微納光學(xué)是目前新型光電子產(chǎn)業(yè)的重要發(fā)展方向，在光通信、光互聯(lián)、光存儲、半導(dǎo)體器件等諸多領(lǐng)域，發(fā)揮了巨大的作用。

微納光學(xué)的結(jié)構(gòu)技術(shù)是指通過將微納光學(xué)結(jié)構(gòu)引入到相關(guān)的材料中，制成新型光學(xué)功能器件。微納光學(xué)就是利用微結(jié)構(gòu)材料作為光學(xué)元件的光學(xué)分支。它的結(jié)構(gòu)的設(shè)計和制造是微納光學(xué)技術(shù)發(fā)展的關(guān)鍵性問題，所以微納光學(xué)成為了新型光電子產(chǎn)業(yè)發(fā)展的關(guān)鍵性突破。它的主要優(yōu)點就是能在局域電磁相互作用的基礎(chǔ)上實現(xiàn)許多全新的功能，成為21世紀(jì)國家不可或缺的關(guān)鍵科學(xué)和技術(shù)。

微納光學(xué)現(xiàn)有技術(shù)與特點

微納光學(xué)制造技術(shù)以LIGA工藝為基礎(chǔ)，主要經(jīng)過光刻、電鑄制模和微納米壓印三個主要工藝步驟。

（1）光刻

光刻是半導(dǎo)體技術(shù)中晶圓制造的關(guān)鍵工藝，通過表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕、檢測等一系列生產(chǎn)步驟將晶圓表面薄膜的特定部分除去，在晶圓表面留下帶有微圖形結(jié)構(gòu)的薄膜。這些所有成果都必須建立在一片干凈的晶圓上?？上攵?，半導(dǎo)體清洗設(shè)備就發(fā)揮了非常大的作用。國內(nèi)也是有多家濕法清洗設(shè)備廠商，其中熟知的華林科納就是一家濕制程設(shè)備專業(yè)制造商，主要從事半導(dǎo)體濕制程設(shè)備的設(shè)計、研發(fā)、生產(chǎn)及銷售。目前光刻技術(shù)傳遞圖形的尺寸限度縮小到亞微米級，已從常規(guī)光學(xué)技術(shù)發(fā)展到應(yīng)用電子束、X射線、微離子束、激光等新技術(shù)；成為一種精密的微細(xì)加工技術(shù)。

微納光學(xué)制造技術(shù)采用光刻技術(shù)在激光原版上形成具有微納尺寸的細(xì)微結(jié)構(gòu)，即可展現(xiàn)出各類光學(xué)效果。

(2)?電鑄

電鑄是利用金屬的電解沉積原理來精確復(fù)制某些復(fù)雜或特殊形狀工件的特種加工方法，主要用來精確復(fù)制微細(xì)、復(fù)雜和某些難于用其他方法加工的特殊形狀模具及工件等。以預(yù)先按所需形狀制成的原模作為陰極，用電鑄材料作為陽極，一同放入與陽極材料相同的金屬鹽溶液中，在電解作用下，原模表而逐漸沉積出金屬電鑄層，達(dá)到所需的厚度后從溶液中取出，將電鑄層與原模分離，便獲得與原模形狀相對應(yīng)的金屬復(fù)制件。

微納光學(xué)制造技術(shù)采用電鑄工藝將激光原版復(fù)制成工作版，即制作工業(yè)化生產(chǎn)所需的模具。

（3）微納米壓印

微納光學(xué)產(chǎn)品制造采用微納米壓印技術(shù)。將電鑄制成的金屬模具安裝到微納米壓印設(shè)備上，通過熱壓或者冷壓方式在薄膜材料表而壓制形成微納結(jié)構(gòu)。微納米結(jié)構(gòu)包括淺紋結(jié)構(gòu)和深紋壓印；微納米壓印設(shè)備包括平壓平和卷對卷壓印。卷對卷壓印技術(shù)為微納光學(xué)薄膜提供了高效率、低成本的制造手段。

?微納光學(xué)具有廣泛的應(yīng)用前景。隨著半導(dǎo)體工藝技術(shù)的進步，微米尺度的任意線寬都可以加工出來。說到半導(dǎo)體工藝，清洗設(shè)備更是少不了的。華林科納目前已形成濕槽式清洗、單片刻蝕、干燥甩干系列、供液系統(tǒng)四大系列產(chǎn)品。在這個高速發(fā)展的信息時代，每一個環(huán)節(jié)對于技術(shù)的研發(fā)成功都起到了關(guān)鍵性的作用。

部分摘自微納光學(xué)制造業(yè)技術(shù)特點解析