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始于90年代末

濕法制程整體解決方案提供商

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推薦產(chǎn)品 / 產(chǎn)品中心
發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
在LED外延及芯片制造領域,濕法設備占據(jù)約40%以上的工藝,隨著工藝技術(shù)的不斷發(fā)展,濕法設備已經(jīng)成為LED外延及芯片制造領域的關鍵設備,如SPM酸清洗、有機清洗、顯影、去膠、ITO蝕刻、BOE蝕刻、PSS高溫側(cè)腐、下蠟、勻膠、甩干、掩膜版清洗等。華林科納(江蘇)CSE深入研究LED生產(chǎn)工藝,現(xiàn)已形成可滿足LED產(chǎn)業(yè)化項目需求的全自動濕法工藝標準成套設備。 LED 芯片的制造工藝流程為:外延片→清洗→鍍透明電極層→透明電極圖形光刻→腐蝕→去膠→平臺圖形光刻→干法刻蝕→去膠→退火→SiO2 沉積→窗口圖形光刻→SiO2腐蝕→去膠→N極圖形光刻→預清洗→鍍膜→剝離→退火→P 極圖形光刻→鍍膜→剝離→研磨→切割→芯片→成品測試。 CSE-外延片清洗機設備 設備名稱華林科納(江蘇)CSE-外延片清洗機設備可處理晶圓尺寸2”-12”可處理晶圓材料硅、砷化鎵、磷化銦、氮化鎵、碳化硅、鈮酸鋰、鉭酸鋰等應用領域集成電路、聲表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先進封裝等專有技術(shù)系統(tǒng)潔凈性技術(shù)均勻性技術(shù)晶圓片N2干燥技術(shù)模塊化系統(tǒng)集成技術(shù)自動傳輸及精確控制技術(shù)溶液溫度、流量和壓力的精確控制技術(shù)主要技術(shù)特點系統(tǒng)結(jié)構(gòu)緊湊、安全腔體獨立密封,具有多種功能可實現(xiàn)晶圓干進干出采用工控機控制,功能強大,操作簡便可根據(jù)用戶要求提供個性化解決方案設備制造商華林科納(江蘇)半導體設備有限公司 regal-bio.cn 400-8768-096 ;18915583058更多的外延片清洗設備相關資訊可以關注華林科納CSE官網(wǎng)(regal-bio.cn),現(xiàn)在熱線咨詢400-8798-096可立即獲取免費的半導體行業(yè)相關清洗設備解決方案。
發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
旋轉(zhuǎn)式噴鍍臺結(jié)合微組裝工藝對鍍制工藝的小批量、多規(guī)格和特殊應用要求等特點,在6" (150mm)晶圓電鍍系統(tǒng)中采用了傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍單元分由兩個部分組成,一為陰極夾具、旋轉(zhuǎn)單元、導線電刷、N2 保護單元組成的陰極回轉(zhuǎn)體,二為三角形槽體、陽極和電力線擋板組成的陽極腔。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍結(jié)構(gòu)示意圖如下:從鍍制結(jié)構(gòu)方式、鍍制工藝應用分析可以看出,采用傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍有以下幾種優(yōu)勢。一是這種結(jié)構(gòu)方式易實現(xiàn)槽體密封和附加N2 保護功能。二是在這種鍍制工藝中,陰極的旋轉(zhuǎn)運動使槽內(nèi)電場不均問題得以解決,從而提高了鍍制的均勻性。三是呈45°傾斜加陰極旋轉(zhuǎn)的方式,可以較容易的祛除晶圓表面的氣泡附著及“產(chǎn)生”氣泡的消除。四是采用了多微孔進行鍍液噴射,實現(xiàn)攪拌功能,消除局部PH值、溫度、離子濃度等不均勻帶來的影響。五是采用三角形鍍槽設計最大限度的減少了鍍液的消耗。六是該鍍制結(jié)構(gòu)方式可以滿足多品種、小批量、低成本的生產(chǎn)需求。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)、工藝優(yōu)勢斜式三角鍍槽結(jié)構(gòu)本系統(tǒng)采用傾斜式三角形鍍槽結(jié)構(gòu),鍍槽入口溢流口均與三角形斜邊平行,可得到穩(wěn)定且不易積累氣泡的流場環(huán)境。通過進行相關模擬、仿真和驗證,鍍液入口采用扇形噴咀式結(jié)構(gòu),可保證鍍液在平行于陰極表面方向上形成均勻而穩(wěn)定的流場。從而通過改變流場的方法改善了鍍層的均勻性。該結(jié)構(gòu)的另一優(yōu)點可使電鍍液的用量減至最少程度。 華林科納(江蘇)CSE采用傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍方法進行晶圓電鍍工藝處理,由于結(jié)構(gòu)上的特點,該方法經(jīng)實驗驗證具有:①結(jié)構(gòu)簡單;②工藝參數(shù)控制容易;③有利氣泡的消除;④鍍制均勻性得到提高;⑤鍍制溶液用量少。該方法尤其適應于小批量、多規(guī)格的電鍍工藝,同時可以取得較好的鍍制均勻性。圖6為我們所研制的150mm晶圓傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍系統(tǒng),目前已批量生產(chǎn)并在工藝線上得到較好的應用,產(chǎn)品已通過技術(shù)定型鑒定和用戶驗收。實現(xiàn)的主要工藝指標:最...
發(fā)布時間: 2016 - 06 - 22
雙腔甩干機1. 應用范圍:l 本機臺適用於半導體2”4”6”8”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 設備為垂直式雙槽體機臺,可同Run 50片.l 可對旋乾步驟進行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設備已超過20年以上的應用馬達控制系統(tǒng)設計, 高穩(wěn)定度Rotor 設計, 震動值均控制於300 um 以下.l 高潔淨設計,微塵控制於每次運轉(zhuǎn)增加量, 0.3um , 30顆以下.   2. 操作流程3. 圖示 4. 規(guī)格l 機臺內(nèi)皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達: DC無刷馬達750Wl 真空負壓軸封設計,隔離槽外污染l 不銹鋼N2過濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測保護(加熱器空燒保護)l 槽外貼Silicon材質(zhì)加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開關90°C OFF 70°C ON)l  Viton材質(zhì)充氣式氣囊及槽後密封環(huán),保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經(jīng)拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉(zhuǎn)子,並按客戶需求指定使用訂做l 轉(zhuǎn)子經(jīng)拋光及電解研磨,並做動態(tài)平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂故障碼功能: 門鎖警告,氣體不足,傳動異常警告 5. 電控系統(tǒng)l  控制器操作介面: 7”記憶人機+ PLC可程式自動化控制器(人機 Touch Screen,整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/,皆可從操作螢幕上修改。Ø 儲存能力記憶模組...
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 07
枚葉式清洗機-華林科納CSE華林科納(江蘇)半導體CSE-單片枚葉式洗凈裝置的特長:單片式清洗裝置的優(yōu)點(與浸漬.槽式比較)1.晶片表面的微粒數(shù)非常少(到25nm可對應)例:附著粒子數(shù)…10個/W以下(0.08UM以上粒子)(參考)槽式200個/W2.藥液純水的消費量少藥液…(例)1%DHF的情況  20L/日純水...每處理一枚晶片0.5-1L/分3.小裝置size(根據(jù)每個客戶可以定制) 液體濺射(塵埃強制除去)  (推薦)清洗方法單片式裝置的Particle再附著問題   更多的半導體單片枚葉式濕法腐蝕清洗設備相關信息可以關注華林科納CSE官網(wǎng)(www.hlkncas.com),現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096;18913575037可立即獲取免費的半導體清洗解決方案。
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 07
自動供酸系統(tǒng)(CDS)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導體CSE-CDS自動供酸系統(tǒng) 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送,經(jīng)管道至設備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點;具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩涌刂颇J?、自動控制模式設備名稱華林科納(江蘇)CSE-CDS自動供酸系統(tǒng)設備型號CSE-CDS-N1507設計基準1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設置于化學房內(nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學房;3. 設備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點;5. 過濾器:配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質(zhì)的進口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關;8. 所有化學品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統(tǒng)設備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設備主要功能:每種化學液體配兩個桶(自動切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動化與親和力。在...
發(fā)布時間: 2018 - 01 - 23
單片清洗機-華林科納CSESingle wafer cleaner system華林科納(江蘇)CSE-自動單片式腐蝕清洗機應用于清洗(包括光刻板清洗)刻蝕 去膠 金屬剝離等;可處理晶圓尺寸2'-12';可處理晶圓材料:硅 砷化鎵 磷化銦 氮化鎵 碳化硅 鈮酸鋰 鉭酸鋰等;主要應用領域:集成電路   聲表面波器件  微波毫米波器件  MEMS  先進封裝等  設 備 名 稱CSE-單片清洗機類  型單片式適 用 領 域半導體、太陽能、液晶、MEMS等清 洗 方 式2英寸——12英寸設備穩(wěn)定性1、≥0.2um顆粒少于10顆2、金屬附著量:3E10 atoms/ cm²3、純水消耗量:1L/min/片4、蝕刻均一性良好(SiO?氧化膜被稀釋HF處理):≤2%5、干燥時間:≤20S6、藥液回收率:>95%單片式優(yōu)點1、單片處理時間短(相較于槽式清洗機)2、節(jié)約成本(藥液循環(huán)利用,消耗量遠低于槽式)3、良品率高4、有效避免邊緣再附著5、立體層疊式結(jié)構(gòu),占地面積小 更多的單片(枚葉)式清洗相關設備可以關注華林科納(江蘇)半導體官網(wǎng),關注http://regal-bio.cn ,400-8768-096,18913575037
發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
氫氟酸HF自動供液系統(tǒng)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導體CSE-氫氟酸供液系統(tǒng) 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送,經(jīng)管道至設備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點;具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩涌刂颇J?、自動控制模式 設備名稱華林科納(江蘇)CSE-氫氟酸(HF)供液系統(tǒng)設備型號CSE-CDS-N2601設計基準1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設置于化學房內(nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學房;3. 設備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點;5. 過濾器:配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質(zhì)的進口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關;8. 所有化學品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統(tǒng)設備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設備主要功能:每種化學液體配兩個桶(自動切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動化...
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華林科納CSE硅片有機清洗機?

時間: 2016-03-23
點擊次數(shù): 247

1.png

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?設備概述

華林科納CSE硅片有機清洗機,設備設計由華林科納聘請的從事半導體生產(chǎn)的專家親自指導,采用國際先進的生產(chǎn)加工工藝,在超凈廠房組裝測試,有可靠的質(zhì)量保障。設備由不銹鋼骨架,外包10mm厚瓷白防火PP板,潔凈美觀,耐腐蝕。電控面板置于機臺上方,方便操作,并有防腐蝕保護,具有嚴格的安全防護措置。此設備腐蝕清洗裝置主要是浸泡式清洗腐蝕、清洗主體(槽體部分/管路部分等),抽風系統(tǒng),電控及操作臺等部分組成,腐蝕漂洗能力強,性能穩(wěn)定,安全可靠。適用于4、6、8英寸硅片的清洗處理,腐蝕漂洗能力強,性能穩(wěn)定,安全可靠。

設備結(jié)構(gòu)
??? ※?此設備腐蝕清洗裝置主要由水平通過式腐蝕、清洗主體(槽體部分/管路部分等),抽風系統(tǒng),機械臂,電控及操作臺等部分組成;
??? ※?設備工藝流程:根據(jù)設備所放場地布置要求(與客戶溝通確定),設備左進右出,經(jīng)手動放置上料位→AB清洗槽→AB清洗槽→DI沖水槽→HCL清洗槽→DI溢流槽→下料臺,工藝處理合格后經(jīng)操作人員手動下料;
??? ※?安全門:進口優(yōu)質(zhì)透明PVC活動門(左右、上下推拉式),防止有毒氣體揮發(fā)到室內(nèi),保證設備外部環(huán)境符合勞動保護的相關標準,以保證設備操作人員及其周圍工作人員的身體健康;
?? ?※?提籃設計精巧,槽體間轉(zhuǎn)移時將殘留液體降到最低;
?? ?※?機械臂采用絲杠平穩(wěn)控制方式,提籃不會晃動;
??? ※?提升重量不大于15KG;
??? ※?機械臂的定位精度高;
??? ※?機械手單獨急停開關、系統(tǒng)急停開關和機械手電機自動過載保護等多重保護,確保操作者的安全。
??? ※?機械臂的橫向移動和縱向提升均采用日本進口伺服電機,閉環(huán)控制,定位精度≤1.0mm,?可靠性高;采用圓導軌結(jié)構(gòu)及線性模塊傳動,機械臂升降部及懸臂部均用噴塑及?PP包裹,確保機械臂壽命;


設備主要技術(shù)參數(shù)
??? ※?設備外形尺寸(參考)3200mm(長)?×1500?mm?(寬)?×2000?mm?(高)
??? ※?外殼:德國進口10mm磁白色NPP板
??? ※?骨架:50*25?SUS方管,外包3mmNPP板;
??? ※?排風:位于機臺后部;
??? ※?管路系統(tǒng):位于機臺后方,?DIW管路及構(gòu)件采用進口clean-PVC管材,滿足18MW去離子水水質(zhì)要求;
??? ※?有機械手自動從上料位抓取花籃,自動完成清洗工藝到下料位,手動取出;
??? ※?防漏裝置:具有藥液漏夜在線監(jiān)測裝置;
??? ※?電源(用戶提供):380VAC±10%頻率50HZ±10%;
??? ※?整機額定電功率(參考):?5KW;
?? ?※?電氣性能:E級,并有良好的接地;
?? ?※?DI水:壓力2-3KG/C㎡,流量2m3/hr(max),電阻率18M;
?? ?※?氣源:N2(用戶提供):0.5~0.7Mpa,流量:200L/MIN;;
??? ※?排氣管路:PVDF??Φ150×2??排量30m3/min??負壓150Pa??調(diào)節(jié)風閥?PVDF
??? ※?環(huán)境要求:空氣溫度5—30?℃?;相對濕度:80%


電器控制
??? ※?采用優(yōu)質(zhì)進口日本歐姆龍PLC可編程控制器控制全操作過程,可手動操作,方便工藝操作時間的修改;
??? ※?人機界面為觸摸屏,接口中有手動操作、故障報警、安全保護等功能,各工作位過程完成提前提示報警,觸摸屏選用優(yōu)質(zhì)進口日本歐姆龍產(chǎn)品;
??? ※?觸摸屏加鎖定,以防非授權(quán)人員修改或設定參數(shù);
??? ※?設備照明:設備其它部位--低電壓燈,根據(jù)工作需要可控照明;
??? ※?設備的主機、附件及所有附屬設施應采取設備安全防護措施,具有防止意外斷氣、斷電后,維持工作構(gòu)件正確位置等安全保護措施及裝置;
??? ※?設備整體采取人性化設計,方便操作;并裝有漏電保護和聲光報警提示裝置,保證性能安全可靠;
??? ※?電控部分導線采用耐高溫、耐腐蝕的專用導線,電氣控制部分內(nèi)部還通有壓縮空氣保護,可防水耐腐蝕;
??? ※?設備所有處于腐蝕腔中的線纜均通過PE管進行保護,免受腐蝕;
?? ?※?所有的電控系統(tǒng)均裝有漏電保護器件,并有可靠的接地裝置及緊急關機和報警系統(tǒng);
??? ※?設備具有良好的接地裝置;
??? ※?配有獨立的配電箱,電路方面進行功能分塊,強電、弱電分塊,以便于維護;


安全防護
??? ※?設備照明:設備配有照明燈;
??? ※?設備整體采取人性化設計,方便操作;并裝有漏電、防火保護和設備漏液、故障等聲光報警提示裝置,保證性能安全可靠;
?? ?※?在設備的適當位置裝有急停按鈕,按下時各工位停止工作,以滿足安全需要;
?? ?※?設備所有處于腐蝕腔中的線纜均通過PE管進行保護,免受腐蝕;
??? ※?所有的電控系統(tǒng)均裝有漏電保護器件,并有可靠的接地裝置及緊急關機和報警系統(tǒng);
??? ※?配有獨立的配電箱,電路方面進行功能分塊,強電、弱電分塊,以便于維護;


技術(shù)保障
??? ※?系統(tǒng)結(jié)構(gòu)采用國外典型處理方法,保證系統(tǒng)結(jié)構(gòu)的合理性和適應性;
??? ※?設備禁止在工藝進行時打開安全門,如果安全門打開工藝停止;
??? ※?廢氣處理不達標或排風達不到設定的排風流量時,藥液自動排掉,片子放在DIW水中,防止片子腐蝕過度;
??? ※?設備有故障時,自動停止工藝,等故障排除,工藝重新開始;
??? ※?儲液槽液位過低,系統(tǒng)自動報警,提示補液;
??? ※?藥液槽液位或配比不能滿足工藝要求時,設備報警,并停止工藝,直至達到要求;
??? ※?在設備運行時禁止打開電控柜,防止觸電;
??? ※?結(jié)構(gòu)采用潔凈化處理技術(shù),可達到國外同類產(chǎn)品水平;
??? ※?采用國外進口元器件及專業(yè)廠家產(chǎn)品;
??? ※?國產(chǎn)元器件采用國內(nèi)專業(yè)廠家生產(chǎn)和經(jīng)證實質(zhì)量優(yōu)質(zhì)的高性能元件;
??? ※?華林科納設備的設計、生產(chǎn)、制造均采用ISO9001和軍工質(zhì)量管理體系保證;
??? ※?華林科納設備出廠前都經(jīng)過嚴格的滲漏檢查。
??

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