監(jiān)控研磨漿殘留、微粒污染、銅微粒、開裂引起的應(yīng)力、邊緣碎片等。對于鍵合，無論是芯片至晶圓、還是晶圓之間，在精準(zhǔn)的對位的同時(shí)，還需要控制表面粗糙程度、表面潔凈度和平坦度。

另外，一些新的工藝步驟也需要考慮監(jiān)控，比如尺寸在幾十個(gè)微米的bump陣列。Rajiv認(rèn)為，減薄之后的邊緣和背面大缺陷的檢測、銅smearing的檢測技術(shù)是現(xiàn)成的，但是，其他很多用于TSV的檢測和量測方案，目前并不明朗，都在研發(fā)之中。

市場前景

今年，業(yè)界陸續(xù)傳出Lam Research專門用于300mm晶圓TSV的2300 Syndion刻蝕系統(tǒng)和Aviza的Omega i2L TSV蝕刻系統(tǒng)在代工廠使用的消息。據(jù)了解，目前多數(shù)代工制造商或封裝廠客戶還處于設(shè)備靈活性考察階段。在SEMI主辦的刻蝕技術(shù)沙龍上，來自Lam Research、Applied Materials和制造商、研究所的專家認(rèn)為，3D-TSV的三個(gè)市場驅(qū)動力中（性能、小尺寸和降低成本），降低尺寸是目前多數(shù)廠家的短期追求的首要目標(biāo)，不少公司在作試產(chǎn)或已有比較成熟的技術(shù)，希望在短期內(nèi)可以利用TSV提高器件的集成密度。

從中期發(fā)展來看，業(yè)界預(yù)測到2010年市場可以做到將RF、Logic、Memory、Sensor等不同的器件模塊，通過TSV技術(shù)整合在一起。以3D IC的方式，而不是一塊IC上多個(gè)設(shè)計(jì)功能模塊，從整體性能上去繼續(xù)推動Moore定律。這個(gè)趨勢目前在CIS和RF的方面已經(jīng)看到比較好的應(yīng)用趨勢，更進(jìn)一步的應(yīng)用將是DRAM和Flash利用TSV技術(shù)的堆疊，在近一兩年可能會陸續(xù)規(guī)模生產(chǎn)。許多代工廠因此積極開發(fā)這項(xiàng)技術(shù)，為存儲器市場進(jìn)行鋪墊。

然而，對于45nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)之后TSV的的中長期前景，業(yè)界并不完全肯定。顯然，光刻將仍然是最負(fù)挑戰(zhàn)和最昂貴的技術(shù)，器件技術(shù)還會在新架構(gòu)和新材料方面不斷突破。未來三年或者十年，TSV 3D-IC是否能成為主流技術(shù)，整合各種IC模塊，作為下一階段技術(shù)節(jié)點(diǎn)的替代或主要選擇路線，業(yè)界并沒有統(tǒng)一的意見。不過，從代工產(chǎn)業(yè)角度來看，ASE的唐和明認(rèn)為，未來的高端代工產(chǎn)業(yè)，無論是晶圓制造還是封測合同生產(chǎn)，不能配套TSV方案就可能丟單。

文中部分內(nèi)容來自SEMI十月份舉辦的刻蝕技術(shù)沙龍，Lam Research、AMAT等設(shè)備供應(yīng)商以及部分制造商和研究所的專家，討論分享了他們對刻蝕以及3D IC技術(shù)的看法。

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